專利名稱：臺系統(tǒng)和包括這種臺系統(tǒng)的光刻設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種臺系統(tǒng)、包括這種臺系統(tǒng)的光刻設備以及臺控制方法。
背景技術：
光刻設備是一種將所需圖案應用到襯底上(通常到所述襯底的目標部
分上)的機器。例如，可以將光刻設備用在集成電路(IC)的制造中。在 這種情況下，可以將可選地稱為掩?；蜓谀０?retide)的圖案形成裝置用于 生成在所述IC的單層上待形成的電路圖案?？梢詫⒃搱D案轉移到襯底(例 如，硅晶片)上的目標部分(例如，包括一部分管芯、 一個或多個管芯的 部分)上。典型地，經(jīng)由成像將所述圖案轉移到在所述襯底上設置的輻射 敏感材料(抗蝕劑)層上。通常，單獨的襯底將包含連續(xù)形成圖案的相鄰 目標部分的網(wǎng)絡。公知的光刻設備包括所謂步進機，在所述步進機中， 通過將全部圖案一次曝光到所述目標部分上來輻射每一個目標部分；以及 所謂掃描器，在所述掃描器中，通過用輻射束沿給定方向("掃描"方向) 掃描所述圖案、同時沿與該方向平行或反向平行的方向掃描所述襯底來輻 射每一個目標部分。還可以通過將所述圖案壓印(imprinting)到所述襯底 上，將所述圖案從所述圖案形成裝置轉移到所述襯底上。
對于光刻設備的生產(chǎn)量(例如對于在一定時間周期內(nèi)將由光刻設備處 理的晶片的數(shù)量)的持續(xù)需求，需要增加臺(例如襯底臺或掩模臺)的速 度和加速度。進而，對于被光刻設備投影到襯底上的圖案的分辨率和精度 的要求增加，這轉變?yōu)橐环N結合投影光學系統(tǒng)的增大的縮小倍數(shù)而增加掩 模尺寸的趨勢，所述掩模的尺寸的增加能夠在掩模上提供所需的細節(jié)水 平。 一方面，高掃描速度要求必須將臺的高度保持得盡可能低，而另一方 面，所述臺需要被構造以便獲得高剛度，以避免臺的共振模式的出現(xiàn)或激 發(fā)，這趨于導致巨大的構造。甚至進一步，為了能夠獲得高的內(nèi)部剛度，使用具有高剛度、卻具有小的相對阻尼的材料，導致內(nèi)部振動在持續(xù)很長 時間之后才會停止。
為了更詳細地檢驗一些設計的標準，伺服擾動阻礙和循跡性能(回復 行為)可以通過借助反饋控制器增加閉環(huán)控制系統(tǒng)的帶寬而得到改善。臺 的內(nèi)部結構諧振總是存在的，并在可能增加閉環(huán)帶寬的程度上施加嚴格的 限制。為此，在臺的設計過程中，控制工程師施加顯著的作用，以通過這 種諧振頻率盡可能高并允許高帶寬的方式對力學性能進行優(yōu)化。通常，基 于工藝的規(guī)范，選擇所需的最小帶寬。然后，對機械設計進行優(yōu)化，提供 所述帶寬之上的所有諧振。通常，這可能意味著致動器和傳感器位置之間 的剛性聯(lián)接，這可能導致相對重的結構。為了設計剛性的結構，采用高E 模量的材料，所述材料被固有地嚴重地衰減。由于臺的生產(chǎn)的變化，控制 器必須對于工廠設備的動態(tài)變化具有魯棒性。通常，需要用于特定的臺的 所有生產(chǎn)產(chǎn)品的相同控制器設計，這也帶來了限制性能的一些保守性。
生產(chǎn)量增加或換句話說，更高的加速度和小的調(diào)整時間通?？赡軐ε_ 的精度以及由此的重疊具有負面影響。更高的加速度可能造成所述臺的更 高的內(nèi)部動態(tài)振動(或變形)，這可能被固有地嚴重地衰減，能夠造成臺 精度隨著調(diào)整時間的減少而惡化。進而，由因為串擾而造成的臺自身的運 動所引起的臺和環(huán)境(或者"靜默世界")的干擾也可能增加(例如，透 鏡、浸沒)，其也可以造成臺精度的惡化。
由于振動和干擾隨著生產(chǎn)量增加可以對于臺精度以及由此的重疊形 成限制，所以可能需要解決或至少減輕上述限制和抵觸需要。
因此，如果給定光刻設備的生產(chǎn)量的高度需求，抵觸要求出現(xiàn)，這顯 然會導致對于可以被實現(xiàn)的性能的上限。

發(fā)明內(nèi)容
旨在增強臺的動態(tài)性能。
根據(jù)本發(fā)明的實施例，提供一種用于光刻設備的臺系統(tǒng)，所述臺系統(tǒng) 包括臺；多個致動器，所述致動器用于對臺進行作用，所述致動器在致 動器的自由度上是超定的；至少兩個傳感器，用于測量臺的位置依賴參數(shù)， 并用于提供各自的傳感器信號，所述至少兩個傳感器設置用于測量在傳感器自由度上的各自的位置依賴參數(shù)；控制器，用于響應選定點和被至少一 個傳感器測量的位置依賴參數(shù)，將控制器輸出信號提供給至少一個致動 器；以及另一控制器，所述另一控制器設置有由至少兩個傳感器所測量的 位置依賴參數(shù)，另一控制器用于根據(jù)至少兩個傳感器確定位置依賴參數(shù)之 間的差別，并響應所確定的差別，將另一控制器輸出信號提供到至少一個 致動器。
在本發(fā)明的另一個實施例中，提供一種光刻設備，所述光刻設備包括 照射系統(tǒng)，配置用于調(diào)節(jié)輻射束；支撐件，用于支撐圖案形成裝置，所述
圖案形成裝置能夠?qū)D案在輻射束的橫截面上賦予輻射束，以形成圖案化
的輻射束；襯底臺，構建用于保持襯底；以及投影系統(tǒng)，配置用于將圖案 化的輻射束投影到襯底的目標部分上，其中所述支撐件和襯底臺中的至少 一個包括臺系統(tǒng)。所述臺系統(tǒng)包括臺；多個致動器，所述致動器用于對 臺進行作用，所述致動器在致動器的自由度上是超定的；至少兩個傳感器， 用于測量臺的位置依賴參數(shù)，并用于提供各自的傳感器信號，所述至少兩 個傳感器設置用于測量在傳感器自由度上的各自的位置依賴參數(shù)；控制 器，用于響應選定點和被至少一個傳感器測量的位置依賴參數(shù)，將控制器 輸出信號提供給至少一個致動器；以及另一控制器，所述另一控制器設置 有由至少兩個傳感器所測量的位置依賴參數(shù)，另一控制器用于通過至少兩 個傳感器確定位置依賴參數(shù)之間的差別，并響應所確定的差別，將另一控 制器輸出信號提供到至少一個致動器。
