專利名稱：曝光影像偏差的校正方法和成像裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及啄光影像偏差的校正方法和成像裝置。
背景技術(shù)：
在計(jì)算機(jī)直接,版(CTP， Computer To Plate)系統(tǒng)中，制版設(shè)備一般采 用計(jì)算機(jī)控制的激光掃描或陣列式曝光成像。
目前，掃描式曝光^t術(shù)通常采用激光器作為光源，膝光裝置中包括若干個(gè) 激光成像器件(通常為16個(gè)至128個(gè))。由于加工及裝配的限制及系統(tǒng)的誤差 等原因，不能完全保證所有的啄光裝置發(fā)出的光束達(dá)到設(shè)計(jì)初的理想位置，會(huì) 出現(xiàn)曝光影像的偏移，這樣可能會(huì)在成像后的圖像中出現(xiàn)條紋狀甚至扭曲的缺 陷，嚴(yán)重影響成4象質(zhì)量。
美國專利US005717451公開了一種成像方法及圖像記錄裝置，該裝置包 含了 一個(gè)位置檢測(cè)裝置和一個(gè)位置校正電路，所述位置檢測(cè)裝置同時(shí)對(duì)所有瀑 光影像的X及Y方向的位置進(jìn)行檢測(cè)，然后通過所述位置校正電路對(duì)成像系 統(tǒng)進(jìn)4于校正。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實(shí)施例提供曝光影像偏差的校正方法和成像裝置，能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)曝光 影像偏差的自動(dòng)校正。
一種曝光影像偏差的校正方法，包括
根據(jù)曝光模塊在成像面上的實(shí)際曝光位置，生成能夠校正所述曝光模塊在 所述成像面上的膝光位置偏差的啄光控制信息；
按照所述啄光控制信息，控制所述膝光4莫塊在所述成《象面上進(jìn)行啄光。
一種成像裝置，包括成像面和用于對(duì)所述成像面進(jìn)行曝光的多個(gè)聯(lián)動(dòng)的瀑 光模塊；所述成像裝置還包括控制模塊，用于根據(jù)所述多個(gè)曝光模塊在所述成 像面上的實(shí)際曝光位置，生成能夠校正膝光模塊在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息；以及按照所述膝光控制信息，控制相應(yīng)的啄光模塊在所述 成像面上進(jìn)行曝光。
.在本發(fā)明實(shí)施例中，根據(jù)曝光模塊在成像面上的實(shí)際曝光位置，生成能夠 校正曝光模塊在成像面上的爆光位置偏差的膝光控制信息，并根據(jù)該信息控制 曝光模塊的膝光，本發(fā)明實(shí)施例只需要通過軟件補(bǔ)償?shù)姆绞郊纯梢詫?duì)曝光才^:
的曝光位置偏差進(jìn)行自動(dòng)校正，而不需要對(duì)曝光模塊的機(jī)械或硬件電路做^^r改動(dòng)。


圖l是本發(fā)明成像裝置實(shí)施例一的結(jié)構(gòu)圖； 圖2是本發(fā)明成像裝置實(shí)施例二的立體結(jié)構(gòu)結(jié)構(gòu)的示意圖； 圖3是本發(fā)明成像裝置實(shí)施例二的平面示意圖4是本發(fā)明實(shí)施例中示出的理想情況下沒有曝光位置偏差時(shí)的曝光影像 示意圖和具有爆光位置偏差時(shí)的膝光影^^示意圖5、圖6是本發(fā)明方法實(shí)施例二的示意圖7、圖8是本發(fā)明方法實(shí)施例三的示意圖9、圖10是本發(fā)明方法實(shí)施例四的示意圖。
具體實(shí)施例方式
以下對(duì)本發(fā)明實(shí)施例提供的膝光影像偏差的校正方法和成像裝置的推薦 實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說明。
.本發(fā)明成像裝置實(shí)施例一本實(shí)施例給出本發(fā)明成像裝置的基本結(jié)構(gòu)。參 考圖1,本實(shí)施例的成像裝置包括成像面1 IO和用于對(duì)成像面1 IO進(jìn)行膝光的多 個(gè)聯(lián)動(dòng)的曝光模塊120。該成像裝置還包括控制模塊130，用于根據(jù)所述多個(gè)聯(lián) 動(dòng)的曝光模塊120在成像面110上的實(shí)際曝光位置，生成能夠校正曝光模塊120 在成像面110上的膝光位置偏差的膝光控制信息；以及按照所述曝光控制信息， 控制相應(yīng)的曝光才莫塊120在成像面110上進(jìn)行曝光。
