透鏡陣列、行頭、以及使用它們的圖像形成裝置的制作方法

文檔序號：2808609閱讀：204來源：國知局

專利名稱：透鏡陣列、行頭、以及使用它們的圖像形成裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于行頭的透鏡陣列、對潛像承載體的被掃描面掃描光的行頭、以及圖像形成裝置。
背景技術(shù)：
行頭被用作作為圖像形成裝置的電子照相式打印機的光源，所述行頭對作為潛像承載體的感光體的被掃描面掃描光而形成潛像。
作為行頭的LED (Light Emitting Diode，發(fā)光二極管)打印頭，例如專利文獻1所記載的那樣提出了使用發(fā)光元件組(該專利文獻1中的 "LED陣列芯片")的打印頭，所述發(fā)光元件組是排列多個作為發(fā)光元件的LED而構(gòu)成的。在專利文獻1中，通過一個成像透鏡使多個發(fā)點像成像在感光體上。
公知有以下作為與LED陣列芯片對應的成像透鏡的微透鏡陣列的制造方法通過光刻和電鑄來形成模具，使用光硬化性樹脂在玻璃基板上形成透鏡(參照專利文獻2)。
另外，公知有在玻璃基板的兩個面上形成微透鏡陣列的方法(專利文獻3) <=
專利文獻1:日本專利文獻特開平2—4546號公報(4頁 5頁，圖
1);
專利文獻2:日本專利文獻特開2005—276849號公報(7頁 8頁，圖8);
專利文獻3:日本專利文獻特開平6_208006號公報(3頁 4頁，圖1)。

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所要解決的問題
在行頭中，將主掃描方向作為長度方向來排列發(fā)光元件組。為了與發(fā) 光元件組對應，需要長的微透鏡陣列。為了成形長的微透鏡陣列而需要長的模具，但是難以高精度地制造出具有與多個成像透鏡對應的孔的長的模
具。特別是當透鏡面形狀為非球面時，模具加工法通常借助于使用自由曲面加工機械的機械加工。在該情況下，只能一個一個地加工出透鏡面，因而需要大量的加工時間。另外，在加工中途需要更換切削或磨削工具，在更換時透鏡的相對位置精度也會產(chǎn)生大的偏差。
本發(fā)明的目的在于至少部分地解決上述問題。
用于解決問題的手段
本發(fā)明的透鏡陣列的特征在于，包括支承部件；以及由支承部件支承的多個透鏡基板；在透鏡基板上沿第一方向配置有多個透鏡，多個透鏡基板沿第一方向配置并由支承部件支承。
另外，本發(fā)明的行頭的第一方式的特征在于，包括頭基板，具有將多個發(fā)光元件群組化而形成的發(fā)光元件組；以及透鏡陣列，針對每個發(fā)光元件組而配置有透鏡；透鏡陣列包括支承部件；以及由支承部件支承的多個透鏡基板；在透鏡基板上沿第一方向配置有多個透鏡，多個透鏡基板沿第一方向配置并由支承部件支承。
另外，本發(fā)明的行頭的第二方式的特征在于，包括頭基板，具有將多個發(fā)光元件群組化而形成的發(fā)光元件組；透鏡陣列，針對每個發(fā)光元件組而配置有透鏡；以及遮光部件，設(shè)置有導光孔，導光孔配置在透鏡陣列與頭基板之間，從發(fā)光元件組朝向透鏡；透鏡陣列沿第一方向配置有多個透鏡基板，在透鏡基板上沿第一方向配置有多個透鏡，沿第一方向配置的多個透鏡基板由遮光部件支承。
另外，本發(fā)明的圖像形成裝置的第一方式的特征在于，包括潛像承載體；頭基板，具有將多個發(fā)光元件群組化而形成的發(fā)光元件組；以及透鏡陣列，針對每個發(fā)光元件組而配置有透鏡；使用透鏡使來自發(fā)光元件的光成像，在潛像承載體的表面上形成點，透鏡陣列包括支承部件；以及由支承部件支承的多個透鏡基板；在透鏡基板上沿第一方向配置有多個透
鏡，多個透鏡基板沿第一方向配置并由支承部件支承。
另外，本發(fā)明的圖像形成裝置的第二方式的特征在于，潛像承載體；頭基板，具有將多個發(fā)光元件群組化而形成的發(fā)光元件組；透鏡陣列，針對每個發(fā)光元件組而配置有透鏡；以及遮光部件，設(shè)置有導光孔，導光孔配置在透鏡陣列與頭基板之間，從發(fā)光元件組朝向透鏡；使用透鏡使來自發(fā)光元件的光成像，在潛像承載體的表面上形成點，透鏡陣列沿第一方向配置有多個透鏡基板，在透鏡基板上沿第一方向配置有多個透鏡，沿第一方向配置的多個透鏡基板由遮光部件支承。
在如上構(gòu)成的發(fā)明(透鏡陣列、行頭、圖像形成裝置)中，由于通過多個透鏡基板來構(gòu)成透鏡陣列，因此可以減小透鏡基板。因此，可以通過比較小的透鏡基板成形用的模具來制造透鏡基板。S卩，可以使用精度比較高的模具來制造透鏡基板，因此可以得到提高了透鏡的相對位置精度的透鏡陣列，還可以降低制造成本。
另外，也可以采用如下構(gòu)成，即支承部件為透明基板，在透明基板的至少一個面上沿第一方向排列配置有多個透鏡基板。此時，也可以采用如下構(gòu)成，即在透明基板的兩個面上分別排列有多個透鏡基板。通過這樣來構(gòu)成，可以簡單地構(gòu)成在第一方向上長的透鏡陣列。
另外，透明基板也可以由玻璃基板構(gòu)成。由于玻璃基板的線膨脹率比較小，因此通過這樣來構(gòu)成，可以抑制透明基板的溫度變化。
另外，也可以采用如下構(gòu)成，S卩在透鏡基板上，沿與第一方向不同的排列方向排列有多個透鏡而構(gòu)成透鏡列，多個透鏡列沿第一方向排列。通過這樣來構(gòu)成，可以在透鏡陣列中二維地配置多個透鏡。
此時，排列方向也可以相對于與第一方向正交的第二方向傾斜?；?者，排列方向也可以與跟第一方向正交的第二方向平行或近似平行。
另外，也可以采用如下構(gòu)成，即透鏡基板的第一方向上的端部與排列方向平行或近似平行。在這樣的構(gòu)成中，通過在第一方向上排列多個透鏡基板，可以簡單地得到二維地配置有多個透鏡的透鏡陣列。
另外，也可以采用如下構(gòu)成，即透鏡基板和支承部件具有相同或大致相同的線膨脹率。通過這樣來構(gòu)成，可以得到由溫度變化引起的變形小的透鏡陣列。此時，也可以在第一方向上使相鄰的兩個透鏡基板相互抵接而排列。
另外，也可以采用如下構(gòu)成，即沿第一方向配置的多個透鏡基板在第一方向上相互隔開間隔而排列。在這樣構(gòu)成的情況下，可以通過間隔來吸收由透鏡基板的熱膨脹率與透明基板的熱膨脹率的差引起的、伴隨著溫度變化而產(chǎn)生的變形，從而可以得到不管溫度如何變化透鏡的相對位置精度均得以提高的透鏡陣列。
另外，也可以采用如下構(gòu)成，S卩沿第一方向配置的多個透鏡基板在第一方向上相互隔開間隔而排列，在透明基板的兩個面上形成的多個間隔在第一方向上相互錯開。在這樣的構(gòu)成中，由間隔產(chǎn)生的對位置精度的影響由于間隔的位置在透明基板的兩個面之間錯開而分散。因此，可以得到透鏡的相對位置精度更高的透鏡陣列。
另外，也可以在間隔中填充光吸收材料。
另外，透鏡基板也可以通過粘接劑粘接在支承部件上。此時，粘接劑可以為熱固化粘接劑，或者也可以為紫外線固化粘接劑。當使用紫外線固化粘接劑時，可以在對支承部件和透鏡基板進行了對位的狀態(tài)下照射紫外線來粘接支承部件和透鏡基板。
另外，本發(fā)明是為了至少部分地解決上述問題而完成的，可以作為以下方式或應用例而實現(xiàn)。應用例1
一種微透鏡基板，其特征在于，包括配置有多個成像透鏡的透鏡基板和配置有多個所述透鏡基板的基座基板，彼此相鄰的所述透鏡基板隔開間隔而配置在所述基座基板上。
根據(jù)該應用例，由于通過分割的透鏡基板來構(gòu)成微透鏡陣列，因而可以使透鏡基板變小。因此，成像透鏡成形用的模具也會變小，制造成本降低，并且可以得到提高了透鏡的相對位置精度的微透鏡陣列。另外，通過彼此相鄰的透鏡基板之間的間隔，可以吸收由透鏡基板的熱膨脹率引起的變形，從而可以得到即使溫度產(chǎn)生了變化也能夠保持透鏡的相對位置精度的微透鏡陣列。
應用例2
一種上述微透鏡陣列，其特征在于，多個所述透鏡基板配置在所述基座基板的兩個面上。
