專利名稱：液晶顯示面板及其半導(dǎo)體陣列基板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種液晶顯示面板及其半導(dǎo)體陣列基板(semiconductor array substrate),且尤其涉及一種超高開口率的液晶顯示面板及其半導(dǎo)體 陣列基板。
背景技術(shù)：
近年來隨著薄型化顯示技術(shù)的進(jìn)步，各種薄型化顯示裝置挾其體積小、重 量輕、低輻射及低耗電等特點(diǎn)，成為消費(fèi)者選購顯示器或電視時的首選。在各 種薄型化顯示裝置中，由于液晶顯示裝置的價格相對低廉，且市面上可見的產(chǎn) 品線齊全，使得液晶顯示裝置成為最受市場矚目的薄型化顯示裝置之一。然而， 隨著液晶顯示裝置在市場上的接受度大增，消費(fèi)者對于液晶顯示裝置的畫面質(zhì) 量也有日益嚴(yán)苛的要求，例如顯示亮度及對比度等。目前業(yè)界發(fā)展出一種超高開口率(S叩er-High Aperture, SHA)的液晶顯 示面板，通過設(shè)置一平坦層于薄膜晶體管基板的結(jié)構(gòu)中，可增加像素電極的面 積，以提高開口率，進(jìn)而提升顯示對比度及亮度。請參照圖l，其繪示現(xiàn)有技 術(shù)中應(yīng)用超高開口率技術(shù)的液晶顯示面板的示意圖。液晶顯示面板100包括彩 色濾光片基板110、液晶層130以及薄膜晶體管基板150。 SHA技術(shù)中，是將 一高透性特殊樹脂的平坦層159設(shè)置于像素電極161與薄膜晶體管基板150 的金屬配線(例如數(shù)據(jù)線153)的間。平坦層159具有平坦的表面，可降低光 源扭曲散射或折射的現(xiàn)象。另外，平坦層159具有一厚度，用以增加像素電極 161與數(shù)據(jù)線(data line) 153的距離，降低數(shù)據(jù)線153與像素電極161的間 電容效應(yīng)的影響，以及像素電極161與金屬配線間發(fā)生短路的風(fēng)險。如此可增 加對應(yīng)每一像素的像素電極161的面積，從而提升開口率，增加顯示亮度，進(jìn) 一步提升顯示質(zhì)量。另外，液晶層130對應(yīng)于像素電極161的邊緣處具有多個 邊緣電場區(qū)(edge electric filed region) B。然而，在液晶顯示面板100的制作過程中，當(dāng)進(jìn)行彩色濾光片基板110與薄膜晶體管基板150的對組時，容易發(fā)生對位偏移的現(xiàn)象。當(dāng)彩色濾光片基板110與薄膜晶體管基板150發(fā)生偏移時，彩色濾光片基板110上的黑色矩陣 117便無法正確地對應(yīng)位于相鄰像素電極161間的間隙161a上方。如此一來， 沿著特定角度穿透通過液晶層130的邊緣電場區(qū)B的背光光線D，便無法受到 黑色矩陣117的阻擋。因而會使液晶顯示面板100發(fā)生斜向漏光的現(xiàn)象，并導(dǎo) 致顯示質(zhì)量的下降。為了解決對組偏移導(dǎo)致斜向漏光的現(xiàn)象，目前業(yè)界常見的解決辦法是直接 增加位于彩色濾光片基板110的黑色矩陣117的寬度，以阻擋沿特定角度穿透 通過邊緣電場區(qū)B的背光光線D。然而增加黑色矩陣117的寬度相對降低了液 晶顯示面板100的開口率。因此，如何在增加開口率的同時，避免斜向漏光的現(xiàn)象發(fā)生，實(shí)為目前亟 待解決的問題之一。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于提供一種半導(dǎo)體陣列基板及液晶顯示面 板，將不透光層設(shè)置于位在像素電極與透明基材的間的平坦層中，并且使不透 光層部分地重迭于像素電極下方，如此可避免應(yīng)用半導(dǎo)體陣列基板的液晶顯示 面板產(chǎn)生斜向漏光的現(xiàn)象，進(jìn)一步提升顯示對比度，維持顯示質(zhì)量。