其中，所述膝光模塊中包含成像器件，所述成像器件的類型可以是激光成 像器件、數(shù)字光處理(DLP)成像器件、光柵亮度閥(GLV)成像器件或液晶顯示(LCD)成像器件。
以下以激光成像器件為例，對(duì)本發(fā)明成豫裝置實(shí)施例二進(jìn)行說明。 參考圖2和圖3，本實(shí)施例的成像裝置包括
覆有感光材料的成像面202和承載成像面202移動(dòng)的第一運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)(在本 實(shí)施例中具體是圓柱體成像鼓201 ),成像面202置于圓柱體成像鼓201外表 面上；用于驅(qū)動(dòng)圓柱體成像鼓201帶動(dòng)成像面202沿其軸線203旋轉(zhuǎn)(圖中以 Y表示)的電機(jī)，以及用于獲取圓柱體成像鼓201的旋轉(zhuǎn)角度的旋轉(zhuǎn)編碼器。
曝光裝置211和用于承栽曝光裝置211沿圖中X方向(與圓柱體成像鼓 201的軸線203相平行)移動(dòng)曝光的第二運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)212;其中，膝光裝置211 包括作為光源的激光器、光學(xué)裂束系統(tǒng)和一組聯(lián)動(dòng)的曝光才莫塊215,曝光模塊 215包括激光成#>器件217和成像鏡片218,各曝光模塊215可以是等間距分 布；第二運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)212包括兩根線性滑軌218、滾珠絲桿219、伺服馬達(dá)220 和光柵尺221。
影像檢測(cè)裝置231和第三運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)232;第三運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)232用于承載影像 檢測(cè)裝置231進(jìn)行移動(dòng)，使影像檢測(cè)裝置231分別對(duì)各曝光模塊215在成像面 202上各自的規(guī)定位置處的啄光影像進(jìn)行檢測(cè)，獲得各膝光模塊215在各自的 規(guī)定位置處的實(shí)際曝光位置。其中，影像檢測(cè)裝置231包括影像傳感器233、 反射鏡234和透鏡235;笫三運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)232包括兩根線性滑軌236、滾珠絲桿 237、伺服馬達(dá)238和光4冊(cè)尺239。其中，影像傳感器233的類型可以是CCD、 CMOS等。
本實(shí)施例的成像裝置還包括控制模塊，用于根據(jù)該組聯(lián)動(dòng)的曝光模塊215 在成像面202上的實(shí)際膝光位置，生成能夠校正曝光模塊215在成像面202 上的膝光位置偏差的曝光控制信息；以及按照所述曝光控制信息，控制相應(yīng)的 曝光模塊215在成像面202上進(jìn)行曝光。其中，控制模塊包括圖像處理模塊和 輸出接口 ；圖像處^模塊用于根據(jù)待成像圖像和該組聯(lián)動(dòng)的曝光模塊215在成 像面202上的實(shí)際曝光位置，生成能夠校正曝光模塊215在成像面202上的瀑 光位置偏差的膝光控制信息，輸出接口用于向各激光成像器件217實(shí)時(shí)輸出根 據(jù)對(duì)應(yīng)的曝光控制信息確定的膝光控制信號(hào)。如圖4所示，在實(shí)際成像過程中，由于加工裝配及系統(tǒng)誤差的影響，曝光