在該應用例中，由于配置在基座基板的兩個面上的多個透鏡基板可以以基座基板為基準而配置，因而可以提高各透鏡基板之間的位置精度。因此，可以得到提高了透鏡的相對位置精度的微透鏡陣列。
應用例3
一種上述微透鏡陣列，其特征在于，所述間隔相對于所述基座基板的位置在所述兩個面之間錯開。
在該應用例中，由透鏡基板之間的間隔產(chǎn)生的對位置精度的影響由于間隔的位置在透明基板的兩個面之間錯開而分散。因此，可以得到透鏡的相對位置精度更高的微透鏡陣列。
應用例4
一種行頭，其特征在于，包括基板；多個發(fā)光元件組，具有多個發(fā) 光元件并排列配置在所述基板上；微透鏡陣列；以及遮光部件，位于所述基板與所述微透鏡陣列之間。所述微透鏡陣列包括多個成像透鏡，與所述發(fā)光元件組一對一地相對配置，并分別將從屬于相對的所述發(fā)光元件組的多個所述發(fā)光元件射出的光成像在被掃描面上；透鏡基板，配置有多個所述成像透鏡；以及基座基板，配置有多個所述透鏡基板；彼此相鄰的所述透鏡基板隔開間隔而配置在所述基座基板上。
根據(jù)該應用例，可以得到具有上述效果的行頭。應用例5
一種上述行頭，其特征在于，多個所述透鏡基板配置在所述基座基板的兩個面上。
在該應用例中，可以得到具有上述效果的行頭。應用例6
一種上述行頭，其特征在于，所述間隔相對于所述基座基板的位置在所述兩個面之間錯開。
在該應用例中，可以得到具有上述效果的行頭。
應用例7
一種上述行頭，其特征在于，所述遮光部件兼用作所述基座基板。在該應用例中，可以得到具有上述效果的行頭。應用例8
一種圖像形成裝置，其特征在于，包括潛像承載體，其表面被沿副掃描方向運送；以及曝光單元，將所述潛像承載體的表面作為被掃描面，在該潛像承載體的表面上形成點，并具有與上述任一行頭相同的構(gòu)成。
根據(jù)該應用例，可以得到具有上述效果的圖像形成裝置。

圖1是示意性地表示第一實施方式的圖像形成裝置的一部分的圖2是一次轉(zhuǎn)印單元的簡要的放大圖3是行頭的簡要的立體圖4是行頭的副掃描方向的截面圖5是微透鏡陣列的簡要的部分立體圖6是微透鏡陣列的主掃描方向的部分截面圖7是表示多個發(fā)光元件組的配置的圖8是表示由行頭進行的點(Spot)形成動作的圖9是第二實施方式的微透鏡陣列和遮光部件附近的部分截面圖IO是第三實施方式的微透鏡陣列的部分截面圖ll是第四實施方式的微透鏡陣列的平面圖12是圖ll所示的微透鏡陣列的主掃描方向的部分截面圖13是第五實施方式的微透鏡陣列的平面圖14是簡要地表示第六實施方式的行頭的立體圖15是圖14所示的行頭的寬度方向的部分截面圖16表示第六實施方式的微透鏡陣列的構(gòu)成的部分截面圖17是第七實施方式的微透鏡陣列的平面圖18是變形例的行頭的簡要的立體圖。
具體實施例方式
下面，根據(jù)附圖來說明實施方式。 (第一實施方式)
圖1是示意性地表示本實施方式的圖像形成裝置1的一部分的圖。圖像形成裝置1是利用使調(diào)色劑粒子分散在液體載體中而形成的液體顯影劑來形成圖像的裝置。對于進行旋轉(zhuǎn)的部件，用實線箭頭表示出了旋轉(zhuǎn)方向。
在圖1中，圖像形成裝置1包括環(huán)形的中間轉(zhuǎn)印帶10，該中間轉(zhuǎn)印帶10為中間轉(zhuǎn)印介質(zhì)；驅(qū)動輥11和從動輥12，用于架設(shè)中間轉(zhuǎn)印帶 10; 二次轉(zhuǎn)印裝置14;中間轉(zhuǎn)印帶清潔裝置15;以及一次轉(zhuǎn)印單元。在中間轉(zhuǎn)印帶10的驅(qū)動輥11 一側(cè)設(shè)置有二次轉(zhuǎn)印裝置14，另外在中間轉(zhuǎn)印
帶IO的從動輥12—側(cè)設(shè)置有中間轉(zhuǎn)印帶清潔裝置15。
一次轉(zhuǎn)印單元包括分別與黃色(Y)、品紅色(M)、青色(C)、以及黑色(K)對應的一次轉(zhuǎn)印單元50Y、一次轉(zhuǎn)印單元50M、一次轉(zhuǎn)印單元50C、以及一次轉(zhuǎn)印單元50K。以下，關(guān)于與各種顏色對應的裝置、部件等，對裝置、部件等的標號分別添加表示各種顏色的Y、 M、 C、 K。
另外，雖然沒有圖示，但是圖像形成裝置1與進行二次轉(zhuǎn)印的現(xiàn)有的普通圖像形成裝置同樣地包括轉(zhuǎn)印材料容納裝置，在比二次轉(zhuǎn)印裝置14 靠近轉(zhuǎn)印材料的運送方向上游一側(cè)的位置處容納例如紙等轉(zhuǎn)印材料；輥對，將來自該轉(zhuǎn)印材料容納裝置的轉(zhuǎn)印材料向二次轉(zhuǎn)印裝置14運送供應。在圖1中，用虛線箭頭表示轉(zhuǎn)印材料的運送方向。另外，該圖像形成裝置1還在比二次轉(zhuǎn)印裝置14靠近轉(zhuǎn)印材料的運送方向下游一側(cè)的位置處具有定影裝置和排紙盤。
在圖1中，中間轉(zhuǎn)印帶10架設(shè)在彼此間隔開而設(shè)置的一對驅(qū)動輥11 和從動輥12上，并可以向逆時針方向旋轉(zhuǎn)。就提高對紙等轉(zhuǎn)印材料的二次轉(zhuǎn)印的轉(zhuǎn)印效率而言，該中間轉(zhuǎn)印帶IO優(yōu)選為彈性中間轉(zhuǎn)印帶。
另外，在圖像形成裝置l中，各一次轉(zhuǎn)印單元50Y、 50M、 50C、 50K 從中間轉(zhuǎn)印帶10的旋轉(zhuǎn)方向上游一側(cè)按照顏色Y、 M、 C、 K的順序設(shè) 置，但是可以任意地設(shè)定顏色Y、 M、 C、 K的配置順序。另外，中間轉(zhuǎn)
印帶IO也可以由中間轉(zhuǎn)印鼓構(gòu)成。
二次轉(zhuǎn)印裝置14具有二次轉(zhuǎn)印輥43。該二次轉(zhuǎn)印輥43使紙等轉(zhuǎn)印材料與架設(shè)在驅(qū)動輥11上的中間轉(zhuǎn)印帶IO抵接，將中間轉(zhuǎn)印帶IO上的各種顏色的調(diào)色劑像重合而成的彩色的調(diào)色劑像轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印材料上。在該情況下，驅(qū)動輥ll也作為二次轉(zhuǎn)印時的支承輥發(fā)揮作用。
另外，二次轉(zhuǎn)印裝置14包括二次轉(zhuǎn)印輥清潔器46和二次轉(zhuǎn)印輥清潔回收液貯存容器47。二次轉(zhuǎn)印輥清潔器46由橡膠等彈性體構(gòu)成。并且，該二次轉(zhuǎn)印輥清潔器46與二次轉(zhuǎn)印輥43抵接，在二次轉(zhuǎn)印后刮掉、除去殘留在二次轉(zhuǎn)印輥43的表面上的液體顯影劑。另外，二次轉(zhuǎn)印輥清潔回收液貯存容器47回收并貯存由二次轉(zhuǎn)印輥清潔器46從二次轉(zhuǎn)印輥43刮掉的液體顯影劑。
中間轉(zhuǎn)印帶清潔裝置15包括中間轉(zhuǎn)印帶清潔器44和中間轉(zhuǎn)印帶清潔回收液貯存容器45。中間轉(zhuǎn)印帶清潔器44與中間轉(zhuǎn)印帶IO抵接，在二次轉(zhuǎn)印后刮掉、除去殘留在中間轉(zhuǎn)印帶10的表面上的液體顯影劑。在該情況下，從動輥12也作為清潔中間轉(zhuǎn)印帶時的支承輥而發(fā)揮作用。該中間轉(zhuǎn)印帶清潔器44由橡膠等彈性體構(gòu)成。另外，中間轉(zhuǎn)印帶清潔回收液貯存容器45回收并貯存由中間轉(zhuǎn)印帶清潔器44從中間轉(zhuǎn)印帶IO刮掉的液體顯影劑。
各一次轉(zhuǎn)印單元50Y、 50M、 50C、 50K分別包括與各自相對應的顯影裝置5Y、 5M、 5C、 5K，一次轉(zhuǎn)印裝置7Y、 7M、 7C、 7K，以及串聯(lián) 配置的作為潛像承載體的感光體2Y、 2M、 2C、 2K。
另外，在比各一次轉(zhuǎn)印裝置7Y、 7M、 7C、 7K靠近中間轉(zhuǎn)印帶10的旋轉(zhuǎn)方向下游一側(cè)的各一次轉(zhuǎn)印裝置7Y、 7M、 7C、 7K的附近分別設(shè)置有中間轉(zhuǎn)印帶擠壓裝置13Y、 13M、 13C、 13K。