為實(shí)現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明，提出一種半導(dǎo)體陣列基板，其包括一透明 基材、 一平坦層、多個像素電極以及一不透光層。平坦層覆蓋于透明基材上， 像素電極以陣列排列的方式設(shè)置于平坦層上，且各兩相鄰的像素電極間隔一間 隙。不透光層設(shè)置于平坦層中，不透光層實(shí)質(zhì)上位于每一間隙的下方。不透光 層兩側(cè)具有一延伸部，并往每一間隙的兩側(cè)延伸至部分像素電極的下方處。不 透光層的厚度實(shí)質(zhì)上至少為平坦層厚度的二分之一。而且，為實(shí)現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明，另提出一種液晶顯示裝置，其包括 一彩色濾光片基板、 一液晶層以及一半導(dǎo)體陣列基板。液晶層設(shè)置于半導(dǎo)體陣 列基板及彩色濾光片基板之間。半導(dǎo)體陣列基板設(shè)置于彩色濾光片基板之一 側(cè)，且包括一透明基材、 一平坦層、多個像素電極及一不透光層。平坦層覆蓋 于透明基材上，像素電極是以陣列排列方式設(shè)置于平坦層上，各兩相鄰的像素 電極間隔一間隙。液晶層具有多個邊緣電場區(qū)，此些邊緣電場區(qū)鄰近像素電極的邊緣處。不透光層設(shè)置于平坦層中，且實(shí)質(zhì)上位于每一間隙下方，用以阻擋 一背光光線沿一角度穿透通過此些邊緣電場區(qū)。不透光層的兩側(cè)具有一延伸 部，其往每一間隙的兩側(cè)延伸至部分像素電極的下方，并且凸出于每一邊緣電場區(qū)對應(yīng)各像素電極的下方處。不透光層的厚度實(shí)質(zhì)上至少為平坦層厚度的二 分之一。本發(fā)明不透光層的寬度實(shí)質(zhì)上小于現(xiàn)有技術(shù)中超高開口率(SHA)的液晶顯示面板中不透光層的寬度，故可提高開口率，提升顯示亮度。另外，部分的 沿著一角度穿透通過液晶顯示面板的背光光線，被不透光層阻擋，無法穿透通 過邊緣電場區(qū)。如此可避免斜向透光產(chǎn)生，提高液晶顯示面板的對比度。整體 而言，依照本發(fā)明的半導(dǎo)體陣列基板及液晶顯示面板，可提高光學(xué)效率以及顯示質(zhì)量。以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描述，但不作為對本發(fā)明的 限定。


圖1繪示現(xiàn)有技術(shù)中應(yīng)用超高開口率技術(shù)的液晶顯示面板的示意圖-，圖2繪示依照本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示面板的側(cè)視剖面圖； 圖3繪示圖2中對應(yīng)一條數(shù)據(jù)線處的液晶顯示面板的示意圖； 圖4及圖5分別繪示具有不同寬度及厚度的不透光層的液晶顯示面板的示 意圖；圖6A繪示圖2中數(shù)據(jù)線、掃描線、半導(dǎo)體開關(guān)件及像素電極的俯視圖；以及圖6B繪示圖2中像素電極及不透光層的俯視圖。其中，附圖標(biāo)記100、 200:液晶顯示面板110、 210:彩色濾光片基板117:黑色矩陣130、 230:液晶層150、 250、 250，、 250":薄膜晶體管基板 153、 253:數(shù)據(jù)線159、 259:平坦層 161、 261:像素電極 161a、 261a:間隙 251:透明基材 252:掃描線 254:半導(dǎo)體開關(guān)件 255:保護(hù)層257、 257，、 257":不透光層257a:延伸部B、 E:邊緣電場區(qū)D、 L:背光光線tl、 tr、 tl":不透光層的厚度 t2:平坦層的厚度Wl、 Wl'、 Wl":不透光層的寬度w2:數(shù)據(jù)線的寬度 e:角度具體實(shí)施方式