根據(jù)本發(fā)明的實施例，提供一種臺控制方法，所述方法包括提供多 個致動器，所述致動器用于對臺進行作用，所述致動器在致動器的自由度 上是超定的；由至少兩個傳感器測量臺的位置依賴參數(shù)，每個傳感器用于 提供各自的傳感器信號，所述至少兩個傳感器用于測量在傳感器自由度中 的各自的位置依賴參數(shù)；響應選定點和由至少一個傳感器測量的位置依賴 參數(shù)確定控制器輸出信號；將控制器輸出信號提供給至少一個致動器；通 過至少兩個傳感器確定所測量的位置依賴參數(shù)之間的差別；響應所確定的
差別確定另一控制器輸出信號；以及將另一控制器輸出信號提供給至少一 個致動器。


在此僅借助示例，參照所附示意圖對本發(fā)明的實施例進行描述，在所 附示意圖中，相同的附圖標記表示相同的部分，且其中 圖l示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的光刻設備；圖2示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的臺的示意圖；圖3是根據(jù)本發(fā)明的實施例的臺控制的控制圖；圖4是根據(jù)本發(fā)明的實施例的方法的流程圖。
具體實施方式
圖l示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的光刻設備。所述設備包 括照射系統(tǒng)(照射器)IL，配置用于調(diào)節(jié)輻射束B (例如，紫外輻射或任何其他合適的輻射)；支撐結構(例如掩模臺)MT，配置用于支撐圖案 形成裝置(例如掩模)MA，并與配置用于根據(jù)確定的參數(shù)精確地定位圖 案形成裝置的第一定位裝置PM相連。所述設備也包括襯底臺(例如晶片 臺)WT或者"襯底支撐件"，所述襯底臺(例如晶片臺)WT或者"襯底 支撐件"配置用于保持襯底(例如涂覆有抗蝕劑的晶片)W，并與配置用 于根據(jù)確定的參數(shù)精確地定位襯底的第二定位裝置PW相連。所述設備還 包括投影系統(tǒng)(例如折射式投影透鏡系統(tǒng))PS，所述投影系統(tǒng)PS配置用于 將由圖案形成裝置MA賦予輻射束B的圖案投影到襯底W的目標部分C (例 如包括一根或多根管芯)上。所述照射系統(tǒng)可以包括各種類型的光學部件，例如折射型、反射型、 磁性型、電磁型、靜電型或其他類型的光學部件、或其任意組合，以引導、 成形、或控制輻射。支撐結構(例如掩模臺)MT支撐圖案形成裝置，即承受所述圖案形 成裝置的重量。所述支撐結構以依賴于圖案形成裝置的取向、光刻設備的 設計以及諸如圖案形成裝置是否保持在真空環(huán)境中等其他條件的方式保 持圖案形成裝置。所述支撐結構(例如掩模臺)MT可以采用機械的、真 空的、靜電的或其他夾持技術保持圖案形成裝置。所述支撐結構(例如掩 模臺)MT可以是框架或臺，例如，其可以根據(jù)需要成為固定的或可移動 的。所述支撐結構(例如掩模臺)MT可以確保圖案形成裝置位于所需的位置上(例如相對于投影系統(tǒng))。在這里任何使用的術語"掩模版"或"掩 模"都可以認為與更上位的術語"圖案形成裝置"同義。
這里所使用的術語"圖案形成裝置"應該被廣義地解釋為表示能夠用 于將圖案在輻射束的橫截面上賦予輻射束、以便在襯底的目標部分上形成 圖案的任何裝置。應當注意，被賦予輻射束的圖案可能不與在襯底目標部 分上所需的圖案完全相符(例如如果該圖案包括相移特征或所謂輔助特 征)。通常，被賦予輻射束的圖案將與在目標部分上形成的器件中的特定 的功能層相對應，例如集成電路。
圖案形成裝置可以是透射式的或反射式的。圖案形成裝置的示例包括 掩模、可編程反射鏡陣列以及可編程液晶顯示(LCD)面板。掩模在光刻 中是公知的，并且包括諸如二元掩模類型、交替相移掩模類型、衰減相移 掩模類型和各種混合掩模類型之類的掩模類型。可編程反射鏡陣列的示例 采用小反射鏡的矩陣布置，可以獨立地傾斜每一個小反射鏡，以便沿不同 方向反射入射的輻射束。所述己傾斜的反射鏡將圖案賦予由所述反射鏡矩 陣反射的輻射束。
應該將這里使用的術語"投影系統(tǒng)"廣泛地解釋為包括任意類型的投 影系統(tǒng)，包括折射型、反射型、反射折射型、磁性型、電磁型和靜電型光 學系統(tǒng)、或其任意組合，如對于所使用的曝光輻射所適合的、或?qū)τ谥T如 使用浸沒液或使用真空之類的其他因素所適合的。這里使用的任何術語 "投影透鏡"可以認為是與更上位的術語"投影系統(tǒng)"同義。
如這里所示的，所述設備是透射型的(例如，采用透射式掩模)。替 代地，所述設備可以是反射型的(例如，采用如上所述類型的可編程反射 鏡陣列，或采用反射式掩模)。
所述光刻設備可以是具有兩個(雙臺)或更多襯底臺或"襯底支撐件" (和/或兩個或更多的掩模臺或"掩模支撐件")的類型。在這種"多臺" 機器中，可以并行地使用附加的臺或支撐件，或可以在將一個或更多個其 他臺或支撐件用于曝光的同時，在一個或更多個臺或支撐件上執(zhí)行預備步 驟。
所述光刻設備也可以是其中至少一部分襯底可以被具有相對高折射 率的液體(例如水)覆蓋的類型，以便填充投影系統(tǒng)和襯底之間的空隙。浸沒液也可以被應用到光刻設備中的其他空隙中(例如在所述掩模和投影 系統(tǒng)之間)。浸沒技術可以被用于增加投影系統(tǒng)的數(shù)值孔徑。這里所使用 的該術語"浸沒"并不意味著結構(例如襯底)必須浸在液體中，而僅僅 意味著在曝光過程中，液體位于投影系統(tǒng)和襯底之間。