在圖1所示的例子中，各感光體2Y、 2M、 2C、 2K均由感光鼓構(gòu) 成。并且，這些感光體2Y、 2M、 2C、 2K在動作時均如圖1中的實線箭頭所示的那樣向順時針方向旋轉(zhuǎn)。另外，各感光體2Y、 2M、 2C、 2K也可以構(gòu)成為環(huán)形帶狀。
各一次轉(zhuǎn)印裝置7Y、 7M、 7C、 7K分別包括使中間轉(zhuǎn)印帶10與各感
光體2Y、 2M、 2C、 2K抵接的一次轉(zhuǎn)印用的支承輥37Y、 37M、 37C、 37K。
以下，關(guān)于各一次轉(zhuǎn)印單元50Y、 50M、 50C、 50K，以一次轉(zhuǎn)印單元 50Y為例來進行詳細的說明。在一次轉(zhuǎn)印單元50M、 50C、 50K的構(gòu)成要素中，僅僅是與顏色M、 C、 K相關(guān)的部件不同，而構(gòu)造和配置均與一次轉(zhuǎn)印單元50Y相同。
圖2表示了一次轉(zhuǎn)印單元50Y的簡要的放大圖。
在感光體2Y的周圍，從旋轉(zhuǎn)方向上游一側(cè)開始依次設(shè)置有帶電部件 3Y、作為曝光單元的行頭4Y、顯影裝置5Y、感光體擠壓裝置6Y、一次轉(zhuǎn)印裝置7Y、以及除電裝置8Y。
帶電部件3Y例如由帶電輥構(gòu)成。從未圖示的電源裝置向帶電部件3Y 施加與液體顯影劑的帶電極性相同極性的偏壓。帶電部件3Y使感光體2Y 帶電。
行頭4Y例如通過從使用有機EL元件、LED的曝光光學系統(tǒng)等向感光體2Y的表面200照射光而在被帶電的感光體2Y上形成靜電潛像。用從行頭4Y引出的實線箭頭來表示光的照射方向。行頭4Y與感光體2Y間隔開而配置。
另外，對于曝光光學系統(tǒng)的掃描方向，將垂直于圖2的紙面的方向作為主掃描方向XX，將與主掃描方向XX正交的、被照射光的感光體2Y的表面200的切線方向作為副掃描方向YY。
以下，根據(jù)附圖來詳細地說明本實施方式中的行頭4Y。圖3是本實施方式的行頭4Y的簡要的立體圖。另外，圖4是行頭4Y的副掃描方向 YY的截面圖。
在圖3中，行頭4Y包括沿主掃描方向XX排列的發(fā)光元件組410。發(fā) 光元件組410包括多個發(fā)光元件411。如圖2所示，從這些發(fā)光元件411 向被帶電部件3Y帶電的感光體2Y的、作為被掃描面的表面200照射光，在表面200上形成靜電潛像。
在圖3中，行頭4Y包括以主掃描方向XX為長度方向的殼體420，并且在該殼體420的兩端設(shè)置有定位銷421和螺釘插入孔422。通過將該定
位銷421嵌入到穿設(shè)在未圖示的感光體蓋上的定位孔中，使行頭4Y相對于圖2所示的感光體2Y而被定位。感光體蓋覆蓋感光體2Y，并且被相對于感光體2Y定位。另外，通過將固定螺釘經(jīng)由螺釘插入孔422旋入、固定到感光體蓋的螺釘孔(省略圖示)中，使行頭4Y相對于感光體2Y而被定位、固定。
在圖3和圖4中，殼體420對在與感光體2Y的表面200相對的位置處排列有成像透鏡的微透鏡陣列430進行保持，并且在其內(nèi)部按照從接近微透鏡陣列430到遠離微透鏡陣列430的順序而具有遮光部件440和作為基板的頭基板450。頭基板450為透明的玻璃基板。
在頭基板450的背面452 (頭基板450所具有的兩個面中的、與跟遮光部件440相對的表面451相反一側(cè)的面)上設(shè)置有多個發(fā)光元件組 410。如圖3所示，多個發(fā)光元件組410在主掃描方向XX和副掃描方向 YY上彼此隔開預定的間隔而二維地排列配置在頭基板450的背面452 上。這里，如圖3中的由圓包圍的部分所示，通過二維地排列多個發(fā)光元件411而構(gòu)成發(fā)光元件組410。
在本實施方式中，作為發(fā)光元件而使用有機EL。即，在本實施方式中，將有機EL作為發(fā)光元件411而配置在頭基板450的背面452上。并且，從多個發(fā)光元件411分別向感光體2Y的方向射出的光經(jīng)由頭基板450 而射向遮光部件440。
發(fā)光元件也可以為LED。在該情況下，基板可以不是玻璃基板，LED 可以設(shè)置在表面451上。
在圖3和圖4中，遮光部件440具有與多個發(fā)光元件組410 —一對應的多個導光孔4410。
在圖3和圖4中，從屬于發(fā)光元件組410的發(fā)光元件411射出的光通過與該發(fā)光元件組410 —一對應的導光孔4410而被引導至微透鏡陣列 430。并且，如雙點劃線所示，通過了導光孔4410的光由微透鏡陣列430 作為點而成像在感光體2Y的表面200上。
如圖4所示，通過固定器具460將背蓋470經(jīng)由頭基板450按壓在殼體420上。S卩，固定器具460具有向殼體420—側(cè)按壓背蓋470的彈力，并且通過以該彈力按壓背蓋470而使殼體420的內(nèi)部光密地(即，不會從殼體420的內(nèi)部漏光，并且光不會從殼體420的外部侵入)密閉。在圖3 所示的殼體420的長度方向上的多處設(shè)置有固定器具460。另外，發(fā)光元件組410由密封部件480覆蓋。
圖5是微透鏡陣列430的簡要的部分立體圖。圖6是微透鏡陣列430 的主掃描方向XX的部分截面圖。
在圖5和圖6中，微透鏡陣列430包括作為基座基板的玻璃基板431 和透鏡基板434、 435、 437、 438。由于這些圖為部分圖，因此沒有表示出所有部件。
在圖5和圖6中，透鏡基板434、 437和透鏡基板435、 438按照夾持玻璃基板431的方式設(shè)置在玻璃基板431的兩個面上。在透鏡基板434、 437上形成有多個透鏡432，在透鏡基板435、 438上形成有多個透鏡 433。透鏡432、 433可以由樹脂形成。
按照夾持玻璃基板431的方式一對一配置的兩個透鏡432、 433構(gòu)成透鏡對。
作為透鏡432、 433的形成方法，首先準備具有多個形狀與透鏡432、 433的外形形狀大致相同的凹部的模具。然后，在向凹部填充了液體狀的紫外線固化樹脂后，如同成為凹部的蓋那樣使透鏡基板與凹部重合，從透鏡基板一側(cè)照射紫外線。在紫外線固化樹脂固化后，通過取下模具而在透鏡基板上形成透鏡432、 433。
在圖6中，在玻璃基板431的一個面上通過粘接劑436粘接有透鏡基板434、 437，在相對的面上通過粘接劑436粘接有透鏡基板435、 438。
作為粘接劑436，例如可以使用紫外線固化粘接劑、熱固化粘接劑等，但是為了對玻璃基板431與透鏡基板434等進行對位，優(yōu)選可以在進行了對位的狀態(tài)下照射紫外線而固化的紫外線固化粘接劑。
構(gòu)成透鏡對的兩個透鏡432、 433彼此共用圖中由點劃線表示的光軸 OA。另外，這多個透鏡對與圖3所示的多個發(fā)光元件組410 —對一地配置。另外，在本說明書中，將形成一對一的對的透鏡432、 433和由該透鏡對夾持的光學系統(tǒng)稱為"微透鏡ML"。作為成像透鏡的微透鏡ML與
發(fā)光元件組410的配置相對應，在主掃描方向XX和副掃描方向YY上彼此隔開預定的間隔而二維地配置。
在圖6中，在四個彼此相鄰的透鏡基板434與437之間、435與438 之間設(shè)置有間隔439。也可以在間隔439中填充光吸收材料4390。作為光吸收材料4390，可以使用包含碳的微粒子的樹脂等。
如圖3所示，間隔439沿透鏡傾斜地形成。另外，間隔439既可以與透鏡432、 433相交，也可以不與透鏡432、 433相交。
另外，在玻璃基板431與透鏡基板434、 437、 435、 438的線膨脹率沒有差異的情況下，無需設(shè)置間隔439。
圖7是表示多個發(fā)光元件組410的配置的圖。