依照本發(fā)明的半導(dǎo)體陣列基板及液晶顯示面板的實(shí)施例，采用將平坦層設(shè) 置于透明基材與像素電極之間的方式，使得像素電極與數(shù)據(jù)線路相隔一距離， 且像素電極部分地重迭于數(shù)據(jù)線上方(上述仍為現(xiàn)有技術(shù)中，僅為說明之用)。 本發(fā)明的實(shí)施例是將不透光層設(shè)置于平坦層中，并且使其厚度至少為平坦層厚 度的二分之一。由于不透光層的兩側(cè)具有延伸部，其朝向相鄰像素電極間間隙 的兩側(cè)延伸至部分的像素電極下方，并且凸出于液晶層的邊緣電場對應(yīng)像素電 極的下方處。因此，不透光層具有足夠的寬度及厚度，以阻擋背光光線沿一角 度穿透通過液晶層的邊緣電場，可避免液晶顯示面板斜向漏光的現(xiàn)象。以下提 出依照本發(fā)明的實(shí)施例的詳細(xì)說明，然實(shí)施例僅用以作為范例說明，并不會限 縮本發(fā)明欲保護(hù)的范圍。再者，實(shí)施例中的附圖也省略不必要的元件，以清楚 顯示本發(fā)明的技術(shù)特點(diǎn)。請參照圖2，其繪示依照本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示面板的側(cè)視剖面圖。液晶顯示面板200包括一彩色濾光片基板210、 一液晶層230以及一半導(dǎo)體陣列 基板250。液晶層230設(shè)置于半導(dǎo)體陣列基板210及彩色濾光片基板250之間。 半導(dǎo)體陣列基板250設(shè)置于彩色濾光片基板210的一側(cè)，并且包括一透明基材 251、 一平坦層259、多個像素電極261及一不透光層257。平坦層259覆蓋于 該透明基材251上。像素電極261以陣列排列方式設(shè)置于平坦層259上，且每 兩相鄰的像素電極261之間間隔一間隙261a。液晶層230具有多個邊緣電場 區(qū)E，此些邊緣電場區(qū)E對應(yīng)于鄰近像素電極261的邊緣處。不透光層257設(shè) 置于平坦層259中，且其厚度實(shí)質(zhì)上至少為平坦層259厚度的二分之一。不透 光層257實(shí)質(zhì)上對應(yīng)位于每一間隙261a下方，且不透光層257的兩側(cè)分別具 有一延伸部257a，往每一間隙261a的兩側(cè)延伸至部分像素電極261的下方， 且凸出于每一邊緣電場區(qū)E對應(yīng)各像素電極261的下方處。更進(jìn)一步來說，本實(shí)施例的半導(dǎo)體陣列基板250更包括多條數(shù)據(jù)線253， 此些數(shù)據(jù)線253以相互平行的方式設(shè)置于透明基板251上。請參照圖3，其繪 示圖2中對應(yīng)一條數(shù)據(jù)線處的液晶顯示面板的示意圖。不透光層257覆蓋于對 應(yīng)的數(shù)據(jù)線253上，且，各條數(shù)據(jù)線253的寬度w2至少實(shí)質(zhì)上小于或是相等 于不透光層257的寬度wl。本實(shí)施例中，不透光層257的厚度tl實(shí)質(zhì)上為平 坦層259厚度t2的二分之一，且不透光層257寬度wl大于數(shù)據(jù)線253的寬度 w2。不透光層257用以阻擋一背光光線L沿一角度e穿透通過邊緣電場區(qū)E， 使得沿著角度6穿透通過液晶顯示面板200的背光光線L不會落入邊緣電場 區(qū)E的范圍內(nèi)。因此，沿著角度9通過液晶顯示面板200的背光光線L不會 受到邊緣電場區(qū)E中非規(guī)則排列的液晶分子偏折，避免了液晶顯示面板200 于顯示畫面時發(fā)生斜向漏光的現(xiàn)象，可提高顯示對比度，進(jìn)一步提升顯示質(zhì)量。另外，不透光層257的配置方式不限制于圖3所示者。