參照圖1，所述照射器IL接收從輻射源SO發(fā)出的輻射束。該源和所 述光刻設備可以是分立的實體(例如當該源為準分子激光器時)。在這種 情況下，不會將該源考慮成光刻設備的組成部分，并且通過包括例如合適 的引導反射鏡和/或擴束器的束傳遞系統(tǒng)BD的幫助，將所述輻射束從所述
源SO傳到所述照射器IL。在其他情況下，所述源可以是所述光刻設備的 組成部分(例如當所述源是汞燈時)?？梢詫⑺鲈碨O和所述照射器IL、 以及如果需要時的所述束傳遞系統(tǒng)BD —起稱作輻射系統(tǒng)。
所述照射器IL可以包括配置用于調(diào)整所述輻射束的角強度分布的調(diào) 整器AD。通常，可以對所述照射器的光瞳平面中的強度分布的至少所述
外部和/或內(nèi)部徑向范圍(一般分別稱為(T-外部和C7-內(nèi)部)進行調(diào)整。此
外，所述照射器IL可以包括各種其他部件，例如積分器IN和聚光器CO。 可以將所述照射器用于調(diào)節(jié)所述輻射束，以在其橫截面中具有所需的均勻 性和強度分布。
所述輻射束B入射到保持在支撐結構(例如，掩模臺)MT上的所述 圖案形成裝置(例如，掩模MA)上，并且通過所述圖案形成裝置來形成 圖案。已經(jīng)穿過圖案形成裝置MA (例如掩模)之后，所述輻射束B通過 投影系統(tǒng)PS，所述PS將輻射束聚焦到所述襯底W的目標部分C上。通 過第二定位裝置PW和位置傳感器IF (例如，干涉儀器件、線性編碼器或 電容傳感器)的幫助，可以精確地移動所述襯底臺WT，例如以便將不同 目標部分C定位于所述輻射束B的輻射路徑中。類似地，例如在從掩模 庫的機械獲取之后，或在掃描期間，可以將所述第一定位裝置PM和另一 個位置傳感器(圖1中未明確示出)用于將圖案形成裝置MA(例如掩模) 相對于所述輻射束B的輻射路徑精確地定位。通常，可以通過形成所述第 一定位裝置PM的一部分的長行程模塊(粗定位)和短行程模塊(精定位) 的幫助來實現(xiàn)支撐結構(例如掩模臺)MT的移動。類似地，可以采用形 成所述第二定位裝置PW的一部分的長行程模塊和短行程模塊來實現(xiàn)所述襯底臺WT或"襯底支撐件"的移動。在步進機的情況下(與掃描器相反)， 所述支撐結構(例如掩模臺)MT可以僅與短行程致動器相連，或可以是
固定的?？梢允褂醚谀R標記M1、 M2和襯底對齊標記P1、 P2來對準 圖案形成裝置MA (例如掩模)和襯底W。盡管所示的襯底對齊標記占據(jù) 了專用目標部分，但是他們可以位于目標部分之間的空隙(這些公知為劃 線對齊標記)上。類似地，在將多于一個的管芯設置在掩模MA上的情況 下，所述掩模對齊標記可以位于所述管芯之間。
可以將所述設備用于以下模式的至少一種
1. 在步進模式中，在將賦予到所述輻射束的整個圖案一次投影到目
標部分C上的同時，將支撐結構(例如掩模臺)MT或"掩模支撐件"和 所述襯底臺WT或"襯底支撐件"保持為基本靜止(g卩，單一的靜態(tài)曝光)。 然后將所述襯底臺WT或"襯底支撐件"沿X和/或Y方向移動，使得可 以對不同目標部分C曝光。在步進模式中，曝光場的最大尺寸限制了在單 一的靜態(tài)曝光中成像的所述目標部分C的尺寸。
2. 在掃描模式中，在將賦予所述輻射束的圖案投影到目標部分C上 的同時，對支撐結構(例如掩模臺)MT或"掩模支撐件"和襯底臺WT 或"襯底支撐件"同步地進行掃描(即，單一的動態(tài)曝光)。襯底臺WT 或"襯底支撐件"相對于掩模臺MT或"掩模支撐件"的速度和方向可以 通過所述投影系統(tǒng)PS的(縮小)放大率和圖像反轉特征來確定。在掃描 模式中，曝光場的最大尺寸限制了單一的動態(tài)曝光中的所述目標部分的寬 度(沿非掃描方向)，而所述掃描運動的長度確定了所述目標部分的高度 (沿所述掃描方向)。
3. 在另一個模式中，將用于保持可編程圖案形成裝置的支撐結構(例 如掩模臺)MT或"掩模支撐件"保持為基本靜止狀態(tài)，并且在將賦予所 述輻射束的圖案投影到目標部分C上的同時，對所述襯底臺WT或"襯底 支撐件"進行移動或掃描。在這種模式中，通常采用脈沖輻射源，并且在 所述襯底臺WT或"襯底支撐件"的每一次移動之后、或在掃描期間的連 續(xù)輻射脈沖之間，根據(jù)需要更新所述可編程圖案形成裝置。這種操作模式 可易于應用于利用可編程圖案形成裝置(例如，如上所述類型的可編程反 射鏡陣列)的無掩模光刻中。也可以釆用上述使用模式的組合和/或變體，或完全不同的使用模式。 圖2示出用于保持圖案形成裝置的支撐結構(例如掩模臺)MT，也稱
作支撐件的高度示意圖。在圖2中，示出俯視圖，即圖2的紙平面與焦平面 或者圖案己經(jīng)被設置在其上的圖案形成裝置的表面重合。在圖2中，掃描 方向可以由Y方向形成。提供多個致動器。在該實施例中，四個致動器被
設置用于將力沿著掃描方向施加在支撐結構(例如掩模臺)上，這些致動
器由Yla、 Ylb、 Y2a、 Y2b表示。兩個致動器X1、 X2被設置用于沿著X方 向?qū)⒘κ┘釉谥渭?。另外，四個致動器Z1、 Z2、 Z3和Z4設置用于沿 著與圖2的紙平面垂直的方向?qū)⒘κ┘釉谥渭稀Ｋ镜呐渲孟鄬τ赬 方向以及Y方向是對稱的。在圖2所示的實施例中，可以獲得動態(tài)行為的改 善，提供例如更高的諧振頻率、更少的位置依賴動態(tài)行為，這將導致實現(xiàn) 更高的帶寬。四個Y致動器(Yla、 Ylb、 Y2a、 Y2b)允許在Y方向(即掃 描方向)上實現(xiàn)高的加速度，這將實現(xiàn)高生產(chǎn)量。 通過這種配置，可以獲得以下效果-
1) 沿著掃描方向和交叉掃描方向的對稱性
通常，臺的模式形狀(modeshape)(即以一定的特征頻率運動)具 有與慣量的主軸的方向相一致的取向。如果臺的對稱與測量方向一致，則 臺位置傳感器將沿著所述模式的方向進行測量。然后，這些傳感器將僅僅 看到與主方向相關聯(lián)的模式。如果臺的對稱軸不與測量方向平行，則位置 傳感器將看到所有模式的組合，因此，臺的動態(tài)特性將變得復雜得多。因 此，所有的致動器被放置在對稱的X、 Y、 Z位置上。
