專利名稱：微粒清除機(jī)臺(tái)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種微粒清除機(jī)臺(tái)，尤其涉及一種用于清除顯示裝置的基板上 的微粒的微粒清除機(jī)臺(tái)。
背景技術(shù)：
隨著平面顯示技術(shù)的進(jìn)步加上平面顯示裝置具有重量輕、體積小及省電等 優(yōu)點(diǎn)，平面顯示裝置已愈來(lái)愈普及。常見(jiàn)的平面顯示裝置有液晶顯示裝置、等
離子顯示裝置(Plasma Display Panel, PDP)、有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置 (Organic Light Emitting Diode Display, OLED Display)以及電泳顯示裝 置(Electrophoretic Display, EPD)等，其中又以液晶顯示裝置的普及率最 高。
目前常見(jiàn)的液晶顯示裝置為薄膜晶體管(Thin Film Transistor, TFT) 液晶顯示裝置，其包括薄膜晶體管液晶顯示面板(TFT-LCD Panel)與背光模 塊，其中背光模塊是用以提供面光源至液晶顯示面板。此外，薄膜晶體管液晶 顯示面板包括薄膜晶體管陣列基板、彩色濾光基板以及配置于此薄膜晶體管陣 列基板與彩色濾光基板之間的液晶層。
承上述，薄膜晶體管陣列基板與彩色濾光基板的制造方法都包括多道工藝 程序，若薄膜晶體管陣列基板與彩色濾光基板遭受大顆微粒(粒徑約5um以上) 污染，則容易導(dǎo)致薄膜晶體管液晶顯示面板產(chǎn)生缺陷甚至損壞。如此，將降低 薄膜晶體管液晶顯示面板的生產(chǎn)良率。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種微粒清除機(jī)臺(tái)，以提高顯示面板的 生產(chǎn)良率。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提出一種微粒清除機(jī)臺(tái)，其適于清除顯示面板的 基板上的多個(gè)微粒。此微粒清除機(jī)臺(tái)包括基座、檢測(cè)模塊以及微粒清除模塊。
檢測(cè)模塊是配置于基座。檢測(cè)模塊是用以檢測(cè)基板上的微粒的高度。微粒清除 模塊是配置于基座以及相對(duì)應(yīng)于該檢測(cè)模塊設(shè)置。微粒清除模塊包括驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu) 以及清除件，其中清除件是連接驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)適于調(diào)整清除件至一預(yù)定 高度，并驅(qū)使清除件移動(dòng)，以刮削基板上的微粒。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的微粒清除機(jī)臺(tái)還包括移動(dòng)平臺(tái)與架體。此 移動(dòng)平臺(tái)位于檢測(cè)模塊以及微粒清除模塊的下方,是用以承載基板，并移動(dòng)基 板，以使基板上的微粒其中之一位于清除件下方。驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)適于調(diào)整清除件至 預(yù)定高度，并驅(qū)使清除件移動(dòng)，以刮削位于清除件下方的微粒。架體連接基座 與移動(dòng)平臺(tái)，用以支撐基座于移動(dòng)平臺(tái)之上。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的清除件呈棒狀。 在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的清除件的自由端呈針狀。 在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的清除件的自由端呈刀片狀。 在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的清除件的自由端呈劍尖狀。 在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的清除件的自由端呈扁平狀。 在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的清除件的材質(zhì)包括鐵、鋼、鉤金或不銹鋼。 在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)適于驅(qū)使清除件沿第一軸及/或 第二軸移動(dòng)，而第一軸實(shí)質(zhì)上垂直于第二軸。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)適于驅(qū)使清除件沿一圓形軌跡移動(dòng)。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)適于驅(qū)使清除件沿一橢圓形軌跡 移動(dòng)。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)更適于驅(qū)使清除件轉(zhuǎn)動(dòng)。 在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括機(jī)械手臂以及馬達(dá)。馬達(dá)連