本實(shí)施例中還可利 用改變不透光層257的厚度tl，來改變不透光層257所需的寬度，相應(yīng)地改 變不透光層257與像素電極261重迭的面積，進(jìn)一步改變液晶顯示面板200 的開口率。請參照圖4及圖5，其分別繪示具有不同寬度及厚度的不透光層的 液晶顯示面板的示意圖。圖4所繪示的液晶顯示面板200中，不透光層257' 的厚度tl，大于平坦層259厚度t2的二分之一，且不透光層257'的寬度wl' 大于數(shù)據(jù)線的寬度253。也即圖4中不透光層257，的厚度tl，，大于圖3中 不透光層257的厚度tl。由于不透光層257'需具有足夠的寬度wl'，以阻擋沿角度6穿透通過邊緣電場區(qū)E的背光光線L，因此不透光層257'可具有 一小于不透光層257的寬度wl'，足以阻擋沿角度9穿透通過邊緣電場區(qū)E 的背光光線L。再者，圖5的不透光層257''的厚度tl''實(shí)質(zhì)上相等于平 坦層259的厚度t2，且不透光層257'，的寬度wl'，實(shí)質(zhì)上相等于數(shù)據(jù)線 253的寬度w2。也即圖5中不透光層257'，的厚度U，，，大于圖4中不透 光層257，的厚度tl';圖5中不透光層257，，的寬度wl'，，大于圖4 中不透光層257'的寬度wl'。如此可阻擋沿角度9穿透通過邊緣電場區(qū)E 的背光光線L，并且同時可進(jìn)一歩提升液晶顯示面板200的開口率。實(shí)際應(yīng)用上，當(dāng)角度e接近約90度角或者接近大約180度角時，可視為 沿著液晶層230中液晶分子軸向通過液晶層230 (包含前述的多個邊緣電場區(qū) E)的非斜向漏光的背光光線L。因此，本實(shí)施例中不透光層257較佳地是用 以阻擋沿著大約45度角穿透通過邊緣電場區(qū)E的背光光線L。以下以數(shù)據(jù)線 253的寬度w2為12 " m為例，將平坦層259厚度t2對不透光層257厚度U 的比值，與不透光層257寬度wl的實(shí)際數(shù)據(jù)做成表-一，以進(jìn)行說明。平坦層厚度對不透光層厚度的比值不透光層寬度Um)0. 5150.614. 40. 713. 80.813. 20.912.61.012表一由表一可知，當(dāng)平坦層259厚度t2對于不透光層257厚度tl的比值增加 時，也即不透光層257的厚度tl增加時，不透光層257的寬度wl逐漸縮小。 當(dāng)不透光層257于透明基材251上的寬度wl減少時，相對增加了液晶顯示面 板200的開口率。另外，根據(jù)實(shí)際測量結(jié)果，在各條數(shù)據(jù)線寬度均為約12um 的條件下，且不透光層設(shè)置于彩色濾光片基板上的超高開口率(Super-High Aperture, SHA)液晶顯示面板，其不透光層的寬度實(shí)際上大約為16.5um。 而本實(shí)施例的液晶顯示面板200中，具有厚度tl至少為平坦層259厚度t2的一半的不透光層257，其寬度wl至多約為15um。相較于現(xiàn)有技術(shù)中的不透 光層寬度，本實(shí)施例的不透光層257可減少"覆蓋于透明基材251上的面積，相 對提升開口率，進(jìn)一步改善液晶顯示面板20的光學(xué)效率。另外一方面，本實(shí)施例的液晶顯示面板200更包括多個半導(dǎo)體開關(guān)件及多 條掃描線(scan line)。請參照圖6A及圖6B，圖6A繪示圖2中數(shù)據(jù)線、掃 描線、半導(dǎo)體開關(guān)件及像素電極的俯視圖；圖6B繪示圖2中像素電極及不透 光層的俯視圖。像素電極261以陣列排列方式設(shè)置于平坦層(未顯示于圖6A 及圖6B中)上，此些半導(dǎo)體開關(guān)件254也以陣列排列方式設(shè)置于透明基材251 上，每一半導(dǎo)體開關(guān)件254連接于對應(yīng)的數(shù)據(jù)線253、對應(yīng)的掃描線252及對 應(yīng)的像素電極261。