2) 圖案形成裝置(例如掩?；蜓谀０?位于中心，因此所有電機被 放置在外部
輻射通過圖案形成裝置(例如掩?；蜓谀０?，因此在圖案形成裝置 的位置上不能存在致動器或傳感器。然后，支撐結構(或臺)的電機被放 在圖案形成裝置和支撐結構的外部。
3) 沿著掃描方向(-Y方向)的很大的力-
沿著Y方向的掃描力是很大的，因此需要大的致動器。如果僅僅采用 一個Y致動器，則所述臺成為關于X軸不對稱的。前后的兩個Y致動器允許 大的力和對稱構造。4) 兩個X致動器-X電機沒有置于重心，這是因為圖案形成裝置位于此處。采用兩個X電機能夠使得"虛擬X電機"和域"虛擬Rz電機"處于支撐結構的重心。 注意到，Rz致動可以僅僅采用X電機、僅僅采用Y電機或采用所有的X和Y 電機實現(xiàn)。5) 在受限的直流致動上解決Y電機可以具有相同的致動信號，以使得它們用作位于支撐結構的重 心中的一個大的"虛擬Y電機"。6) 四個Z電機:四個Z電機允許"虛擬Z電機和Rx/Ry"處于支撐結構的重心CoG。 圖2還示出多個傳感器(在該示例中是傳感器S1、 S2、 S3和S4)，其 中每個傳感器配置用于測量沿著X方向的支撐件的位置。致動器可以包括任意類型的致動器，包括例如電機(例如線性電機、 壓電致動器、氣動致動器或其他任意類型的致動器)。傳感器同樣可以包 括任意類型的傳感器，例如干涉儀、編碼器、加速度傳感器、速度傳感器、 扭轉傳感器、應變量儀、以及電容、感應或其他類型的位置傳感器、速度 傳感器、加速度傳感器等。進而，盡管在圖2中示出支撐體，在本文中所 述的實施例也可以被用于任何其他的臺，例如襯底臺、液體供給系統(tǒng)、掩 模托架(maskblade)等。位置依賴參數(shù)可以包括任何類型的位置依賴參 數(shù)，例如位置、速度、加速度、加加速度等。由此，所述位置依賴參數(shù)可 以包括位置、速度、加速度等中的至少一個。致動器的超定數(shù)可以，但不 必須需要以與至少兩個傳感器測量的自由度相同的自由度啟動，所述至少 兩個傳感器用于以相同的自由度測量位置參數(shù)。因此，致動器的自由度可 以與傳感器的自由度相等。致動器的自由度和傳感器的自由度中的每個自 由度可以包括X、 Y和Z方向中的至少一個，和/或相對于X、 Y或Z方向的旋轉。圖3示出臺的位置依賴參數(shù)的控制圖，所述臺由ST示意性地表示，并 可以包括掩模臺，例如如圖2所示的支撐結構(例如掩模臺)MT、襯底臺 WT或任何其他臺。位置依賴參數(shù)(在該示例中為在Y方向上的位置)被控 制。由此，選定點r被提供給控制環(huán)。自然地，位置依賴參數(shù)也可以包括任何其他的位置依賴參數(shù)，例如速度、加速度、加加速度或其任意組合。 所述選定點可以包括一維或多維選定點后者的示例是六個自由度的選定 點。閉環(huán)控制環(huán)由控制器Cp。s、增益調(diào)度矩陣GS、增益平衡矩陣GB、臺ST和測量MS形成。矩陣GS可以將依賴于掃描位置的控制器的力轉變成在 重心上的力，所述GB矩陣可以將在重心上的力平衡為物理電機的力。控 制器Cp。s提供有誤差信號e，所述誤差信號e形成選定點r和測量系統(tǒng)MS的輸 出信號之差。控制器輸出信號COS被經(jīng)由增益調(diào)度矩陣GS和增益平衡矩陣 GB提供給臺ST。因為測量系統(tǒng)MS (例如干涉儀、編碼器等)測量位置依 賴參數(shù)(在該示例中是臺的位置)，并且在該示例中的測量系統(tǒng)包括干涉 儀，因此被提供給控制器Cp。s的所述誤差信號e由選定點信號r和測量系統(tǒng) 的輸出信號之差形成，由此表示如被測量系統(tǒng)MS測量的位置。測量系統(tǒng) 可以以六個自由度測量臺的位置，這種位置示意性地被圖2中的yifm表示。 圖3還示出前饋FF，前饋FF配置用于將前饋信號經(jīng)由增益調(diào)度矩陣GS和增 益平衡矩陣GB提供給臺ST;所述前饋根據(jù)選定點信號r確定。該閉環(huán)系統(tǒng)的帶寬(不考慮另一控制器Cdamp)在實際中可以被臺的諧振頻率所限制?？刂骗h(huán)的帶寬在實際情況下被保持在這種諧振頻率以下，否則可能出現(xiàn)不 穩(wěn)定、超調(diào)或類似的效果，這將增加臺的調(diào)整時間，由此惡化光刻設備的 性能。由于隨著生產(chǎn)量的增加，振動和干擾成為對于臺的精度和由此的重疊 的限制，所以需要增加閉環(huán)系統(tǒng)的帶寬，并減小或衰減這些振動(諧振)。 尤其，后者的行為可能由于多個原因而受益。第一，由于敏感性針對于高 頻可以等于一，所以通常為高頻的這些振動沒有被控制器所抑制。第二， 當諧振被衰減時，由于諧振的幅度和工廠設備的動態(tài)變化的降低，可以獲 得更高的帶寬。最后，由于臺的諧振模式，采用先進的控制技術的帶寬和前饋優(yōu)化(例如H4fe化、迭代學習控制等)將不能自動地給出最佳的重疊 性能。其原因是通常被控制的位置(非配置控制)在物理上不與曝光位置 相一致，這是因為圖案形成裝置的位置可能不被直接測量(圖案形成裝置 被定位在支撐結構上，且所述支撐結構以阿貝(Abbe)測量誤差盡可能小 的方式被測量)。 ，如圖3所示，另一控制器Cd^p被提供，將另一控制器輸出信號FCOS經(jīng)由增益平衡矩陣GB提供給臺ST。注意到，術語將"控制器輸出信號"、"另一控制器輸出信號"分別提供給臺的各自的"控制器"、"另一控制器" 可以被分別解釋為將"控制器輸出信號"、"另一控制器輸出信號"分別提 供給臺的致動器的各自的"控制器"、"另一控制器"，所述致動器能夠在 各個信號的控制下，或者被各個信號驅(qū)動的情況下，將力施加在臺上，或 者通過相應的致動提供臺的位移、位置、速度等。