接機(jī)械手臂，而清除件是連接于馬達(dá)。機(jī)械手臂適于使馬達(dá)及連接于馬達(dá)的清
除件移動(dòng)，而馬達(dá)適于使清除件轉(zhuǎn)動(dòng)。
本發(fā)明的微粒清除機(jī)臺(tái)因通過(guò)驅(qū)使清除件移動(dòng)來(lái)刮削基板上的微粒，所以
能使基板上的微粒變小，甚至將部分微粒完全清除。如此，可提升顯示面板的
生產(chǎn)良率。
為讓本發(fā)明的上述和其它目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉較佳 實(shí)施例，并配合所附圖式，作詳細(xì)說(shuō)明如下。


圖1是本發(fā)明一實(shí)施例的一種微粒清除機(jī)臺(tái)的示意圖； 圖2是圖1中驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與清除件的立體示意圖3是本發(fā)明一實(shí)施例中基板上的微粒清除前與清除后的示意圖； 圖4是本發(fā)明另三實(shí)施例的清除件的示意圖。 其中，附圖標(biāo)記 50:基板 52:微粒 52':殘留微粒 100:微粒清除機(jī)臺(tái) 110:基座 120:檢測(cè)模塊 130:微粒清除模塊 132:驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu) 133:機(jī)械手臂
134、 134a、 134b、 134c:清除件 135:馬達(dá)
137、 137a、 137b、 137c:自由端 140:移動(dòng)平臺(tái)
150:架體
具體實(shí)施例方式
圖1是本發(fā)明一實(shí)施例所一種微粒清除機(jī)臺(tái)的示意圖，而圖2是圖1中驅(qū) 動(dòng)機(jī)構(gòu)與清除件的立體示意圖。請(qǐng)參照?qǐng)D1與圖2，基板50例如是顯示面板 的基板。顯示面板例如是液晶顯示面板，但不以此為限。此外，在顯示面板為 液晶顯示面板的實(shí)施例中，基板50可以是液晶顯示面板的二基板其中之一。 具體而言，基板50可以是主動(dòng)組件陣列基板或?qū)ο蚧濉?br> 以下將詳細(xì)介紹上述所微粒清除機(jī)臺(tái)100。本發(fā)明一實(shí)施例所微粒清除機(jī) 臺(tái)100適于清除顯示面板所基板50上的多個(gè)微粒52。此微粒清除機(jī)臺(tái)100包
括基座110、檢測(cè)模塊120以及微粒清除模塊130。檢測(cè)模塊120是配置于基 座110，且位于基板50上方。檢測(cè)模塊120例如是激光檢測(cè)模塊，其用以檢 測(cè)基板50上的微粒52的高度。換句話說(shuō)，檢測(cè)模塊120是用以檢測(cè)微粒52 與檢測(cè)模塊120之間的距離，以判斷微粒52的粒徑。若微粒的粒徑過(guò)大(如 粒徑大于5微米)，則通過(guò)微粒清除模塊130來(lái)刮削粒徑過(guò)大的微粒52，以 使微粒52的粒徑變小至2微米以下。
承上述，微粒清除模塊130是配置于基座110以及相對(duì)應(yīng)于該檢測(cè)模塊設(shè) 置，且位于基板50上方。微粒清除模塊130包括驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)132以及清除件134， 其中清除件134是連接驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)132。清除件134例如是呈棒狀，且清除件134 的自由端137例如是呈針狀。清除件134的材質(zhì)可以是鐵、鋼、鎢金或不銹鋼。 此外，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)132適于調(diào)整清除件134至一預(yù)定高度，并驅(qū)使清除件134 移動(dòng)，以刮削基板50上的粒徑過(guò)大的微粒52。上述的預(yù)定高度是指清除件134 可以刮削到微粒52的高度。此外，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)132在驅(qū)使清除件134移動(dòng)時(shí)， 更可同時(shí)驅(qū)使清除件134轉(zhuǎn)動(dòng)，如此可使清除件134更易于刮削基板50上的 微粒52。
在本實(shí)施例中，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)132例如包括機(jī)械手臂133以及馬達(dá)135。馬達(dá) 135連接機(jī)械手臂133，而清除件134是連接于馬達(dá)135。機(jī)械手臂133適于 使馬達(dá)135以及連接于馬達(dá)135的清除件134移動(dòng)，而馬達(dá)135適于使清除件 134轉(zhuǎn)動(dòng)。此外，微粒清除機(jī)臺(tái)100可更包括移動(dòng)平臺(tái)140。此移動(dòng)平臺(tái)140 位于檢測(cè)模塊120以及微粒清除模塊130的下方(如圖1所示)，是用以承載基 板50以及移動(dòng)基板50，以使基板50上的其中一微粒52位于清除件134下方。 另夕卜，微粒清除機(jī)臺(tái)100更進(jìn)一步包括架體150，此架體150連接基座110與 移動(dòng)平臺(tái)140并用以支撐基座IIO于移動(dòng)平臺(tái)140之上。