此些半導(dǎo)體開關(guān)件254例如是多個薄膜晶體管(Thin-Film Transistor, TFT)，此半導(dǎo)體陣列基板例如是薄膜晶體管基板(TFT substrate)。此些掃描線252以相互平行的方式設(shè)置于透明基材251與平坦 層之間。不透光層257實(shí)質(zhì)上更位于此些掃描線252上方，并且更覆蓋于此些 半導(dǎo)體開關(guān)件254。另外，本實(shí)施例的液晶顯示面板200還可選擇性地包括一保護(hù)層 (passivation layer) 255。如圖2所示，保護(hù)層255設(shè)置于平坦層259與透 明基材251之間，并且至少覆蓋于數(shù)據(jù)線253上，可阻擋液晶顯示面板200 中離子的侵蝕、提升絕緣性并且減緩電場干擾。依照本發(fā)明實(shí)施例的半導(dǎo)體陣列基板的制造方法，除了利用習(xí)用的光掩模 制作過程于透明基材251上形成掃描線252及數(shù)據(jù)線253，進(jìn)而于完成半導(dǎo)體 開關(guān)件254之后，再利用例如是旋轉(zhuǎn)涂布(spin coat)的方式涂布不透光材 料，使其完整覆蓋于透明基材251及半導(dǎo)體開關(guān)件254。再來，利用曝光顯影 的方式將對應(yīng)于數(shù)據(jù)線253及半導(dǎo)體開關(guān)件254外的處，以及選擇性地對應(yīng)于 掃描線252外之處的不透光材料移除，以形成圖案化后的不透光層257。接著， 形成具有平坦上表面的平坦層259，且使平坦層259至少完全覆蓋不透光層 257。而后，將像素電極261形成于平坦層259上。如此完成如圖3或圖4中 所示的半導(dǎo)體陣列基板250或250'。此外，此處所描述的半導(dǎo)體陣列基板250 或250'的制作過程中，也可選擇性地在涂布不透光材料之前，先利用濺鍍或 其它習(xí)用的制作過程步驟形成保護(hù)層255。另外，當(dāng)形成的不透光層257，，的厚度tl'，實(shí)質(zhì)上等同于平坦層259的厚度t2時，如圖5所示，半導(dǎo)體陣列基板250''可例如依照下述方式制 作。首先，在利用習(xí)用的光掩模制作過程于透明基材251上形成掃描線252 及數(shù)據(jù)線253，進(jìn)而于完成半導(dǎo)體開關(guān)件254之后，利用旋轉(zhuǎn)涂布的方式涂布 平坦層259，使其全面覆蓋于透明基材251及半導(dǎo)體開關(guān)件254上。接著，利 用曝光顯影的方式將欲制作不透光層257處(例如對應(yīng)于數(shù)據(jù)線253及半導(dǎo)體 開關(guān)件254之處)的平坦層259移除。再來，利用旋轉(zhuǎn)涂布的方式將不透光材 料填入平坦層259被移除之處。接著，利用曝光顯影以及拋光(polishing) 等步驟，將不透光材料與平坦層259進(jìn)行表面處理，使其表面形成平坦的表面。 與平坦層259位于相同水平面的不透光材料為不透光層257''，如圖5所示。 而后，將像素電極261形成于平坦層259及不透光層257''上，如此完成如 圖5中所示的半導(dǎo)體陣列基板250'。此外，此處所描述的制作過程中，可選 擇性地在涂布平坦層259之前，先利用濺鍍或其它習(xí)用的制作過程步驟形成保 護(hù)層255。上述依照本發(fā)明實(shí)施例的半導(dǎo)體陣列基板及液晶顯示面板，應(yīng)用一平坦層 使像素電極與數(shù)據(jù)線相隔一距離，且像素電極部分地重迭于數(shù)據(jù)線上方。在平 坦層中包括有一不透光層，不透光層的寬度至少等同于對應(yīng)的數(shù)據(jù)線的寬度， 不透光層的厚度實(shí)質(zhì)上至少為平坦層厚度的二分之一，至多為等同于平坦層的 厚度。