在本實施方式中，沿副掃描方向YY排列兩行發(fā)光元件行L411而構(gòu) 成一個發(fā)光元件組410，所述發(fā)光元件行L411是沿主掃描方向XX每隔預定的間隔排列四個發(fā)光元件411而構(gòu)成的。SP,與該圖的雙點劃線的圓形所示的一個微透鏡ML的外徑的位置相對應，由八個發(fā)光元件411構(gòu)成發(fā) 光元件組410。并且，多個發(fā)光元件組410如下配置。
按照沿副掃描方向YY排列三行發(fā)光元件組行L410 (組行)的方式來二維地配置發(fā)光元件組410，所述發(fā)光元件組行L410是沿主掃描方向XX 排列預定個數(shù)(2個以上)的發(fā)光元件組410而構(gòu)成的。另外，各發(fā)光元件組行L410之間的發(fā)光元件組410配置在主掃描方向上的互不相同的位置處。并且，按照主掃描方向位置相鄰的發(fā)光元件組(例如，發(fā)光元件組 410C1和發(fā)光元件組410B1)的副掃描方向位置彼此不同的方式來配置多個發(fā)光元件組410。
另外，主掃描方向位置和副掃描方向位置分別意味著關(guān)注的位置的主掃描方向成分和副掃描方向成分。
圖8是表示由行頭4Y進行的點形成動作的圖。通過點的會聚來形成靜電潛像。
以下，使用圖7、圖8來說明由本實施方式中的行頭進行的點形成動作。另外，為了使發(fā)明易于理解，這里對在沿主掃描方向XX延伸的直線上排列形成多個點的情況進行說明。在本實施方式中，在沿副掃描方向
YY運送感光體2Y的表面200的同時使多個發(fā)光元件411以預定的定時發(fā) 光，由此在沿主掃描方向XX延伸的直線上排列、形成多個點。
在圖7中，在本實施方式的行頭4Y中，與副掃描方向位置Y1 Y6 的各位置對應地沿副掃描方向YY配置六列發(fā)光元件行L411。使處于副掃描方向YY上的相同位置處的發(fā)光元件行L411以大致相同的定時發(fā)光，并且使處于副掃描方向YY上的不同位置處的發(fā)光元件行L411以互不相同的定時發(fā)光。更具體地說，按照副掃描方向位置Y1 Y6的順序使發(fā)光元件行L411發(fā)光。并且，在沿副掃描方向YY運送感光體2Y的表面200 的的同時按照上述順序使發(fā)光元件行L411發(fā)光，由此在沿表面200的主掃描方向XX延伸的直線上排列、形成多個點。
使用圖7、圖8來說明該動作。首先，使屬于副掃描方向YY上的最上游的發(fā)光元件組410A1、 410A2、 410A3、…的副掃描方向位置Yl的發(fā) 光元件行L411的發(fā)光元件411發(fā)光。然后，通過該發(fā)光動作射出的多個光被上述微透鏡ML反轉(zhuǎn)、放大而成像在感光體2Y的表面200上，所述微透鏡ML是具有反轉(zhuǎn)放大特性的"成像透鏡"。g卩，在圖8的"第一次"的陰影圖案(hatchingpattern)的位置處形成點。
在該圖中，中空的圓圈表示尚未形成、今后將形成的預定的點。另外，在該圖中，用標號410C1、 410B1、 410A1、 410C2標注的點表示通過與分別標注的標號對應的發(fā)光元件組410形成的點。
接著，使屬于發(fā)光元件組410Al、 410A2、 410A3、…的副掃描方向位置Y2的發(fā)光元件行L411的發(fā)光元件411發(fā)光。然后，通過該發(fā)光動作射出的多個光被微透鏡ML反轉(zhuǎn)并放大而成像在感光體2Y的表面200 上。即，在圖8中，在"第二次"的影線圖的位置處形成點。這里，與感光體2Y的表面200的運送方向為副掃描方向YY相對，從副掃描方向YY 的下游一側(cè)的發(fā)光元件行L411開始依次(即，按照副掃描方向位置Y1、 Y2的順序)使其發(fā)光的目的是為了與微透鏡ML具有反轉(zhuǎn)特性相對應。
接著，使屬于從副掃描方向YY的上游一側(cè)開始的第二行的發(fā)光元件組410Bl、 410B2、 410B3、…的副掃描方向位置Y3的發(fā)光元件行L411 的發(fā)光元件411發(fā)光。然后，通過該發(fā)光動作射出的多個光被微透鏡ML
反轉(zhuǎn)并放大而成像在感光體2Y的表面200上。即，在圖8的"第三次" 的影線圖的位置處形成點。
接著，使屬于發(fā)光元件組410Bl、 410B2、 410B3、…的副掃描方向位置Y4的發(fā)光元件行L411的發(fā)光元件411發(fā)光。然后，通過該發(fā)光動作射出的多個光被微透鏡ML反轉(zhuǎn)并放大而成像在感光體2Y的表面200上。即，在圖8的"第四次"的影線圖的位置處形成點。
接著，使屬于副掃描方向YY最下游的發(fā)光元件組410Cl、 410C2、 410C3、…的副掃描方向位置Y5的發(fā)光元件行L411的發(fā)光元件411發(fā) 光。通過該發(fā)光動作射出的多個光被微透鏡ML反轉(zhuǎn)并放大而成像在感光體2Y的表面200上。即，在圖8的"第五次"的影線圖的位置處形成點。
最后，使屬于發(fā)光元件組410Cl、 410C2、 410C3、…的副掃描方向位置Y6的發(fā)光元件行L411的發(fā)光元件411發(fā)光。然后，通過該發(fā)光動作射出的多個光被微透鏡ML反轉(zhuǎn)并放大而成像在感光體2Y的表面200上。即，在圖8的"第六次"的影線圖的位置處形成點。這樣，通過執(zhí)行第一次第六次的發(fā)光動作，在沿主掃描方向XX延伸的直線上排列、形成多個點。
接著，返回到圖2，對顯影裝置5Y進行說明。顯影裝置5Y通過液體顯影劑21Y對形成在感光體2Y上的靜電潛像進行顯影。
在圖2中，顯影裝置5Y分別包括顯影劑供應部16Y、顯影輥17Y、壓緊輥18Y、顯影輥清潔器19Y、以及顯影輥清潔回收液貯存容器20Y。
顯影劑供應部16Y分別包括顯影劑容器22Y，容納由調(diào)色劑粒子和不揮發(fā)性的液體載體形成的液體顯影劑21Y;顯影劑汲取輥23Y;網(wǎng)紋輥 24Y、以及顯影劑限制刮板25Y。
在容納在顯影劑容器22Y內(nèi)的液體顯影劑21Y中，作為調(diào)色劑，可以使用在用于調(diào)色劑的公知的熱可塑性樹脂中分散有同樣是公知的顏料等著色劑的、例如平均粒徑為1/mi的粒子。另外，為了得到低粘性低濃度的液體顯影劑，作為液體載體，例如可以使用有機溶劑、苯基甲基硅氧垸、二甲基聚硅氧垸、以及聚二甲基環(huán)硅氧烷等燃點為21(TC以上的硅油、礦物
油等絕緣性液體載體。并且，通過將調(diào)色劑粒子與分散劑一起添加到液體
載體中并使調(diào)色劑固體成分濃度大約為20%來形成液體顯影劑21Y。
顯影劑汲取輥23Y分別是汲取顯影劑容器22Y內(nèi)的液體顯影劑21Y 后供應給網(wǎng)紋輥24Y的輥。顯影劑汲取輥23Y在圖2中向箭頭所示的順時針方向旋轉(zhuǎn)。另外，網(wǎng)紋輥24Y為圓筒狀的部件，并且是在表面上形成有微細的、同樣的螺旋狀的槽的輥。關(guān)于槽的尺寸，例如槽間距被設(shè)定為大約130/mi，槽深度被設(shè)定為大約30/xm。當然，槽的尺寸不限于這些值。網(wǎng)紋輥24Y按照與顯影輥17Y相同的旋轉(zhuǎn)方向在圖2中向箭頭所示的逆時針方向旋轉(zhuǎn)。網(wǎng)紋輥24Y也均可以與顯影輥17Y—起向順時針方向旋轉(zhuǎn)。即，網(wǎng)紋輥24Y的旋轉(zhuǎn)方向不受限制，可以是任意的。
顯影劑限制刮板25Y被設(shè)置成與網(wǎng)紋輥24Y的表面抵接。這些顯影劑限制刮板25Y包括與網(wǎng)紋輥24Y的表面抵接的由聚氨脂橡膠等形成的橡膠部和支承該橡膠部的金屬等板。并且，顯影劑限制刮板25Y通過橡膠部刮掉、除去附著在網(wǎng)紋輥24Y的槽部以外的表面上的液體顯影劑21Y。因此，網(wǎng)紋輥24Y僅將附著在這些槽部內(nèi)的液體顯影劑21Y供應給各顯影輥 17Y。
顯影輥17Y在例如鐵等金屬軸的外周部具有由導電性聚氨酯橡膠等導電性樹脂層或?qū)щ娦韵鹉z層形成的預定寬度的圓筒狀的導電性彈性體。所述顯影輥17Y與感光體2Y抵接，并且在圖2中如箭頭所示那樣向逆時針方向旋轉(zhuǎn)。