模塊在成像面上形成的實(shí)際曝光影像相對(duì)于理想膝光影像可能會(huì)出現(xiàn)位置上 的偏差，在圖4中示出具有5個(gè)膝光^=莫塊的情況，其中al、 a2、 a3、 a4、 a5分別 是曝光模塊的理想初始膝光位置，而al'、 a2'、 a3'、 a4'、 a5'分別是瀑光模塊的 實(shí)際初始曝光位置，可以看出，由于中間兩個(gè)爆光才莫塊的實(shí)際膝光位置偏差， 會(huì)導(dǎo)致成像后的圖像中如圖4所示出的空白區(qū)域、錯(cuò)位區(qū)域、重疊區(qū)域等缺陷。 為了對(duì)成像后的圖像中的上述缺陷進(jìn)行校正，通常需要對(duì)爆光模塊的實(shí)際啄光 位置進(jìn)行檢測(cè)。在本發(fā)明實(shí)施例中，為對(duì)各曝光模塊的實(shí)際膝光位置進(jìn)行檢測(cè)， 可以先規(guī)定一個(gè)位置(例如可以是曝光模塊的初始位置)，使各膝光模塊在初 始位置處分別在成像面上進(jìn)行一次曝光，成像裝置中設(shè)置了影像檢測(cè)裝置和第 二運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，第二運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)承載影像檢測(cè)裝置沿圖中X方向移動(dòng)，使影像檢測(cè) 裝置依次移動(dòng)到各膝光模塊的理想初始位置，對(duì)該處的曝光影像進(jìn)行檢測(cè)，獲 得相應(yīng)曝光才莫塊在該處的實(shí)際曝光位置。由于本發(fā)明實(shí)施例中，可以通過移動(dòng) 影像檢測(cè)裝置，使影< 測(cè)裝置能夠分別對(duì)各爆光模塊的膝光影像進(jìn)行檢測(cè)， 與現(xiàn)有技術(shù)中采用位置固定的傳感器同時(shí)檢測(cè)所有膝光模塊的曝光影像相比， 可以提高檢測(cè)的準(zhǔn)確性。
參考圖2至圖4，描述本實(shí)施例成像裝置的成像原理圖像處理模塊根據(jù)待 成像圖像和影像檢測(cè)裝置所檢測(cè)的各膝光模塊在成像面上的實(shí)際膝光位置，生 成能夠校正曝光才莫塊在成像面上的啄光位置偏差的膝光控制信息(將在后面本 發(fā)明方法實(shí)施例中詳細(xì)描述)，所生成的曝光控制信息與相應(yīng)數(shù)量的位置上連 續(xù)的曝光模塊——對(duì)應(yīng)，使各啄光模塊分別完成所關(guān)聯(lián)的像素區(qū)域的膝光成 像，各曝光模塊在成像面上形成的曝光影像拼接在一起后，形成所述待成像圖 像的完整的曝光影像，該影^f象中消除了圖4中所示出的空白區(qū)域、錯(cuò)位區(qū)域以 及重疊區(qū)域。在曝光裝置中，光學(xué)裂束系統(tǒng)將激光器產(chǎn)生的單束原始激光分裂 成多束，分裂后的多束激光與各啄光模塊一一對(duì)應(yīng)，其中各激光成像器件按照 控制模塊的輸出接口輸出的當(dāng)前待曝光像素的曝光控制信號(hào)，對(duì)輸入到本膝光 模塊的激光束進(jìn)行調(diào)制，使調(diào)制后的激光束的能量/強(qiáng)度與所述待曝光像素的 亮暗等特征相符，調(diào)制后的激光束再經(jīng)成像鏡片聚焦后沿垂直于圓柱體成像鼓的軸線的方向，照射到成像面上，完成一次曝光。通過圓柱體成像鼓帶動(dòng)成像
面沿其軸線的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)(圖中Y方向)，結(jié)合各啄光模塊沿X方向的直線運(yùn)動(dòng)， 完成對(duì)各像素區(qū)域中所有像素的曝光。
在本發(fā)明實(shí)施例中，根據(jù)曝光模塊在成像面上的實(shí)際瀑光位置，生成能夠 校正曝光模塊在成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息，并根據(jù)該信息控制 曝光模塊的曝光，本發(fā)明實(shí)施例只需要通過軟件補(bǔ)償?shù)姆绞郊纯梢詫?duì)瀑光才^ 的啄光位置偏差進(jìn)行自動(dòng)校正，而不需要對(duì)曝光模塊的機(jī)械或硬件電路做任何 改動(dòng)。
可以理解的，在本發(fā)明實(shí)施例中，也可以采用其他方式獲得膝光模塊的實(shí) 際曝光位置，例如可以采用固定的影像傳感器對(duì)各曝光模塊的膝光位置進(jìn)行檢測(cè)等。
在本發(fā)明更多實(shí)施例中，也可以用半透射、半反射鏡代替影像檢測(cè)裝置中 的反射鏡，或者，影傳驗(yàn)測(cè)裝置中的反射鏡的鏡面上可以開有至少一個(gè)孔。 在本發(fā)明更多實(shí)施例中，成像裝置也可以采用內(nèi)鼓型或平面型。