圖3是本發(fā)明一實(shí)施例中基板上的微粒清除前與清除后的示意圖，其中圖 3左邊的圖式是微粒52被清除件134刮削前的示意圖，圖3右邊的圖式是微 粒52被清除件134刮削后的示意圖。請(qǐng)參照?qǐng)D1與圖3，微粒清除機(jī)臺(tái)100 的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)130適于驅(qū)使清除件134沿第一軸(如X軸)來(lái)回移動(dòng)，以刮削基 板50上的微粒52。被清除件134刮削后的殘留微粒52'的粒徑會(huì)小于被清除 件134刮削前的微粒52(其殘留微粒52'的粒徑至2微米以下)，如此可避免 過(guò)大的微粒52對(duì)顯示面板產(chǎn)生不良的影響，進(jìn)而提升顯示面板的生產(chǎn)良率。
此外，清除件134也可將部分未固著于基板50上的微粒52推離基板50，以 將未固著于基板50上的微粒52從基板50上清除。
在本發(fā)明的其它實(shí)施例中，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)130也可驅(qū)使清除件134沿第二軸(如 Y軸)來(lái)回移動(dòng)，以刮削基板50上的微粒52。此外，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)130也可驅(qū)使 清除件134沿圓形軌跡或橢圓形軌跡移動(dòng)，以刮削基板50上的微粒52。此外， 雖然本實(shí)施例的微粒清除機(jī)臺(tái)100是通過(guò)移動(dòng)平臺(tái)140來(lái)移動(dòng)基板50，以使 基板50上的微粒52位于清除件134的下方，但在其它實(shí)施例中，基板50也 可放置于一固定平臺(tái)上，并通過(guò)移動(dòng)微粒清除模塊130來(lái)刮削基板50上的微 粒52。
另外，本發(fā)明并不限定清除^^134的自由端137需呈針狀，以下將另舉數(shù) 種不同形狀的清除件，但其并非用以限定本發(fā)明。圖4是本發(fā)明另三實(shí)施例的 清除件的示意圖。請(qǐng)參照?qǐng)D4，上述的微粒清除機(jī)臺(tái)100的清除件134可更換 為清除件134a、清除件134b或清除件134c。清除件134a是呈棒狀，且清除 件134a的自由端137a是呈刀片狀。清除件134b是呈棒狀，且清除件134b 的自由端137b是呈劍尖狀。清除件134c是呈棒狀，且清除件134c的自由端 137c是呈扁平狀。
綜上所述，本發(fā)明的微粒清除機(jī)臺(tái)因通過(guò)驅(qū)使清除件移動(dòng)來(lái)刮削基板上的 微粒，所以能使基板上的微粒的粒徑在2微米以下)，甚至將部分微粒完全清 除。如此，可避免殘留于基板上的微粒對(duì)顯示面板產(chǎn)生不良的影響，所以本發(fā) 明的微粒清除機(jī)臺(tái)可提升顯示面板的生產(chǎn)良率。
當(dāng)然，本發(fā)明還可有其它多種實(shí)施例，在不背離本發(fā)明精神及其實(shí)質(zhì)的情 況下，熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員當(dāng)可根據(jù)本發(fā)明作出各種相應(yīng)的改變和變形，但 這些相應(yīng)的改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明所附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1．一種微粒清除機(jī)臺(tái)，適于清除一顯示面板的一基板上的多個(gè)微粒，其特征在于，該微粒清除機(jī)臺(tái)包括一基座；一檢測(cè)模塊，配置于該基座，該檢測(cè)模塊是用以檢測(cè)該基板上的該些微粒的高度；一微粒清除模塊，配置于該基座以及相對(duì)應(yīng)于該檢測(cè)模塊設(shè)置，該微粒清除模塊包括 一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；以及 一清除件，連接該驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，該驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)適于調(diào)整該清除件至一預(yù)定高度，并驅(qū)使該清除件移動(dòng)，以刮削該基板上的該些微粒。