另一控制器Cd^p設置有 被至少兩個傳感器所測量的位置依賴參數(shù)。所述至少兩個傳感器設置用于 以相同的自由度(即，沿著相同的方向或者相對于相同的旋轉軸)測量各自的位置依賴參數(shù)。在圖3中，所述至少兩個傳感器輸出信號已經(jīng)被Xdif所 表示。在臺的固定或靜止狀態(tài)中，另一控制器輸出信號FCOS可能對于臺 沒有實質(zhì)作用，這是因為在這種固定的狀態(tài)下，以相同的自由度測量位置 的傳感器的輸出信號之間的差別將依賴于所采用的傳感器的類型而成為 已知恒定的或為零。于是，只要臺ST可以被考慮為剛體，經(jīng)由Cp。s的控制 器和測量系統(tǒng)MS提供的反饋，就能提供臺的控制。在臺的諧振模式被激 發(fā)的情況下，被用于以相同的自由度測量的至少兩個傳感器提供的位置依 賴參數(shù)之差將根據(jù)前述的恒定值或零值得出，所述控制器據(jù)此將另一控制 器輸出信號FCOS經(jīng)由增益平衡矩陣GB提供給臺。由于致動器的超定數(shù)量 已經(jīng)被提供，如以上參照圖2所述，致動器可以被主動地用于抑制已經(jīng)被 激發(fā)的諧振模式。作為示例，在Y致動器Y1、 Y2將趨于沿著X方向、相對 于支撐結構(例如掩模臺)MT的框架產(chǎn)生諧振的情況下，X致動器的合適 的致動能夠結合支撐結構(例如掩模臺)MT的框架的諧振本身，對于至 少部分抑制或主動衰減這種諧振模式具有輔助作用。術語"致動器是自由度超定的"將被理解為在臺是剛體的情況下， 提供比以這種自由度的致動所嚴格地需要的致動器更多的致動器。作為示 例， 一個致動器(或在每側上的一個致動器)將足以啟動臺，以提供沿一 方向的平移。通過提供沿著這種方向作用的更多的致動器，在臺的諧振、 扭轉模式等情況下提供的效應可以通過合適地驅(qū)動這些致動器而被抵消。 過度致動可以被定義為提供和/或驅(qū)動比在"剛體"運動控制中所需要的 致動器(也可以是傳感器)更多的致動器(也可以是傳感器)，過度致動 的臺因此可以設置有超定數(shù)量的致動器，即致動器的數(shù)量大于臺將在"剛體"運動控制途徑中被致動所具有的自由度數(shù)量。如上所述，臺的剛度可 以由此被主動地影響。實際上，由傳感器Xdif和另一控制器Cd，形成的控 制環(huán)輔助衰減臺的諧振模量，這是因為通過采用具有相同的自由度的至少 兩個傳感器，可以檢測在特定的自由度下的諧振現(xiàn)象的出現(xiàn)，另一控制器 據(jù)此驅(qū)動臺的致動器，以便試圖衰減或影響所檢測到的諧振現(xiàn)象。由此， 優(yōu)化致動器的超定數(shù)量，以使得力可以在不同的位置處被提供到臺上，因 此，能夠提供力的圖案，所述力至少部分地抵消臺的特定的諧振模式。致動器的超定數(shù)量可以提供其他裨益，這是由于其還可以用于保持臺 的對稱，用于通過提高其加速度而改善動態(tài)行為并增加生產(chǎn)量。另外，臺的重心CoG可以從參考基準或從位置依賴參數(shù)將被控制的臺的中心得出。如圖2所示的傳感器和致動器的超定數(shù)量可以被用于通過位 置依賴參數(shù)將被控制的臺的重心或參考基準與重心之間的差別，減少或去 除根據(jù)技術狀態(tài)出現(xiàn)的矛盾。增益平衡矩陣GB可以被考慮成配置用于提供在重心處的控制器輸出信號(可能是各種自由度下的控制器和其他的控制器)和臺的物理致動器 驅(qū)動信號之間的關系的矩陣。在該示例中，總共十個致動器被提供。它們可以設置有來自如圖3所示的控制系統(tǒng)的致動器驅(qū)動信號，也可能另外來 自采用其他自由度的類似控制環(huán)。在僅僅提供圖3的控制環(huán)的情況下，增 益平衡矩陣GB由此可能形成兩個控制器輸出信號(即，控制器輸出信號和另一控制器輸出信號與所述十個致動器的致動器驅(qū)動信號)之間的關 系。提供如圖3所示的增益調(diào)度矩陣GS，所述增益調(diào)度矩陣GS可以對于支撐結構(例如掩模臺)的位置測量在支撐結構(例如掩模臺)的不同部分 處發(fā)生的事實進行修正作為示例，依賴于掩模臺Y位置，不僅重心CoG 的X平移被測量，而且相對于重心的旋轉(Rz)、依賴于臺的Y位置的旋轉 效應也被測量。增益調(diào)度矩陣由此可以將一維或多維控制器輸出信號 COS(能夠結合來自前饋FF的前饋輸出信號)轉換為與重心CoG相關的控制信號。由此，增益調(diào)度分離依賴位置的控制力。在掃描過程中，關于圖案 形成裝置(例如掩?；蜓谀０?的信息被順序地復制給襯底。因此在掃描 過程中，支撐結構的控制點被改變。然后，在掃描過程的所有階段中，GS 是導致六個分離軸的依賴位置的力的轉換。增益調(diào)度矩陣和增益平衡矩陣提供致動器驅(qū)動矩陣的示例。通常，控制器和另一控制器由此可以經(jīng)由任 何的致動器驅(qū)動矩陣驅(qū)動致動器。以相同的自由度測量的至少兩個傳感器，可以位于任何合適的位置 上。至少一個傳感器可以位于其中臺的諧振模式以高幅度出現(xiàn)(例如出現(xiàn) 波腹)的位置上，由于在所述位置上，觀察到相對高的諧振波的幅度，因 此有可能提供傳感器的相對高的信號分量，所述特定的信號分量由諧振造 成。為了能夠提供相對于處于波腹位置處的所述一個傳感器的高傳感器輸 出信號差，另一個傳感器可以位于這樣的位置處在所述位置處，在臺的 諧振模式中，諧振波的靜止點將出現(xiàn)，例如波節(jié)將出現(xiàn)。致動器可以在臺 的多個部分處起作用。由于另一控制器可以驅(qū)動多個致動器，所以當所定 位的致動器在臺的、處于臺諧振模式中時可以形成波腹的一部分上起作用 時，可以實現(xiàn)諧振模式的有效阻尼。