在本發(fā)明更多實(shí)施例中，成像裝置還可以包括顯示模塊，影像檢測(cè)裝置檢 測(cè)到曝光沖莫塊的實(shí)際曝光位置后，可以在顯示模塊上顯示該實(shí)際膝光位置的信息。
下面對(duì)本發(fā)明提供的膝光影像偏差的校正方法的實(shí)施例進(jìn)行描述。
本發(fā)明曝光影像偏差的校正方法實(shí)施例一本實(shí)施例給出本發(fā)明爆光影像 偏差的校正方法的基本流程，本實(shí)施例方法包括
Al、根據(jù)曝光模塊在成像面上的實(shí)際曝光位置，生成能夠校正所述曝光 模塊在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息。
A2、按照所述曝光控制信息，控制所述曝光模塊在所述成像面上進(jìn)行曝光。
.本實(shí)施例可以是對(duì)多個(gè)曝光模塊的曝光影像偏差進(jìn)行校正，此時(shí)流程為 根據(jù)多個(gè)聯(lián)動(dòng)的曝光模塊在成像面上的實(shí)際曝光位置，生成能夠校正膝光模塊 在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息，其中所生成的爆光控制信息與各曝光才莫塊——對(duì)應(yīng)；以及按照所述膝光控制信息，控制相應(yīng)的曝光模塊在 所述成像面上進(jìn)行曝光。
.通常情況下，在成像面上的成像可以分為兩個(gè)方向，以下分別稱為成像面 的第一成像方向和成像面的第二成像方向，該兩個(gè)方向一般是相互垂直的，但 并不限于此。具體到本發(fā)明實(shí)施例中，所述成像面的第一成像方向可以是氷平 方向(圖4中示出的X方向，與圖2、 3中示出的X方向一致)，所述成像面 的第二成像方向可以是垂直方向(如圖4中示出的Z方向，與圖2、 3示出的 Y方向?qū)?yīng))，參考圖4，可以看出曝光模塊在成像面上的實(shí)際啄光位置偏差 包括X方向和Z方向兩個(gè)方向的偏差，X方向的偏差通常會(huì)產(chǎn)生圖中所示的 空白區(qū)域和重疊區(qū)域，而Z方向的偏差通常會(huì)產(chǎn)生圖中所示的錯(cuò)位區(qū)域，以下 分別就這兩種情況對(duì)本發(fā)明曝光影像偏差的校正方法的實(shí)施例進(jìn)行更詳細(xì)的 說明。
參考圖5和圖6，對(duì)本發(fā)明曝光影像偏差的校正方法實(shí)施例二進(jìn)行說明。 本實(shí)施例可以對(duì)曝光模塊在X方向上的曝光位置偏差進(jìn)行校正，從而消除由 于該偏差在最終的成像圖像中所產(chǎn)生的空白區(qū)域和重疊區(qū)域。本實(shí)施例方法包 括
Bl、根據(jù)各聯(lián)動(dòng)的曝光模塊在成像面上的實(shí)際曝光位置，生成能夠校正 各曝光模塊在X方向上的曝光位置偏差的曝光控制信息，其中所生成的膝光 控制信息與各曝光才莫塊一一對(duì)應(yīng)。
B2、按照所述曝光控制信息，控制相應(yīng)的膝光模塊在所述成像面上進(jìn)行 曝光。
其中，Bl具體包括
Bll、根據(jù)各膝光模塊的實(shí)際曝光位置al'、 a2'、 a3'、 a4'、 a5'，獲得各曝 光模塊與X方向上的相鄰曝光模塊的實(shí)際距離dxl、 dx2、 dx3和dx4,并在所 獲得的實(shí)際距離中確定最大距離D2，其中有D2-dxl =dx4。
B12、根據(jù)所獲得的各曝光模塊與相鄰曝光模塊在所述水平方向上的實(shí)際 距離，將待成像圖像在X方向上進(jìn)行分像，使各曝光模塊對(duì)應(yīng)的分像子圖像(圖5中的分區(qū)21、分區(qū)22、分區(qū)23和分區(qū)24)在X方向上的尺寸與該曝 光模塊與相鄰曝光才莫塊在X方向上的實(shí)際距離相一致。
B13、對(duì)各曝光模塊對(duì)應(yīng)的分像子圖像，分別判斷其在X方向上的尺寸是 否達(dá)到所述最大距離，若是，則以該分像子圖像作為相應(yīng)曝光模塊的曝光控制 信息；若否，則相對(duì)于X方向，在該分像子圖像的后面填補(bǔ)空白區(qū)域，使填 補(bǔ)后的分像子圖4象在X方向上的尺寸與所述最大距離相一致，以該填補(bǔ)后的 分像子圖像作為相應(yīng)曝光模塊的曝光控制信息。