壓緊輥18Y的外周面與對應的顯影輥17Y的外周面抵接而配置。此時，壓緊輥18Y與顯影輥17Y彼此咬入預定的量。
并且，壓緊輥18Y在圖2中如箭頭所示那樣向順時針方向旋轉(zhuǎn)。壓緊輥18Y分別被施加電壓，使對應的顯影輥17Y帶電。在該情況下，對壓緊輥18Y施加的電壓分別被設(shè)定為直流電壓(DC)。對壓緊輥18Y施加的電壓也可以分別被設(shè)定為交流電壓(AC)與直流電壓(DC)疊加的電壓。
在通過所述壓緊輥18Y使顯影輥17Y帶電的過程中，壓緊輥18Y分別與顯影輥17Y上的液體顯影劑21Y進行接觸轉(zhuǎn)壓。通過壓緊輥18Y的接觸轉(zhuǎn)壓，顯影輥17Y上的液體顯影劑21Y分別被按壓在顯影輥17Y上。
在壓緊輥18Y上分別設(shè)置有壓緊輥清潔刮板26Y和壓緊輥清潔回收液貯存容器27Y。這些壓緊輥清潔刮板26Y分別由與對應的壓緊輥18Y的表面抵接的例如橡膠等構(gòu)成，并用于刮掉、除去殘留在壓緊輥18Y上的液體顯影劑21Y。并且，壓緊輥清潔回收液貯存容器27Y由貯存通過壓緊輥清潔刮板26Y從壓緊輥18Y上刮掉的液體顯影劑21Y的罐等容器構(gòu)成。
另外，顯影輥清潔器19Y由與顯影輥17Y的表面抵接的例如橡膠等構(gòu) 成，并用于刮掉、去除殘留在顯影輥17Y上的液體顯影劑21Y。并且，顯影輥清潔回收液貯存容器20Y分別由貯存通過顯影輥清潔器19Y從顯影輥 17Y上刮掉的液體顯影劑21Y的罐等容器構(gòu)成。
另外，圖像形成裝置1包括將液體顯影劑21Y補充給顯影劑容器22Y 的顯影劑補充裝置28Y。這些顯影劑補充裝置28Y分別包括調(diào)色劑罐 29Y、載體罐30Y、以及攪拌裝置31Y。
在調(diào)色劑罐29Y內(nèi)容納有高濃度液體調(diào)色劑32Y。另外，在載體罐 30Y內(nèi)容納有液體載體(載體油)33Y。并且，從調(diào)色劑罐29Y向攪拌裝置31Y供應預定量的高濃度液體調(diào)色劑32Y，從載體罐30Y向攪拌裝置 31Y供應預定量的液體載體33Y。攪拌裝置31Y分別混合攪拌被供應的高濃度液體調(diào)色劑32Y和液體載體33Y，制造出供顯影裝置5Y使用的液體顯影劑21Y。在該情況下，液體顯影劑21Y整體的粘度優(yōu)選為100mPas 1000mPas，液體載體(載體油)單體的濃度優(yōu)選為10mPas 200mPas。關(guān) 于粘度的測定方法，例如使用粘彈性測定裝置ARES (TA設(shè)備'日本制) 來進行測定。通過攪拌裝置31Y制造出的液體顯影劑21Y分別被供應給顯影劑容器22Y。感光體擠壓裝置6Y包括擠壓輥34Y、擠壓輥清潔器 35Y、擠壓輥清潔回收液貯存容器36Y。擠壓輥34Y分別設(shè)置在比感光體 2Y與顯影輥17Y的抵接部(壓印線部)靠近感光體2Y的旋轉(zhuǎn)方向下游一側(cè)的位置處。并且，擠壓輥34Y向與感光體2Y相反的方向(在圖2中為逆時針方向)旋轉(zhuǎn)，除去感光體2Y上的液體顯影劑21Y。
貯存在壓緊輥清潔回收液貯存容器27Y、顯影輥清潔回收液貯存容器
20Y、以及擠壓輥清潔回收液貯存容器36Y中的液體顯影劑21Y返回至攪拌裝置31Y而被再利用。
作為擠壓輥34Y，均優(yōu)選在金屬制帶芯棒的表面上配置有導電性聚氨脂橡膠等彈性部件和氟樹脂制表層的彈性輥。另外，擠壓輥清潔器35Y均由橡膠等彈性體形成，分別與對應的擠壓輥34Y的面抵接，刮掉、除去殘留在這些擠壓輥34Y上的液體顯影劑21Y。另外，擠壓輥清潔回收液貯存容器36Y是貯存由分別對應的擠壓輥清潔器35Y刮掉的液體顯影劑21Y 的罐等容器。
支承輥37Y被施加與調(diào)色劑粒子的帶電極性相反極性的例如大約一 200V的電壓，并將感光體2Y上的通過液體顯影劑21Y形成的像一次轉(zhuǎn)印到中間轉(zhuǎn)印帶10上。另外，除電裝置8Y除去一次轉(zhuǎn)印后殘留在感光體 2Y上的電荷。
中間轉(zhuǎn)印帶擠壓裝置13Y分別包括中間轉(zhuǎn)印帶擠壓輥40Y、中間轉(zhuǎn)印帶擠壓輥清潔器41Y、以及中間轉(zhuǎn)印帶擠壓輥清潔回收液貯存容器42Y。中間轉(zhuǎn)印帶擠壓輥40Y回收中間轉(zhuǎn)印帶10上的液體顯影劑21Y。另外，中間轉(zhuǎn)印帶擠壓輥清潔器41Y分別刮掉中間轉(zhuǎn)印帶擠壓輥40Y的輥上的回收的液體顯影劑21Y。這些中間轉(zhuǎn)印帶擠壓輥清潔器41Y與擠壓輥清潔器 35Y同樣地由橡膠等彈性體形成。另外，中間轉(zhuǎn)印帶擠壓輥清潔回收液貯存容器42Y回收、貯存通過中間轉(zhuǎn)印帶擠壓輥清潔器41Y刮掉的液體顯影齊!J 21Y。
當開始了圖像形成動作后，感光體2Y被帶電部件3Y均勻地帶電。接著，通過行頭4Y在感光體2Y上形成靜電潛像。
然后，在顯影裝置5Y中，黃色(Y)的液體顯影劑21Y通過顯影劑汲取輥23Y而被汲取給網(wǎng)紋輥24Y。通過顯影劑限制刮板25Y使附著在網(wǎng) 紋輥24Y上的液體顯影劑21Y在網(wǎng)紋輥24Y的槽內(nèi)的附著量適當。該網(wǎng) 紋輥24Y的槽內(nèi)的液體顯影劑21Y被供應給顯影輥17Y。
此時，網(wǎng)紋輥24Y的槽內(nèi)的液體顯影劑21Y的一部分向網(wǎng)紋輥24Y 的左右兩端的方向移動。并且，顯影輥17Y上的液體顯影劑21Y的黃色 (Y)的調(diào)色劑粒子通過壓緊輥18Y的接觸壓緊而被按壓在該顯影輥17Y
上。
顯影輥17Y上的液體顯影劑21Y在被壓緊的狀態(tài)下通過顯影輥17Y 的旋轉(zhuǎn)而被向感光體2Y的方向運送。
在壓緊輥18Y的接觸壓緊結(jié)束后，殘留在壓緊輥18Y上的液體顯影劑 21Y被壓緊輥清潔刮板26Y從壓緊輥18Y上除去。
形成在黃色(Y)的感光體2Y上的靜電潛像在顯影裝置5Y中通過黃色(Y)的液體顯影劑21Y而被顯影，在感光體2Y上通過黃色(Y)的液體顯影劑21Y而形成像。顯影結(jié)束后，殘留在顯影輥17Y上的液體顯影劑 21Y被顯影輥清潔器19Y從顯影輥17Y上除去。通過感光體2Y上的黃色 (Y)的液體顯影劑21Y形成的像在被擠壓輥34Y回收了感光體2Y上的液體顯影劑21Y后成為黃色(Y)的調(diào)色劑像。并且，該黃色(Y)的調(diào) 色劑像被一次轉(zhuǎn)印裝置7Y轉(zhuǎn)印到中間轉(zhuǎn)印帶10上。中間轉(zhuǎn)印帶10上的黃色(Y)的調(diào)色劑像在被中間轉(zhuǎn)印帶擠壓輥40Y回收中間轉(zhuǎn)印帶IO上的液體顯影劑21Y的同時被向圖1所示的品紅色(M)的一次轉(zhuǎn)印裝置7M 的方向運送。
在圖1中，接著形成在品紅色(M)的感光體2M上的靜電潛像在顯影裝置5M中與黃色(Y)的情況同樣地通過被運送來的品紅色(M)的液體顯影劑而被顯影，在感光體2M上通過品紅色(M)的液體顯影劑而形成像。此時，在壓緊輥18M的接觸壓緊結(jié)束后，殘留在壓緊輥18M上的載體被壓緊輥清潔刮板26M從壓緊輥18M上除去。另外，顯影結(jié)束后，殘留在顯影輥17M上的液體顯影劑被顯影輥清潔器19M從顯影輥 17M上除去。
通過感光體2M上的品紅色(Y)的液體顯影劑形成的像在被擠壓輥 34M回收了感光體2M上的液體顯影劑后成為品紅色(M)的調(diào)色劑像，該品紅色(M)的調(diào)色劑像被一次轉(zhuǎn)印裝置7M與黃色(Y)的調(diào)色劑像重疊顏色而被轉(zhuǎn)印到中間轉(zhuǎn)印帶10上。同樣地，重疊了顏色的黃色(Y) 和品紅色(M)的調(diào)色劑像在被中間轉(zhuǎn)印帶擠壓輥40M回收了中間轉(zhuǎn)印帶 10上的液體顯影劑的同時被向青色(C)的一次轉(zhuǎn)印裝置7C的方向運送。以下，同樣地青色(C)的調(diào)色劑像和黑色(K)的調(diào)色劑像依次被重