應當理解，致動器也可以位于其他位 置，例如位于其中在臺的上述參照模式下將出現(xiàn)波節(jié)的位置上，以使得可 以通過致動器在波節(jié)和波腹上提供不同的力，由此試圖主動地衰減諧振模 式。位置傳感器的功能是以盡可能小的阿貝(像差)誤差來測量圖案形成 裝置的位置。由此，至少需要三個水平的和三個垂直的位置傳感器。在光 刻設備中，以一定的規(guī)則在支撐結構(例如卡盤)上提供兩個Y編碼器和 一個X編碼器，且在透鏡上設置編碼器頭，以測量卡盤相對于透鏡頂部在X、 Y和Rz方向上的位置。在Z方向上，設置四個電容傳感器，以測量卡盤 至透鏡的Z、 Rx和Ry的位置?？梢匀哂嘣O置位置傳感器。因此，可以測量關于諧振的額外的位置信 息?？赡艽嬖谝部赡懿淮嬖谟糜跍y量諧振的額外的速度或加速度信號。在實施例中，傳感器被相互間隔一定距離地定位(例如在臺的邊緣外 部附近)，以允許對例如旋轉位置進行精確的測量。進而，在致動器包括 電機(例如線性電機)的實施例中，優(yōu)選地保持傳感器與這種致動器離幵 一定的距離，這是由于這種致動器的(電)磁場可能干擾傳感器的精確操 作。這尤其適用于Y致動器，這是由于沿著掃描方向的高加速度需要由這 種致動器生成大的力，這可能導致高的磁場。另一控制器可以通過任何合適的操作(例如相減)，確定相同自由度下的兩個傳感器的兩個傳感器信號之間的差。另一控制器也可以從所獲的 差值中減去一個恒定值，以便在沒有諧振模式出現(xiàn)的情況下導致具有基本 為零的信號。在此所述的實施例不僅輔助衰減臺的諧振模式，而且可以被替代地或 附加地用于增強臺的剛度，例如減少扭轉或其扭轉方式。通過如圖3所示的另一控制器(在該示例中是位置控制器Cp?！罚煽?制器形成的控制環(huán)的帶寬可以被增加，也可以導致臺的更快、更精確的定 位，或者隨著臺自身能夠以具有更低的剛度的方式被構建，而允許減小臺 的質(zhì)量另一控制器及超定數(shù)量的致動器的對應驅(qū)動輔助增強臺的有效剛 度。作為進一步的效果，臺的質(zhì)量降低可以允許臺的更高的加速度，由此 提供其他因素，以提升臺的更快的運動、更高的加速度和/或更短的調(diào)整 時間。盡管具有一個另一控制器的單個控制環(huán)已經(jīng)在圖3中被示出，但是臺 的定位可以由多個控制環(huán)來進行，每個控制環(huán)用于一個特定的自由度，合 適的另一控制器為這些控制環(huán)中的至少兩個而設置，以由此能夠使以多于 一個自由度的方式激發(fā)臺的諧振模式衰減，或者以不同的自由度衰減各種 諧振模式。圖4示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的臺控制方法的流程圖。在塊400中，超 定數(shù)量的致動器(具有至少一個自由度)設置用于對所述臺進行作用。在 塊410中，所述臺的位置依賴參數(shù)由至少兩個傳感器測量，每個傳感器用 于提供各自的傳感器信號，所述至少兩個傳感器用于以相同的自由度測量 各自的位置依賴參數(shù)。在塊420中，控制器輸出信號響應選定點和由至少 一個傳感器所測量的位置依賴參數(shù)確定。在塊430中，控制器輸出信號被 設置用于至少一個致動器。在塊440中，確定來自所述至少兩個傳感器所 測量的位置依賴參數(shù)之間的差。在塊450中，另一控制器輸出信號響應所 確定的差別而被確定。然后，在塊460中，另一控制器輸出信號被設置用 于至少一個致動器。上述參照根據(jù)本發(fā)明的實施例的臺和光刻設備的類似 益處、實施例和其他特征也可以應用于根據(jù)本發(fā)明的實施例的方法。 本發(fā)明的實施例可以被描述為 1 1)測量實際的六自由度(DoF)圖案形成裝置的位置并將位置設置為控制器的輸入；2) 將實際的六自由度位置與在掃描中的位置選定點進行比較，并計 算控制器誤差；3) 計算將最小化控制器誤差的六自由度修正力，采用比例、積分、 微分和低通及陷頻濾波器控制器，將前饋力施加給選定點，以能夠快速調(diào) 整；4) 將六自由度控制器力轉換成在重心上的分離的六個自由度力，以 補償在掃描過程中的位置依賴性；5) 在"另一控制器"中，測量N個自由度的諧振位置、速度或加速 度信號，采用可獲得N個自由度的傳感器或者增加額外的傳感器(N為l、 2、 3、 4、 5或6);6) 在"另一控制器"中，計算用于利用比例、積分、微分和低通及 陷頻濾波器控制器衰減諧振的N個自由度的力；7) 將"另一控制器"的輸出從正常的控制器施加到重力的中心；8) 控制器輸出將在重心上的所有的邏輯上的六個自由度的力轉變 成至少六個致動器控制信號，所述控制信號驅(qū)動物理電機的放大器?；氐綀D3，另一控制器可以包括任何合適類型的控制器，例如比例積 分微分(PID)控制器或任何其他類型的控制器(例如積分控制器、比例 控制器等)。另一控制器可以以合適的硬件(例如模擬電路或其他控制電 路)實現(xiàn)，然而，所述控制器也可以以軟件指令的形式實現(xiàn)，所述軟件指 令可以被載入合適的處理裝置，例如光刻設備的已有的處理裝置。類似地， 如圖3所示的增益平衡矩陣GB以及增益調(diào)度矩陣GS可以由合適的硬件(例如合適的模擬電路)形成，或采用由光刻設備的處理裝置執(zhí)行的合適的指 令形成。盡管在本文中可以做出具體的參考，將所述光刻設備用于制造IC， 但應當理解這里所述的光刻設備可以有其他的應用，例如，集成光學系統(tǒng)、 磁疇存儲器的引導和檢測圖案、平板顯示器、液晶顯示器、薄膜磁頭的制 造等。對于普通的技術人員，應該理解的是，在這種可替代的應用的上下 文中，可以將其中使用的任意術語"晶片"或"管芯"分別認為是與更上 位的術語"襯底"或"目標部分"同義。這里所指的襯底可以在曝光之前或之后進行處理，例如在軌道(一種典型地將抗蝕劑層應用到襯底上，并 且對已曝光的抗蝕劑進行顯影的工具)、度量工具和/或檢驗工具中。