參見圖5和圖6， dxl和dx4均達(dá)到最大距離Dl;因此可以直接以分像子 圖像作為相應(yīng)曝光模塊的曝光控制信息，而對(duì)于dx2和dx3，則需要填補(bǔ)空白 區(qū)域K2、 K3,并以填補(bǔ)后的分像子圖像作為相應(yīng)曝光模塊的啄光控制信息。
圖5下半部示出各曝光模塊按照?qǐng)D6示出的啄光控制信息進(jìn)行曝光后的曝 光影像，可以看出，已經(jīng)可以消除圖4中示出的空白區(qū)域，并且，由于影像區(qū) 22'和影像區(qū)23'間，以及影像區(qū)23'和影像區(qū)24'間的相交部分事實(shí)上是空白像 素區(qū)域與有效4象余區(qū)域的重疊，因此也可以消除圖4中示出的的重疊區(qū)域。
本發(fā)明曝光影像偏差的校正方法實(shí)施例三參考閨7示出的本實(shí)施例用于 校正Y方向的曝光位置偏差的曝光控制信息示意圖和圖8的校正Y方向的偏 差后的實(shí)際曝光影像示意圖進(jìn)行說明。本實(shí)施例可以對(duì)曝光模塊在Z方向上的 曝光位置偏差進(jìn)行校正，從而消除由于該偏差在最終的成像圖像中所產(chǎn)生的錯(cuò) 位區(qū)域。本實(shí)施例方法包括
Cl、根據(jù)各膝光模塊在成像面上的實(shí)際曝光位置，生成能夠校正各詠光 模塊在Z方向上的曝光位置偏差的曝光控制信息，其中所生成的曝光控制信息 與各曝光模塊一一對(duì)應(yīng)。
C2、按照所述曝光控制信息，控制相應(yīng)的膝光4莫塊在所述成像面上進(jìn)行 曝光。
其中，Cl具體包括
Cll、根據(jù)各曝光模塊的實(shí)際曝光位置al'、 a2'、 a3'、 a4'、 a5'，獲得各曝 光^lt塊在Z方向上，相對(duì)于在該方向上實(shí)際膝光位置偏移最遠(yuǎn)(a2')的詠光模塊的實(shí)際距離dyl2、 dy32、 dy42,并在所獲得的實(shí)際距離中確定最大距離 D3,其中有D3-dy32。
C12、相對(duì)于Y方向，在曝光模塊各自在X方向上的分像子圖像的前面填 補(bǔ)第一空白區(qū)域KAll、 KA13、 KA14，所填補(bǔ)的第一空白區(qū)域在Z方向上的 尺寸與該曝光才莫塊在Z方向上，相對(duì)于在Z方向上實(shí)際曝光位置偏移最遠(yuǎn)的 曝光模塊的實(shí)際距離相 一致。
.C13、相對(duì)于Z方向，在曝光模塊各自經(jīng)填補(bǔ)第一空白區(qū)域后的分像子圖 像的后面填補(bǔ)第二空白區(qū)域KBll、 KB12、 KB14，使填補(bǔ)后的分像子圖像在 Z方向上的尺寸，和未經(jīng)填補(bǔ)第一空白區(qū)域前分^象子圖4象在Z方向上的尺寸L 與所述最大距離D3之和相一致，以該填補(bǔ)第二空白區(qū)域后的分像子圖像作為 相應(yīng)曝光才莫塊的曝光控制信息。
圖7示出各曝光模塊按照?qǐng)D8示出的曝光控制信息進(jìn)行曝光后的曝光影 像，可以看出，已經(jīng)可以消除Y方向上的4晉位區(qū)域。
對(duì)本發(fā)明曝光影像偏差的校正方法實(shí)施例四其中參考圖9示出的本實(shí)施 例用于校正Y方向的曝光位置偏差的曝光控制信息示意圖和圖10的校正Y方 向的偏差后的實(shí)際曝光影像示意圖進(jìn)行說明。本實(shí)施例可以將本發(fā)明方法實(shí)施 例二和三相結(jié)合，以對(duì)曝光才莫塊在X方向和Z方向上的膝光位置偏差均進(jìn)行 校正，本實(shí)施例方法包括
Dl、根據(jù)各聯(lián)動(dòng)的曝光模塊在成像面上的實(shí)際曝光位置，生成能夠校正 各曝光模塊在X方向和Z方向上的曝光位置偏差的啄光控制信息，其中所生 成的曝光控制信息與各曝光才莫塊 一 一對(duì)應(yīng)。
D2、按照所述曝光控制信息，控制相應(yīng)的啄光模塊在所述成像面上進(jìn)行 曝光。
其中，Dl具體包括 'Dll、根據(jù)各啄光模塊的實(shí)際啄光位置al'、 a2'、 a3'、 a4'、 a5'，獲得各曝 光模塊與X方向上的相鄰爆光模塊的實(shí)際距離dxl、 dx2、 dx3和dx4,在所獲 得的實(shí)際距離中確定最大距離D2,其中有D2-dxl-dx4。以及獲得各曝光模塊在Z方向上，相對(duì)于在該方向上實(shí)際啄光位置偏移最遠(yuǎn)(a2')的曝光^ 的實(shí)際距離dyl、 dy3、 dy4，并在所獲得的實(shí)際距離中確定最大距離D3，其 中有D3-dy3。