疊顏色而被轉(zhuǎn)印到中間轉(zhuǎn)印帶10上，從而在中間轉(zhuǎn)印帶IO上形成全色的
調(diào)色劑像。
接著，通過二次轉(zhuǎn)印裝置14將中間轉(zhuǎn)印帶IO上的彩色調(diào)色劑像二次轉(zhuǎn)印到紙等轉(zhuǎn)印材料的轉(zhuǎn)印面上。被轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印材料上的彩色的調(diào)色劑像與以往相同被未圖示的定影器定影，形成了全色的定影像的轉(zhuǎn)印材料被運送至排紙盤，彩色圖像形成動作結(jié)束。
這樣的本實施方式具有以下效果。
(1) 由于通過分割的透鏡基板434、 435、 437、 438來構(gòu)成微透鏡陣列430，因而可以減小透鏡基板434、 435、 437、 438。因此，也可以減小透鏡432、 433成形用的模具，降低制造成本，得到提高了透鏡432、 433 的相對位置精度的微透鏡陣列430。另外，使用該微透鏡陣列430的行頭 4Y、 4M、 4C、 4K、以及圖像形成裝置1也可以取得相同的效果。
另外，通過彼此相鄰的透鏡基板434、 435、 437、 438之間的間隔 439，可以吸收因透鏡基板434、 435、 437、 438的熱膨脹率而引起的變形，從而可以得到即使產(chǎn)生了溫度變化也能夠保持透鏡432與透鏡433的相對位置精度的微透鏡陣列430。
(2) 由于配置在玻璃基板431的兩個面上的多個透鏡基板434、 435、 437、 438可以以玻璃基板431為基準來配置，因此可以提高各透鏡基板434、 435、 437、 438之間的位置精度。因此，可以得到提高了透鏡 432、 433的相對位置精度的微透鏡陣列430。
(第二實施方式)
圖9表示了本實施方式的微透鏡陣列4301和遮光部件440附近的部分截面圖。
微透鏡陣列430以外的構(gòu)成與第一實施方式相同。對與第一實施方式相同的零件、部件標注相同的標號。
在圖9中，在透鏡基板434、 437的單個面上形成有透鏡432。在本實施方式中，由透鏡基板434、 437等和透鏡432構(gòu)成微透鏡陣列4301。在透鏡基板434與透鏡基板437之間與第一實施方式同樣地形成有間隔439 并填充有光吸收材料4390。
微透鏡陣列4301通過粘接劑436直接粘貼在遮光部件440上。根據(jù)這樣的實施方式，除了上述實施方式的效果以外，還具有以下效果。
(3) 由于遮光部件440與微透鏡陣列4301成為一體，因此可以容易地組裝行頭4Y、 4M、 4C、 4K，從而可以得到降低了制造成本的行頭 4Y、 4M、 4C、 4K。另外，使用該微透鏡陣列4301的行頭4Y、 4M、 4C、 4K、以及圖像形成裝置l也可以得到相同的效果。
(第三實施方式)
圖10表示了本實施方式的微透鏡陣列4302的部分截面圖。微透鏡陣列430以外的構(gòu)成與第一實施方式相同。對與第一實施方式相同的零件、部件標注相同的標號。
在圖10中，在玻璃基板431的兩個面上配置有透鏡基板434、 435、 437、 438，間隔439相對于玻璃基板431的面的位置在兩個面之間錯開。
根據(jù)這樣的實施方式，除了上述實施方式的效果以外，還具有以下效果。
(4) 由間隔439產(chǎn)生的對位置精度的影響由于間隔439在玻璃基板 431的兩個面之間錯開而分散。因此，可以得到透鏡432、 433的相對位置精度更高的微透鏡陣列4302。另外，使用該微透鏡陣列4302的行頭4Y、 4M、 4C、 4K、以及圖像形成裝置l也可以得到相同的效果。
艮P，在該實施方式中，沿主掃描方向XX (第一方向)配置的多個透鏡基板437在主掃描方向XX上彼此隔開間隔439而排列。并且，形成在玻璃基板431 (透明基板)的兩個面上的多個間隔439在主掃描方向XX 上彼此錯開。因此，由間隔439產(chǎn)生的對位置精度的影響由于間隔439的位置在玻璃基板431的兩個面之間錯開而分散。因此，可以得到透鏡 432、 433的相對位置精度更高的微透鏡陣列4302。 (第四實施方式)
圖ll是第四實施方式的微透鏡陣列的平面圖。圖12是圖ll所示的微透鏡陣列的主掃描方向的部分截面圖。如該圖所示，微透鏡陣列4301具有玻璃基板431 (支承部件，透明基板)。在該玻璃基板431的兩個面
4311、 4312上分別配置有多個(在本實施方式中為四個)透鏡基板437。各透鏡基板437彼此具有大致相同的形狀，均為近似平行四邊形。更詳細地說，各透鏡基板437如下構(gòu)成。
在透鏡基板437上設(shè)置有多個透鏡432、 433。如圖11所示，在透鏡基板437中，在副掃描方向YY上的互不相同的位置處排列有三個透鏡 432，構(gòu)成透鏡列C432。構(gòu)成透鏡列C432的三個透鏡432在主掃描方向 XX上錯開透鏡間距Pls而配置。因此，透鏡列C432中的透鏡432的排列方向D432為與主掃描方向XX (第一方向)不同的方向，并且相對于副掃描方向YY (第二方向)傾斜。
在透鏡基板437中，多個透鏡列C432沿主掃描方向XX排列而配置。另外，主掃描方向XX上的透鏡基板437的端部4371與排列方向 D432平行(或近似平行)。作為加工出該端部4371的形狀的方法，例如有將透鏡基板437的主掃描方向XX上的一端沿排列方向D432切斷的方法。
在本實施方式中，這樣構(gòu)成的透鏡基板437分別安裝在玻璃基板面 4311、 4312上。對設(shè)置在玻璃基板431的表面的透鏡標注標號432，對設(shè) 置在背面的透鏡標注標號433。如圖12所示，透鏡432與透鏡433 —對一地對應配置，為對應關(guān)系的透鏡432、 433彼此共用光軸OA。另外，各透鏡基板437通過粘接劑436粘接在玻璃基板面4311 、 4312上。
在玻璃基板面4311、 4312上分別配置有四個透鏡基板437。如果以玻璃基板面4311為代表來進行說明，則四個透鏡基板437沿主掃描方向XX 排列。在主掃描方向XX上相鄰的兩個透鏡基板437按照各自的端部4371 彼此平行或近似平行的方式配置。另外，這些相鄰的兩個透鏡基板437相互抵接并沿主掃描方向XX排列，其各自的端部4371成為彼此相碰的狀態(tài)。
通過這樣將透鏡基板437安裝在玻璃基板431上，如下所述可以得到二維地配置了多個透鏡432的微透鏡陣列4301。即，在該微透鏡陣列 4301中，沿主掃描方向XX排列多個透鏡432而構(gòu)成透鏡行L432，并且三個透鏡行L432配置在副掃描方向YY上的互不相同的位置處。各透鏡
行L432在主掃描方向XX上錯開透鏡間距Pls，結(jié)果相對于副掃描方向 YY傾斜的透鏡列C432在主掃描方向XX上排列了多個。
這樣，在本實施方式中，微透鏡陣列4301包括玻璃基板431 (支承部件)和由玻璃基板431支承的多個透鏡基板437。另外，在透鏡基板437 上，沿主掃描方向XX配置有多個透鏡432。并且，各玻璃基板431沿主掃描方向XX配置有多個透鏡基板432并對其進行支承。即，在本實施方式中，微透鏡陣列4301由多個透鏡基板437構(gòu)成。因此，可以減小透鏡基板437。結(jié)果，可以通過比較小的透鏡基板成形用的模具來制造透鏡基板437。 g卩，可以使用精度比較高的模具來制造透鏡基板437，因此可以得到提高了透鏡432的相對位置精度的微透鏡陣列4301，還可以降低制造成本。
另外，在本實施方式中，在作為支承部件的玻璃基板431 (透明基板)的至少一個面(在第四實施方式中為兩個面)上沿主掃描方向XX排列多個透鏡基板437而構(gòu)成微透鏡陣列4301。因此，可以簡單地構(gòu)成在主掃描方向XX上長的微透鏡陣列4301。
另外，在本實施方式中，作為透明基板而使用玻璃基板431，這是優(yōu) 選方式。S卩，由于玻璃基板431的線膨脹率比較小，因此可以抑制透明基板的溫度變化。