在 可應用的情況下，可以將所述公開內(nèi)容應用于這種和其他襯底處理工具 中。另外，所述襯底可以處理一次以上，例如為產(chǎn)生多層IC，使得這里使 用的所述術語"襯底"也可以表示已經(jīng)包含多個己處理層的襯底。盡管以上已經(jīng)做出了具體的參考，在光學光刻的上下文中使用本發(fā)明 的實施例，但應該理解的是，本發(fā)明可以用于其他應用中，例如壓印光刻， 并且只要情況允許，不局限于光學光刻。在壓印光刻中，圖案形成裝置中 的拓撲限定了在襯底上產(chǎn)生的圖案。可以將所述圖案形成裝置的拓撲印刷 到提供給所述襯底的抗蝕劑層中，在其上通過施加電磁輻射、熱、壓力或 其組合來使所述抗蝕劑固化。在所述抗蝕劑固化之后，所述圖案形成裝置 從所述抗蝕劑上移走，并在抗蝕劑中留下圖案。這里使用的術語"輻射"和"束"包含全部類型的電磁輻射，包括紫外輻射(例如具有約365、 248、 193、 157或126 nm的波長)和極紫外 輻射(例如具有5-20nm范圍內(nèi)的波長)，以及粒子束，例如離子束或電子 束。在上下文允許的情況下，所述術語"透鏡"可以表示各種類型的光學 部件中的任何一種或它們的組合，包括折射式、反射式、磁性式、電磁式 和靜電式的光學部件。盡管以上已經(jīng)描述了本發(fā)明的特定的實施例，但是應該理解的是本發(fā)明可以與上述不同的形式實現(xiàn)。例如，本發(fā)明可以采取包含用于描述上述公開的方法的一個或更多機器可讀指令序列的計算機程序的形式，或者采 取具有在其中存儲的這種計算機程序的數(shù)據(jù)存儲介質(zhì)的形式(例如，半導體存儲器、磁盤或光盤)。以上的描述是說明性的，而不是限制性的。因此，本領域的技術人員 應當理解，在不背離所附的權利要求的保護范圍的條件下，可以對本發(fā)明 進行修改。
權利要求
1.一種用于光刻設備的臺系統(tǒng)，所述臺系統(tǒng)包括臺；多個致動器，所述多個致動器被配置用于對臺進行作用，所述致動器在致動器的自由度上是超定的；至少兩個傳感器，所述至少兩個傳感器的每一個被配置用于測量臺的位置依賴參數(shù)，并用于提供各自的傳感器信號，所述至少兩個傳感器被設置用于測量在傳感器自由度上的各自的位置依賴參數(shù)；控制器，所述控制器被配置用于響應選定點和被至少一個傳感器測量的位置依賴參數(shù)，將控制器輸出信號提供給所述多個致動器中的至少一個；以及另一控制器，所述另一控制器設置有由至少兩個傳感器所測量的位置依賴參數(shù)，所述另一控制器被構造用于確定來自至少兩個傳感器的位置依賴參數(shù)之間的差，并響應所確定的差，將另一控制器輸出信號提供到所述多個致動器中的至少一個。
2. 根據(jù)權利要求l所述的臺系統(tǒng)，其中，所述控制器和另一控制器被 配置用于經(jīng)由致動器驅(qū)動矩陣驅(qū)動所述多個致動器。
3. 根據(jù)權利要求l所述的臺系統(tǒng)，其中，所述至少兩個傳感器中的一 個位于當臺處于諧振模式時諧振波激勵出現(xiàn)的位置處。
4. 根據(jù)權利要求3所述的臺系統(tǒng)，其中，所述諧振波激勵是波腹。
5. 根據(jù)權利要求3所述的臺系統(tǒng)，其中，所述至少兩個傳感器中的另一個位于當臺處于諧振模式時諧振波靜止點出現(xiàn)的位置處。
6. 根據(jù)權利要求5所述的臺系統(tǒng)，其中，所述諧振波靜止點是波節(jié)。
7. 根據(jù)權利要求l所述的臺系統(tǒng)，其中，所述另一控制器被配置用于 將另一控制器輸出信號提供給致動器中的、被定位用于對臺的在臺諧振模 式下形成諧振波激勵的一部分進行作用的一個致動器。
8. 根據(jù)權利要求7所述的臺系統(tǒng)，其中，所述諧振波激勵是波腹。
9. 根據(jù)權利要求l所述的臺系統(tǒng)，其中，提供至少兩組的至少兩個傳感器和至少兩個另一控制器，每個另一控制器被配置用于響應來自各個組 的傳感器的輸入信號，提供另一控制器輸出信號。
10. 根據(jù)權利要求l所述的臺系統(tǒng)，其中，所述臺包括支撐件，所述支撐件被配置用于支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝 置用于將圖案在光刻設備的輻射束的橫截面上賦予輻射束， 其中所述多個致動器包括.，至少兩個掃描方向致動器，每個掃描方向致動器設置在所述支撐 件的邊緣處，以沿著掃描方向?qū)⒘κ┘拥剿鲋渭?；至少兩個第二方向致動器，所述至少兩個第二方向致動器位于所 述支撐件的各側處，以沿著基本垂直于所述掃描方向的第二方向并在光刻 設備的焦平面上，將力施加到所述支撐件上；以及至少三個第三方向致動器，其中每個第三方向致動器位于所述支 撐件的邊緣處，以沿著基本垂直于所述焦平面的第三方向?qū)⒘κ┘拥剿?支撐件上，其中所述臺系統(tǒng)在六個自由度上可用至少七個致動器控制。
11. 根據(jù)權利要求10所述的臺系統(tǒng)，其中，如沿著掃描方向所見，掃 描方向致動器被連接到所述支撐件的前側，而第二方向致動器被連接到所 述支撐件的后側。
12. —種光刻設備，所述光刻設備包括照射系統(tǒng)，其被配置用于調(diào)節(jié)輻射束；圖案形成裝置支撐件，其被構建用于支撐圖案形成裝置，所述圖案形 成裝置被配置用于將圖案在輻射束的橫截面上賦予輻射束，以形成圖案化的輻射束；襯底臺支撐件，其被構建用于保持襯底；以及投影系統(tǒng)，其被配置用于將圖案化的輻射束投影到襯底的目標部分上；其中，所述支撐件中的至少一個由臺系統(tǒng)支撐，所述臺系統(tǒng)包括 臺.多個致動器，所述多個致動器被配置用于對臺進行作用，所述致 動器在致動器的自由度上是超定的；至少兩個傳感器，每個傳感器被配置用于測量臺的位置依賴參 數(shù)，并用于提供各自的傳感器信號，所述至少兩個傳感器被設置用于測量 在傳感器自由度上的各自的位置依賴參數(shù)；控制器，其被配置用于響應選定點和被至少一個傳感器測量的位 置依賴參數(shù)，將控制器輸出信號提供給所述多個致動器中的至少一個；以 及另一控制器，所述另一控制器設置有由所述至少兩個傳感器所測 量的位置依賴參數(shù)，所述另一控制器被配置用于確定來自至少兩個傳感器 的位置依賴參數(shù)之間的差，并響應所確定的差，將另一控制器輸出信號提 供到所述多個致動器中的至少一個。