D12、根據(jù)所獲得的各曝光模塊與相鄰曝光才莫塊在所述水平方向上的實(shí)際 距離，將待成像圖像在X方向上進(jìn)行分像，使各曝光模塊對(duì)應(yīng)的分像子圖像 (圖5中的分區(qū)21 、分區(qū)22、分區(qū)23和分區(qū)24 )在X方向上的尺寸與該曝 光模塊與相鄰曝光;f莫塊在x方向上的實(shí)際距離相一致。
D13、對(duì)各曝光4莫塊對(duì)應(yīng)的分像子圖像，分別判斷其在X方向上的尺寸是 否達(dá)到所述最大距離，若是，則以該分像子圖像為處理對(duì)象，直接執(zhí)行D14; 若否，則相對(duì)于X方向，在該分像子圖像的后面填補(bǔ)空白區(qū)域，使填補(bǔ)后的 分像子圖4象在X ^向上的尺寸與所述最大距離相一致，以該填補(bǔ)后的分4象子 圖像為處理對(duì)象執(zhí)行D14。
D14、相對(duì)于Y方向，在D13中確定的處理對(duì)象前面填補(bǔ)第一空白區(qū)域 KCll、 KC13、 KC14,所填補(bǔ)的第一空白區(qū)域在Z方向上的尺寸與該曝光模 塊在Z方向上，相對(duì)于在Z方向上實(shí)際曝光位置偏移最遠(yuǎn)的曝光模塊的實(shí)際 距離相一致。
D15、相對(duì)于Z方向，在啄光模塊各自經(jīng)填補(bǔ)第一空白區(qū)域后的分像子圖 像的后面填補(bǔ)第二空白區(qū)域KDll、 KD12、 KD14，使填補(bǔ)后的分像子圖像在 Z方向上的尺寸，和未經(jīng)填補(bǔ)第一空白區(qū)域前分^f象子圖4象在Z方向上的尺寸L 與所述最大距離D3之和相一致，以該填補(bǔ)第二空白區(qū)域后的分像子圖像作為 相應(yīng)曝光模塊的曝光控制信息。
圖IO示出各膝光模塊按照?qǐng)D9示出的曝光控制信息進(jìn)行曝光后的爆光影 像，可以看出，已經(jīng)可以消除X方向上的空白區(qū)域和重疊區(qū)域，以及Y方向 上的錯(cuò)位區(qū)域。
本發(fā)明曝光影像偏差的校正方法實(shí)施例五本實(shí)施例中提供對(duì)膝光模塊在 Z方向上的曝光位置偏差進(jìn)行校正的另一實(shí)施例，本實(shí)施例與本發(fā)明方法實(shí)施 例三類似，區(qū)域之處在于，在本實(shí)施例中，步驟C1具體包括El、根據(jù)各膝光模塊的實(shí)際膝光位置，獲得各膝光模塊在Z方向上，相 對(duì)于Z方向上實(shí)際曝光位置偏移最遠(yuǎn)的曝光才莫塊的實(shí)際距離。
E2、將待成像圖像在X方向上進(jìn)行分像，生成與各曝光模塊——對(duì)應(yīng)的 分像子圖像。
E3、根據(jù)所獲得的各膝光模塊在Z方向上，相對(duì)于Z方向上實(shí)際瀑光位 置偏移最遠(yuǎn)的曝光才莫塊的實(shí)際距離，確定各曝光才莫塊的工作時(shí)延；對(duì)各曝光才莫 塊'，分別以其工作時(shí)延和分像子圖像作為該爭光模塊的曝光控制信息；其中， 所述工作時(shí)延使得相應(yīng)的曝光模塊在接收到啟動(dòng)命令后，延遲該工作時(shí)延所指 示的時(shí)長后才啟動(dòng)。
其中，所述曝光模塊的工作時(shí)延是通過將曝光模塊在Z方向上，相對(duì)于在 Z方向上實(shí)際曝光位置偏移最遠(yuǎn)的曝光模塊的實(shí)際距離與用于承載所述成像 面在Z方向上移動(dòng)的運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的線速度相除所得到的。
在本發(fā)明曝光影像偏差的校正方法的更多實(shí)施例中，可以將本發(fā)明方法實(shí) 施例二與實(shí)施例五結(jié)合，對(duì)曝光;f莫塊在X方向和Z方向上的爆光位置偏差均
進(jìn)行校正o
在本發(fā)明方法更多實(shí)施例中，在生成能夠校正曝光模塊在所述成像面上的 曝光位置偏差的曝光控制信息之前還可以通過以下方法獲得曝光模塊的實(shí)際