本發(fā)明實(shí)施例的不透光層的寬度實(shí)質(zhì)上小于現(xiàn)有技術(shù)中超高開口率 (SHA)的液晶顯示面板中不透光層的寬度，故可提高開口率，提升顯示亮度。 另外，部分的沿著-角度穿透通過液晶顯示面板的背光光線，被不透光層阻擋， 無法穿透通過邊緣電場區(qū)。如此可避免斜向透光產(chǎn)生，提高液晶顯示面板的對比度。整體而言，依照本發(fā)明實(shí)施例的半導(dǎo)體陣列基板及液晶顯示面板，可提 高光學(xué)效率以及顯示質(zhì)量。當(dāng)然，本發(fā)明還可有其它多種實(shí)施例，在不背離本發(fā)明精神及其實(shí)質(zhì)的情 況下，熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員當(dāng)可根據(jù)本發(fā)明作出各種相應(yīng)的改變和變形，但 這些相應(yīng)的改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明所附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種半導(dǎo)體陣列基板，其特征在于，包括一透明基材；一平坦層，覆蓋于該透明基材上；多個像素電極，以陣列排列方式設(shè)置于該平坦層上，各兩相鄰的該些像素電極間隔一間隙；以及一不透光層，設(shè)置于該平坦層中，該不透光層位于每一該些間隙下方，該不透光層兩側(cè)具有一延伸部，并往每一該些間隙的兩側(cè)延伸至部分該像素電極的下方處；其中，該不透光層的厚度至少為該平坦層厚度的二分之一。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體陣列基板，其特征在于，該不透光層的 厚度至多相等于該平坦層的厚度。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體陣列基板，其特征在于，該半導(dǎo)體陣列 基板于鄰近該些像素電極的邊緣處，具有多個邊緣電場區(qū)，該不透光層用以阻 擋一背光光線沿一角度穿透通過該些邊緣電場區(qū)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的半導(dǎo)體陣列基板，其特征在于，該角度為45 度角。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體陣列基板，其特征在于，還包括 多條數(shù)據(jù)線，以相互平行的方式設(shè)置于該透明基材上，該不透光層覆蓋于該對應(yīng)的數(shù)據(jù)在線；該不透光層覆蓋于該對應(yīng)的數(shù)據(jù)在線的寬度，至少相等于各該數(shù)據(jù)線的寬度。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的半導(dǎo)體陣列基板，其特征在于，還包括 一保護(hù)層，設(shè)置于該平坦層與該透明基材之間，并且至少覆蓋于該些數(shù)據(jù)在線。
7. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的半導(dǎo)體陣列基板，其特征在于，還包括 多個半導(dǎo)體開關(guān)件，以陣列排列方式設(shè)置于該透明基材上，每一該些半導(dǎo)體開關(guān)件連接于該對應(yīng)的數(shù)據(jù)線及該對應(yīng)的像素電極； 該不透光層更覆蓋該些半導(dǎo)體開關(guān)件。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體陣列基板，其特征在于，還包括 多條掃描線，以相互平行的方式設(shè)置于該透明基材與該平坦層之間，該不透光層更位于該些掃描線上方。