13. 根據(jù)權利要求12所述的光刻設備，其中，所述控制器和另一控制 器被配置用于經(jīng)由致動器驅(qū)動矩陣驅(qū)動致動器。
14. 根據(jù)權利要求12所述的光刻設備，其中，所述至少兩個傳感器中 的一個位于當臺處于諧振模式時諧振波激勵出現(xiàn)的位置。
15. 根據(jù)權利要求14所述的光刻設備，其中，所述諧振波激勵是波腹。
16. 根據(jù)權利要求14所述的光刻設備，其中，所述至少兩個傳感器中 的另一個位于當臺處于諧振模式時諧振波靜止點出現(xiàn)的位置。
17. 根據(jù)權利要求16所述的光刻設備，其中，所述諧振波靜止點是波節(jié)。
18. 根據(jù)權利要求12所述的光刻設備，其中，所述另一控制器被配置 用于將另一控制器輸出信號提供給致動器中的、被定位用于對臺的在臺諧 振模式下形成諧振波激勵的一部分進行作用的一個致動器。
19. 根據(jù)權利要求18所述的光刻設備，其中，所述諧振波激勵是波腹。
20. 根據(jù)權利要求12所述的光刻設備，其中，提供至少兩組的至少兩 個傳感器和至少兩個另一控制器，每個另一控制器被配置用于響應來自各 個組的傳感器的輸入信號，提供另一控制器輸出信號。
21. 根據(jù)權利要求12所述的光刻設備，其中，多個致動器包括至少兩個掃描方向致動器，每個掃描方向致動器設置在至少一個支撐 件的邊緣處，以沿著掃描方向?qū)⒘κ┘拥剿鲋辽僖粋€支撐件上；至少兩個第二方向致動器，所述第二方向致動器位于所述至少一個支撐件的各側處，以沿著基本垂直于所述掃描方向的第二方向并在光刻設備 的焦平面上，將力施加到所述至少一個支撐件上；以及至少三個第三方向致動器，其中每個第三方向致動器位于所述至少一 個支撐件的邊緣上，以沿著基本垂直于所述焦平面的第三方向?qū)⒘κ┘拥?所述至少一個支撐件上，其中所述臺系統(tǒng)優(yōu)選在六個自由度上、可由至少七個致動器控制。
22. 根據(jù)權利要求21所述的光刻設備，其中，如沿著掃描方向所見， 掃描方向致動器被連接到所述至少一個支撐件的前側，而第二方向致動器 被連接到所述至少一個支撐件的后側。
23. —種臺控制方法，所述方法包括步驟提供多個致動器，所述多個致動器被配置用于對臺進行作用，所述多 個致動器在致動器的自由度上是超定的；由至少兩個傳感器測量臺的位置依賴參數(shù)，所述至少兩個傳感器中的 每個被配置用于提供各自的傳感器信號，所述至少兩個傳感器被配置用于測量在傳感器自由度中的各自的位置依賴參數(shù)；響應選定點和由至少一個傳感器測量的位置依賴參數(shù)確定控制器輸 出信號；將控制器輸出信號提供給至少一個致動器； 確定由至少兩個傳感器所測量的位置依賴參數(shù)之間的差； 響應所確定的差確定另一控制器輸出信號；以及 將另一控制器輸出信號提供給至少一個致動器。
24. 根據(jù)權利要求23所述的方法，其中，所述致動器由控制器輸出信號和另一控制器輸出信號經(jīng)由致動器驅(qū)動矩陣驅(qū)動。
25. 根據(jù)權利要求23所述的方法，其中，所述至少兩個傳感器中的一個位于當臺處于諧振模式時諧振波激勵出現(xiàn)的位置。
26. 根據(jù)權利要求25所述的方法，其中，所述諧振波激勵是波腹。
27. 根據(jù)權利要求25所述的方法，其中，所述至少兩個傳感器中的另 一個位于當臺處于諧振模式時諧振波靜止點出現(xiàn)的位置。
28. 根據(jù)權利要求27所述的方法，其中，所述諧振波靜止點是波節(jié)。
29. 根據(jù)權利要求23所述的方法，其中，所述另一控制器被配置用于將另一控制器輸出信號提供給致動器中的、被定位用于對臺的在臺諧振模 式下形成諧振波激勵的一部分進行作用的一個致動器。
30. 根據(jù)權利要求29所述的方法，其中，所述諧振波激勵是波腹。
31. 根據(jù)權利要求23所述的方法，其中，提供至少兩組的至少兩個傳 感器，響應來自各組傳感器的各個輸入信號確定各個另一控制器輸出信 號。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種用于光刻設備的臺系統(tǒng)，所述臺系統(tǒng)包括臺；超定數(shù)量的致動器，所述致動器用于對臺進行作用；至少兩個傳感器，用于測量臺的位置依賴參數(shù)，并用于提供各個傳感器信號。所述至少兩個傳感器設置用于測量在相同的自由度上的各個位置依賴參數(shù)?？刂破髟O置用于根據(jù)選定點和被至少一個傳感器測量的位置依賴參數(shù)，將控制器輸出信號提供給至少一個致動器。另一控制器設置有由傳感器所測量到的位置依賴參數(shù)。另一控制器確定來自傳感器的位置依賴參數(shù)之間的差別，并根據(jù)所確定的差別，將另一控制器輸出信號提供到至少一個致動器。并且，本發(fā)明公開了一種包括所述臺系統(tǒng)的光刻設備。
文檔編號G03F7/20GK101271282SQ20081008240
公開日2008年9月24日 申請日期2008年3月3日 優(yōu)先權日2007年3月1日
發(fā)明者亨瑞克斯·赫爾曼·瑪麗·考克斯, 尤塞夫·卡若爾·瑪麗亞·德沃斯, 羅納德·卡斯帕·卡恩斯特, 讓米汀·艾扎爾·凱米蒂 申請人:Asml荷蘭有限公司