曝光位置多個(gè)聯(lián)動(dòng)的曝光模塊分別在成像面上各自的規(guī)定位置(如初始位置) 處進(jìn)行曝光；以及通過移動(dòng)影像檢測(cè)裝置，使所述影像檢測(cè)裝置分別對(duì)所述多 個(gè)曝光模塊在所述成像面上各自的規(guī)定位置處的曝光影像進(jìn)行檢測(cè)，獲得各曝 光模塊在所述各自的規(guī)定位置處的實(shí)際曝光位置。
在本發(fā)明成像裝置中曝光影像的檢測(cè)方法的實(shí)施例中，曝光模塊、成像面、 影像沖企測(cè)裝置等可以具有本發(fā)明成像裝置的實(shí)施例中的特征。
以上對(duì)本發(fā)明實(shí)施例所提供的膝光影像偏差的校正方法和成像裝置進(jìn)行
以上實(shí)施例的說明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其核心思想；同時(shí)，對(duì)于 本領(lǐng)域的一般技術(shù)人員，依據(jù)本發(fā)明的思想，在具體實(shí)施方式
及應(yīng)用范圍上均 會(huì)有改變之處，綜上所述，本說明書內(nèi)容不應(yīng)理解為對(duì)本發(fā)明的限制。
權(quán)利要求
1、一種曝光影像偏差的校正方法，其特征在于，包括根據(jù)曝光模塊在成像面上的實(shí)際曝光位置，生成能夠校正所述曝光模塊在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息；按照所述曝光控制信息，控制所述曝光模塊在所述成像面上進(jìn)行曝光。
2、 如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于根據(jù)曝光才莫塊在成像面上的實(shí)際曝光位置，生成能夠校正所述啄光模塊在 所述成像面上的曝光位置偏差的啄光控制信息具體是根據(jù)多個(gè)聯(lián)動(dòng)的哮-光模 塊在成像面上的實(shí)際曝光位置，生成能夠校正曝光模塊在所述成像面上的曝光 位置偏差的曝光控制信息，所述曝光控制信息與各膝光才莫塊——對(duì)應(yīng)；按照所述曝光控制信息，控制所述成像器件在所述成像面上進(jìn)行膝光具體 是按照所述曝光控制信息，控制相應(yīng)的曝光模塊在所述成像面上進(jìn)行曝光。
3、 如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述生成能夠校正曝光模塊 在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息包括':生成能夠校正曝光模塊 在所述成像面的第一成像方向或第二成像方向上的啄光位置偏差的膝光控制 信息。
4、 如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)多個(gè)聯(lián)動(dòng)的曝iblt 塊在成像面上的實(shí)際膝光位置，生成能夠校正曝光模塊在所述成像面的第一成 像方向上的曝光位置偏差的啄光控制信息具體包括根據(jù)多個(gè)聯(lián)動(dòng)的曝光模塊的實(shí)際曝光位置，獲得各啄光模塊與所述成像面 的第一成像方向上的相鄰曝光模塊間的實(shí)際距離，并在所獲得的實(shí)際距離中確 定最大距離；根據(jù)所述實(shí)際距離，將待成像圖像在所述第一成像方向上進(jìn)行分像，使各 曝光模塊對(duì)應(yīng)的分像子圖像在所述第 一成像方向上的尺寸，與該膝光模塊和所 述第一成像方向上的相鄰曝光模塊間的實(shí)際距離相一致；.對(duì)各膝光模塊對(duì)應(yīng)的分像子圖像，分別判斷其在所述第一成像方向上的尺 寸是否達(dá)到所述最大距離，若是，則以該分像子圖像作為相應(yīng)曝光模塊的膝光 控制信息；若否，則相對(duì)于所述第一成像方向，在該分像子圖像的后面填補(bǔ)空白區(qū)域，使填補(bǔ)后的分像子圖像在所述第一成像方向上的尺寸與所述最大距離 相一致，以該填補(bǔ)后的分像子圖像作為相應(yīng)曝光模塊的曝光控制信息。