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的微粒清除^l臺(tái)，其特征在于，還包括 一移動(dòng)平臺(tái)，位于該檢測(cè)模塊以及該微粒清除模塊的下方，用以承載該基板并移動(dòng)該基板，以使該基板上的該些微粒其中之一位于該清除件下方，而該 驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)適于調(diào)整該清除件至該預(yù)定高度，并驅(qū)使該清除件移動(dòng)，以刮削位于 該清除件下方的該微粒；以及一架體，連接該基座與該移動(dòng)平臺(tái)，用以支撐該基座于該移動(dòng)平臺(tái)之上。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的微粒清除機(jī)臺(tái)，其特征在于，該清除件呈棒狀。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的微粒清除機(jī)臺(tái)，其特征在于，該清除件的一自由 端呈針狀。
5. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的微粒清除機(jī)臺(tái)，其特征在于，該清除件的一自由 端呈刀片狀。
6. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的微粒清除機(jī)臺(tái)，其特征在于，該清除件的一自由 端呈劍尖狀。
7. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的微粒清除機(jī)臺(tái)，其特征在于，該清除件的一自由 端呈扁平狀。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的微粒清除機(jī)臺(tái)，其特征在于，該清除件的材質(zhì)包 括鐵、鋼、鉤金或不銹鋼。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的微粒清除機(jī)臺(tái)，其特征在于，該驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)適于驅(qū) 使該清除件沿一第一軸及/或一第二軸移動(dòng)，而該第一軸垂直于該第二軸。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的微粒清除機(jī)臺(tái)，其特征在于，該驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)適于驅(qū)使該清除件沿一圓形軌跡移動(dòng)。
11. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的微粒清除機(jī)臺(tái)，其特征在于，該驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)適于 驅(qū)使該清除件沿一橢圓形軌跡移動(dòng)。
12. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的微粒清除機(jī)臺(tái)，其特征在于，該驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)適于 驅(qū)使該清除件轉(zhuǎn)動(dòng)。
13. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的微粒清除機(jī)臺(tái)，其特征在于，該驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括: 一機(jī)械手臂；以及一馬達(dá)，連接該機(jī)械手臂，而該清除件是連接于該馬達(dá)，其中該機(jī)械手臂 適于使該馬達(dá)及連接于該馬達(dá)的該清除件移動(dòng)，該馬達(dá)適于使該清除件轉(zhuǎn)動(dòng)。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種微粒清除機(jī)臺(tái)，適于清除顯示面板的基板上的多個(gè)微粒。此微粒清除機(jī)臺(tái)包括基座、檢測(cè)模塊以及微粒清除模塊。檢測(cè)模塊是配置于基座，且用以檢測(cè)基板上的微粒的高度。微粒清除模塊是配置于基座，且相對(duì)應(yīng)于檢測(cè)模塊設(shè)置。微粒清除模塊包括驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)以及清除件，其中清除件是連接驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)適于調(diào)整清除件至一預(yù)定高度，并驅(qū)使清除件移動(dòng)，以刮削基板上的微粒。
文檔編號(hào)G02F1/13GK101363988SQ20081016712
公開(kāi)日2009年2月11日 申請(qǐng)日期2008年9月27日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月27日
發(fā)明者史瑞斌, 李錫閎 申請(qǐng)人:友達(dá)光電股份有限公司