另外，在本實施方式中，透鏡基板437的主掃描方向XX上的端部 4371被加工成與排列方向D432平行或近似平行。因此，通過沿主掃描方向XX排列多個透鏡基板437，可以簡單地得到二維地配置了多個透鏡432 的微透鏡陣列4301。
另外，在如本實施方式那樣使多個透鏡基板437在相碰的狀態(tài)下沿主掃描方向XX排列的構(gòu)成中，可以使透鏡基板437和支承部件431具有相同或近似相同的線膨脹率。通過這樣地構(gòu)成，可以得到由溫度變化引起的變形小的微透鏡陣列4301。 (第五實施方式)
然而，如圖6所示，第一實施方式的行頭4Y等構(gòu)成為由作為支承部件的玻璃基板431 (基座基板)來支承透鏡基板437。另外，如圖9所
示，第三實施方式的行頭4Y等如下構(gòu)成。g卩，設(shè)置有頭基板450，具有使多個發(fā)光元件411群組化而形成的發(fā)光元件組410;微透鏡陣列 4301，針對每個發(fā)光元件組410來配置透鏡432;遮光部件440，設(shè)置有導光孔4410，所述導光孔4410配置在微透鏡陣列4301與頭基板450之間，從發(fā)光元件組410朝向透鏡432。并且，微透鏡陣列4301沿主掃描方向XX配置有多個透鏡基板437。并且，沿主掃描方向XX配置的多個透鏡基板437由遮光部件440支承。換言之，在第三實施方式中，遮光部件 440如支承部件那樣發(fā)揮作用。但是，用于支承多個透鏡基板437的構(gòu)成不限于此，也可以如下構(gòu)成。
圖13是第五實施方式的微透鏡陣列的平面圖。在本實施方式中，外框490相當于本發(fā)明的"支承部件"。外框490具有沿主掃描方向XX長的近似長方形狀。在外框490中，沿該圖的紙面垂直方向貫穿形成有通孔 4901。如該圖所示，該通孔4901也具有在主掃描方向XX上長的近似長方形形狀。這樣構(gòu)成的結(jié)果是沿主掃描方向XX延伸的兩根梁4902、 4903在副掃描方向YY上隔開間隔而設(shè)置在外框490上。
在外框490的一個面上，多個透鏡基板437隔開間隔439而沿主掃描方向XX排列。各透鏡基板437架設(shè)在梁4902、 4903上。此時，形成在透鏡基板437上的多個透鏡432與通孔4901相對配置。因此，例如來自發(fā)光元件組410的光束可以通過通孔4901而向透鏡432入射。
這樣，在第五實施方式中，微透鏡陣列4301也由多個透鏡基板437 構(gòu)成。因此，可以減小透鏡基板437。結(jié)果，可以通過比較小的透鏡基板成形用的模具來制造透鏡基板437。即，可以使用精度比較高的模具來制造透鏡基板437，因此可以得到提高了透鏡432的相對位置精度的微透鏡陣列4301，還可以降低制造成本。
另外，在第五實施方式中，沿主掃描方向XX配置的多個透鏡基板 437在主掃描方向XX上彼此隔開間隔439而配置。因此，通過間隔439，可以吸收因透鏡基板437的熱膨脹率與外框490的熱膨脹率的差異引起的、伴隨著溫度變化而產(chǎn)生的變形，從而不管溫度如何變化，均能夠得到提高了透鏡432的相對位置精度的微透鏡陣列4301。
(第六實施方式)
圖14是簡要地表示第六實施方式中的行頭的立體圖。另外，圖15是圖14所示的行頭的寬度方向的部分截面圖，并且是與透鏡的光軸平行的截面的截面圖。已經(jīng)說明的實施方式與第六實施方式的不同點在于微透鏡陣列的個數(shù)?！熠?，第六實施方式的行頭4Y等具有兩個微透鏡陣列4301、 4302。與上述實施方式相同，在行頭4Y等中，在頭基板450上形成有多個發(fā)光元件，各發(fā)光元件向感光鼓表面射出光束。因此，在本說明書中，將與主掃描方向XX和副掃描方向YY正交的方向、并且是從發(fā)光元件朝向感光鼓表面的方向作為光束的前進方向Doa。該光束的前進方向Doa與光軸OA平行或近似平行。在以下對第六實施方式的說明中，主要對與己經(jīng)說明的實施方式的差異點進行說明，對相同的構(gòu)成標注相當?shù)臉颂柌⑦m 當?shù)厥÷哉f明。
在行頭4Y的殼體420的內(nèi)部配置有頭基板450、遮光部件440、以及兩個微透鏡陣列4301、 4302。殼體420的內(nèi)部與頭基板450的表面450— h抵接，另一方面背蓋470與頭基板450的背面450—t抵接。在頭基板 450的背面450—t上設(shè)置有將多個發(fā)光元件群組化而形成的發(fā)光元件組 410。并且，當發(fā)光元件組410向光束的前進方向Doa射出光束后，光束透過頭基板450而射向感光鼓表面。
另外，在頭基板450的表面450—h上抵接配置有遮光部件440。在遮光部件440上，對多個發(fā)光元件組410中的每一個均設(shè)置有導光孔4410 (換言之，對多個發(fā)光元件組410—對一地設(shè)置有多個導光孔4410)。各導光孔4410作為沿光束的前進方向Doa貫穿的孔而形成在遮光部件440 上。
在遮光部件440的上側(cè)(頭基板450的相反一側(cè))，沿光束的前進方向Doa排列配置有兩個微透鏡陣列4301、 4302。這兩個微透鏡陣列 4301、 4302夾持臺座445而相對，該臺座445起到規(guī)定了微透鏡陣列 4301、 4302的間隔的作用。在本實施方式中，由于如上所述設(shè)置有兩個微透鏡陣列4301、 4302，因此沿光束的前進方向Doa排列的兩個透鏡433、 432與每個發(fā)光元件組410相對配置。這里，透鏡433是微透鏡陣列4301
所具有的透鏡，透鏡432是微透鏡陣列4302所具有的透鏡。通過與相同的發(fā)光元件組410對應的兩個透鏡433、 432各自的透鏡中心的光軸OA與頭基板450的背面450—t正交或近似正交。這樣，通過兩個透鏡433、 432構(gòu)成一個成像光學系統(tǒng)，從發(fā)光元件組410射出的光束通過相對設(shè)置的成像光學系統(tǒng)而成像。這樣，在本實施方式中，由于多個微透鏡陣列 4301、 4302沿光束的前進方向Doa排列配置，因此可以提高光學設(shè)計的自由度。
圖16是表示第六實施方式所具有的兩個微透鏡陣列的構(gòu)成的部分截面圖。如該圖所示，微透鏡陣列4301、 4302均通過在玻璃基板431的背面上粘貼透鏡基板437而構(gòu)成。這里，所謂玻璃基板431的背面是玻璃基板431的基板面中的、光束的前進方向Doa的下游一側(cè)的面。即，在玻璃基板431的背面，多個透鏡基板437彼此抵接而排列在主掃描方向XX 上。另外，這些透鏡基板437通過粘接劑436而粘接在玻璃基板431上。
這樣，在第六實施方式中，也通過排列多個透鏡基板437來構(gòu)成微透鏡陣列4301。因此，可以得到提高了透鏡的相對位置精度的微透鏡陣列 4301，還可以降低制造成本。 (第七實施方式)
在上述任何一種實施方式中，說明了對于透鏡列C432中的透鏡432 的排列方向D432相對于副掃描方向YY傾斜的微透鏡陣列應用了本發(fā)明的情況。但是，可以應用本發(fā)明的微透鏡陣列的構(gòu)成不限于此，也可以對下述的微透鏡陣列應用本發(fā)明。在以下對第七實施方式的說明中，主要說明與已經(jīng)說明的實施方式的差異點，對相同的構(gòu)成標注相當?shù)臉颂柌⑦m當地省略說明。
圖17是第七實施方式的微透鏡陣列的平面圖。上述實施方式與本實施方式的差異點在于透鏡列C432中的透鏡432的排列方向D432。 SP，在上述實施方式中，透鏡的排列方向D432相對于副掃描方向YY傾斜。與此相對，在第七實施方式中，透鏡的排列方向D432與副掃描方向YY平行或近似平行。即，如該圖所示，在透鏡基板437中，沿副掃描方向YY 排列有三個透鏡432而構(gòu)成透鏡列C432，并且沿主掃描方向XX排列有多個該透鏡列C432。主掃描方向XX上的透鏡基板437的端部4371與排列方向D432平行(或近似平行)。