9. 一種液晶顯示面板，其特征在于，包括 一彩色濾光片基板；一液晶層，具有多個邊緣電場區(qū)；以及一半導(dǎo)體陣列基板，設(shè)置于該彩色濾光片基板的一側(cè)，且該液晶層設(shè)置于該半導(dǎo)體陣列基板及該彩色濾光片基板之間，該半導(dǎo)體陣列基板包括 一透明基材；一平坦層，覆蓋于該透明基材上；多個像素電極，以陣列排列方式設(shè)置于該平坦層上，各兩相鄰的該些像素 電極間隔一間隙，該些邊緣電場區(qū)鄰近該些像素電極的邊緣處；及一不透光層，設(shè)置于該平坦層中，用以阻擋一背光光線沿一角度穿透通過 該些邊緣電場區(qū)，該不透光層位于每一該些間隙下方，該不透光層兩側(cè)具有一 延伸部，并往每一該些間隙的兩側(cè)延伸至部分該像素電極的下方處，且凸出于 每一該些邊緣電場區(qū)對應(yīng)各該像素電極的下方處，該不透光層的厚度至少為該平坦層厚度的二分之一。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的液晶顯示面板，其特征在于，該不透光層的厚度至多相等于該平坦層的厚度。
11. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的液晶顯示面板，其特征在于，該角度為牝度角。
12. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的液晶顯示面板，其特征在于，該半導(dǎo)體陣列基 板還包括多條數(shù)據(jù)線，以相互平行的方式設(shè)置于該透明基材上，該不透光層覆蓋于 該對應(yīng)的數(shù)據(jù)在線；該不透光層覆蓋于該對應(yīng)的數(shù)據(jù)在線的寬度，至少相等于各該數(shù)據(jù)線的寬度。
13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的液晶顯示面板，其特征在于，該半導(dǎo)體陣列 基板還包括一保護(hù)層，設(shè)置于該平坦層與該透明基材之間，并且至少覆蓋于該些數(shù)據(jù)在線。
14. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的液晶顯示面板，其特征在于，該半導(dǎo)體陣列 基板還包括多個半導(dǎo)體開關(guān)件，以陣列排列方式設(shè)置于該透明基材上，每一該些半導(dǎo)體開關(guān)件連接于該對應(yīng)的數(shù)據(jù)線及該對應(yīng)的像素電極； 該不透光層更覆蓋該些半導(dǎo)體開關(guān)件。
15. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的液晶顯示面板，其特征在于，該半導(dǎo)體陣列基板還包括多條掃描線，以相互平行的方式設(shè)置于該透明基材與該平坦層之間，該不 透光層更位于該些掃描線上方。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種液晶顯示面板及其半導(dǎo)體陣列基板，該液晶顯示面板包括一彩色濾光片基板、一液晶層以及一半導(dǎo)體陣列基板。液晶層設(shè)置于兩基板之間，半導(dǎo)體陣列基板設(shè)置于彩色濾光片基板的一側(cè)，并且包括一透明基材、一平坦層、多個像素電極及一不透光層。平坦層覆蓋于透明基材上，像素電極以陣列排列方式設(shè)置于平坦層上，各兩相鄰的像素電極間隔一間隙。不透光層設(shè)置于平坦層中，并且位于每一間隙下方。不透光層兩側(cè)具有延伸部往每一間隙的兩側(cè)延伸至部分像素電極下方。不透光層的厚度至少為平坦層厚度的二分之一。
文檔編號G02F1/136GK101232029SQ20081008160
公開日2008年7月30日 申請日期2008年2月25日 優(yōu)先權(quán)日2008年2月25日
發(fā)明者張儷瓊, 張祿坤, 闕嘉慧 申請人:友達(dá)光電股份有限公司