并且，在本實施方式中，也在玻璃基板431的基板面上配置有四個透鏡基板437。四個透鏡基板437彼此隔開間隔439而排列在主掃描方向XX 上。隔著間隔439的相鄰的兩個透鏡基板437被配置成各自的端部4371彼此平行。另外，面對間隔439的端部4371被加工成與排列方向D432平行。因此，在具有這樣的形狀的兩個端部4371之間形成的間隔439與排列方向D432平行。并且，由于排列方向D432與副掃描方向YY平行，因此該間隔439與副掃描方向YY平行。
這樣，在第七實施方式中，也通過排列多個透鏡基板437來構(gòu)成微透鏡陣列4301。因此，可以得到提高了透鏡的相對位置精度的微透鏡陣列 4301，還可以降低制造成本。 (其他)
如上所述，在上述實施方式中，主掃描方向XX相當于本發(fā)明的"第一方向"，副掃描方向YY相當于本發(fā)明的"第二方向"。在第一、第三、第四、第六、第七實施方式中，玻璃基板431作為本發(fā)明的"支承部件(基座基板)"而發(fā)揮作用。另外，在第五實施方式中，外框490作為本發(fā)明的"支承部件(基座基板)"而發(fā)揮作用。另外，在第二實施方式中，遮光部件440如本發(fā)明的"支承部件(基座部件)"那樣發(fā)揮作用。
另外，不限于上述實施方式，只要不脫離其主旨，可以進行除了上述實施方式以外的各種變更。 (變形例)
例如，如圖18所示，行頭4Y的遮光部件4401也可以層積遮光板 4402而形成。
另外，為了防止光的反射，也可以在導光孔4410的內(nèi)表面等上設(shè)置具有光吸收性的光吸收層。作為光吸收層，可以使用消光黑色涂料層、鍍鉻層、鍍鋅層、鍍鎳層、鎳磷系鍍層、氧化銅層、黑色氧化鋁膜處理層、類金剛石碳膜等黑色膜。
另外，在上述實施方式中，按照預定個數(shù)(2個以上)的發(fā)光元件組
410沿主掃描方向XX排列而構(gòu)成的發(fā)光元件行L411 (組行)沿副掃描方向YY排列三列的方式來二維地配置發(fā)光元件組410。但是，多個發(fā)光元件組410的配置方式不限于此，可以適當?shù)剡M行變更。
另外，在上述實施方式中，使用行頭將多個點沿圖8所示的主掃描方向XX排列形成為直線狀。但是，該點形成動作表示了行頭的動作的一個例子，該行頭可以執(zhí)行的動作不限于此。即，所形成的點無需沿主掃描方向XX排列而形成為直線狀，例如既可以按照與主掃描方向XX具有預定的角度的方式排列形成，也可以形成為鋸齒狀或波狀。
另外，上述各實施方式和變形例被應用于彩色圖像形成裝置，但是應用對象不限于此，也可以應用于形成所謂單色圖像的黑白圖像形成裝置。
并且，除了使用將調(diào)色劑粒子分散在不揮發(fā)性液體載體中而形成的液體調(diào)色劑以外，還可以應用于使用干式調(diào)色劑的圖像形成裝置。
另外，在上述實施方式中，透鏡基板437等通過粘接劑安裝在玻璃基板431上。但是，透鏡基板437等的安裝方法不限于此。
權(quán)利要求
1.一種透鏡陣列，其特征在于，包括支承部件；以及由所述支承部件支承的多個透鏡基板；在所述透鏡基板上沿第一方向配置有多個透鏡，多個所述透鏡基板沿所述第一方向配置并由所述支承部件支承。
2. 如權(quán)利要求1所述的透鏡陣列，其特征在于，所述支承部件為透明基板，在所述透明基板的至少一個面上沿所述第一方向排列配置有多個所述透鏡基板。
3. 如權(quán)利要求2所述的透鏡陣列，其特征在于，在所述透明基板的兩個面上分別排列有多個所述透鏡基板。
4. 如權(quán)利要求2或3所述的透鏡陣列，其特征在于，所述透明基板為玻璃基板。
5. 如權(quán)利要求1至4中任一項所述的透鏡陣列，其特征在于，在所述透鏡基板上，沿與所述第一方向不同的排列方向排列有多個所述透鏡而構(gòu)成透鏡列，多個所述透鏡列沿所述第一方向排列。
6. 如權(quán)利要求5所述的透鏡陣列，其特征在于，與所述第一方向不同的所述排列方向相對于與所述第一方向正交的第二方向傾斜。
7. 如權(quán)利要求5所述的透鏡陣列，其特征在于，與所述第一方向不同的所述排列方向與跟所述第一方向正交的第二方向平行或近似平行。
8. 如權(quán)利要求5至7中任一項所述的透鏡陣列，其特征在于，所述透鏡基板的所述第一方向上的端部與和所述第一方向不同的所述排列方向平行或近似平行。
9. 如權(quán)利要求8所述的透鏡陣列，其特征在于，所述透鏡基板和所述支承部件具有相同或大致相同的線膨脹率。
10. 如權(quán)利要求9所述的透鏡陣列，其特征在于，在所述第一方向上相鄰的兩個所述透鏡基板相互抵接而排列。
11. 如權(quán)利要求1至6中任一項所述的透鏡陣列，其特征在于，沿所述第一方向配置的多個所述透鏡基板在所述第一方向上相互隔開間隔而排列。
12. 如權(quán)利要求2所述的透鏡陣列，其特征在于，沿所述第一方向配置的多個所述透鏡基板在所述第一方向上相互隔開間隔而排列，在所述透明基板的兩個面上形成的多個所述間隔在所述第一方向上相互錯開。
13. 如權(quán)利要求11或12所述的透鏡陣列，其特征在于，在所述間隔中填充有光吸收材料。
14. 如權(quán)利要求1至13中任一項所述的透鏡陣列，其特征在于，所述透鏡基板通過粘接劑粘接在所述支承部件上。
15. 如權(quán)利要求14所述的透鏡陣列，其特征在于，所述粘接劑為熱固化粘接劑。
16. 如權(quán)利要求14所述的透鏡陣列，其特征在于，所述粘接劑為紫外線固化粘接劑。
17. —種行頭，其特征在于，包括-頭基板，具有將多個發(fā)光元件群組化而形成的發(fā)光元件組；以及透鏡陣列，針對每個所述發(fā)光元件組而配置有透鏡；所述透鏡陣列包括支承部件；以及由所述支承部件支承的多個透鏡基板；在所述透鏡基板上沿第一方向配置有多個透鏡，多個所述透鏡基板沿所述第一方向配置并由所述支承部件支承。
18. —種行頭，其特征在于，包括頭基板，具有將多個發(fā)光元件群組化而形成的發(fā)光元件組；透鏡陣列，針對每個所述發(fā)光元件組而配置有透鏡；以及遮光部件，設(shè)置有導光孔，所述導光孔配置在所述透鏡陣列與所述頭基板之間，從所述發(fā)光元件組朝向所述透鏡；所述透鏡陣列沿第一方向配置有多個透鏡基板，在所述透鏡基板上沿所述第一方向配置有多個透鏡，沿所述第一方向配置的多個所述透鏡基板由所述遮光部件支承。
19. 一種圖像形成裝置，其特征在于，包括潛像承載體；頭基板，具有將多個發(fā)光元件群組化而形成的發(fā)光元件組；以及透鏡陣列，針對每個所述發(fā)光元件組而配置有透鏡；使用所述透鏡使來自所述發(fā)光元件的光成像，在所述潛像承載體的表面上形成點，所述透鏡陣列包括支承部件；以及由所述支承部件支承的多個透鏡基板；在所述透鏡基板上沿第一方向配置有多個所述透鏡，多個所述透鏡基板沿所述第一方向配置并由所述支承部件支承。
20. —種圖像形成裝置，其特征在于，包括潛像承載體；頭基板，具有將多個發(fā)光元件群組化而形成的發(fā)光元件組；透鏡陣列，針對每個所述發(fā)光元件組而配置有透鏡；以及遮光部件，設(shè)置有導光孔，所述導光孔配置在所述透鏡陣列與所述頭基板之間，從所述發(fā)光元件組朝向所述透鏡；使用所述透鏡使來自所述發(fā)光元件的光成像，在所述潛像承載體的表面上形成點，所述透鏡陣列沿第一方向配置有多個透鏡基板，在所述透鏡基板上沿所述第一方向配置有多個所述透鏡，沿所述第一方向配置的多個所述透鏡基板由所述遮光部件支承。
全文摘要
本發(fā)明提供一種加工精度高并降低了制造成本的透鏡陣列、行頭、以及使用它們的圖像形成裝置。包括支承部件；以及由支承部件支承的多個透鏡基板；在透鏡基板上沿第一方向配置有多個透鏡，多個透鏡基板沿第一方向配置并由支承部件支承。
文檔編號G03G15/00GK101339284SQ20081012668
公開日2009年1月7日申請日期2008年6月17日優(yōu)先權(quán)日2007年7月6日
發(fā)明者野村雄二郎申請人:精工愛普生株式會社

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