5、如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所速根據(jù)多個(gè)聯(lián)動(dòng)的膝光模 塊在成像面上的實(shí)際爆光位置，生成能夠校正曝光^^莫塊在所述成像面的第二成 像方向上的曝光位置偏差的曝光控制信息具體包括根據(jù)多個(gè)聯(lián)動(dòng)的爆光模塊的實(shí)際瀑光位置，獲得各曝光模塊在所述成像面 的第二成像方向上，相對(duì)于在第二成像方向上實(shí)際曝光位置偏移最遠(yuǎn)的曝光模 塊的實(shí)際距離，并在所獲得的實(shí)際距離中確定最大距離；.相對(duì)于所述第二成像方向，在曝光模塊各自在笫一成像方向上的分像子圖 像的前面填補(bǔ)第一空白區(qū)域，所填補(bǔ)的第一空白區(qū)域在所述第二成像方向上的 尺寸與該曝光模塊在所述第二成像方向上，相對(duì)于所述偏移最遠(yuǎn)的曝光模塊的 實(shí)際距離相一致；相對(duì)于所述第二成像方向，在啄光模塊各自經(jīng)填補(bǔ)第一空白區(qū)域后的分像 子圖像的后面填補(bǔ)第二空白區(qū)域，使填補(bǔ)后的分像子圖^象在所述第二成像方向 上的尺寸，和未經(jīng)填補(bǔ)第一空白區(qū)域前分像子圖像在第二成像方向上的尺寸與 所述最大距離之和相一致，以該填補(bǔ)第二空白區(qū)域后的分像子圖像作為相應(yīng)曝 光模塊的曝光控制倌息。
6、如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)多個(gè)聯(lián)動(dòng)的曝光模 塊的實(shí)際曝光位置，生成能夠校正膝光模塊在第二成像方向上的啄光位置偏差 的曝光控制信息具體包括根據(jù)多個(gè)聯(lián)動(dòng)的曝光模塊的實(shí)際啄光位置，獲得各膝光模塊在所述第二成 像方向上，相對(duì)于在第二成像方向上實(shí)際曝光位置偏移最遠(yuǎn)的膝光模塊的實(shí)際 距離；將待成像圖像在成像面的第一成像方向上進(jìn)行分像，生成與所述多個(gè)膝光 模塊一一對(duì)應(yīng)的分像子圖像；根據(jù)所獲得的各爆光模塊在所述第二成像方向上，相對(duì)于在第二成像方向 上'實(shí)際曝光位置偏移最遠(yuǎn)的曝光模塊的實(shí)際距離，確定各曝光模塊的工作時(shí)延，對(duì)各曝光模塊，分別以其工作時(shí)延和分像子圖像作為該膝光模塊的啄光控制信息；其中，所述工作時(shí)延使得相應(yīng)的曝光模塊在接收到啟動(dòng)命令后，延遲 該工作時(shí)延所指示的時(shí)長后才啟動(dòng)。
7、 如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述膝光模塊的工作時(shí)延是 通過將曝光模塊在所述第二成像方向上，相對(duì)于在所述偏移最遠(yuǎn)的曝光模塊的 實(shí)際距離與用于承載所述成像面在所述第二成像方向上移動(dòng)的運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的線 速度相除所得到的。
8、 如權(quán)利要求2至7任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，在根據(jù)多個(gè)聯(lián)動(dòng) 的曝光模塊在成像面上的實(shí)際曝光位置，生成能夠校正膝光模塊在所述成像面 上的曝光位置偏差的曝光控制信息之前還包括多個(gè)聯(lián)動(dòng)的曝光模塊分別在成像面上各自的規(guī)定位置處進(jìn)行膝光； 通過移動(dòng)影t^r測(cè)裝置，使所述影^^r測(cè)裝置分別對(duì)所述多個(gè)曝光模塊在所述成像面上各自的規(guī)定位置處的爆光影像進(jìn)行檢測(cè)，荻得各曝光模塊在所述各自的規(guī)定位置處的實(shí)際膝光位置。
9、 如權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所迷膝光模塊包 括成像器件，所述成像器件的類型具體是激光成像器件。
10、 一種成像裝置，其特征在于，包括成像面和用于對(duì)所述成像面進(jìn)行曝 光的多個(gè)聯(lián)動(dòng)的曝光模塊；所述成像裝置還包括控制模塊，用于根據(jù)所述多個(gè) 曝光模塊在所述成像面上的實(shí)際曝光位置，生成能夠權(quán)正啄光模塊在所述成像 面上的曝光位置偏差的曝光控制信息；以及按照所述膝光控制信息，控制相應(yīng) 的曝光模塊在所述成像面上進(jìn)行爆光。
11、 如權(quán)利要求10所述的成像裝置，其特征在于，所述生成能夠校正膝 光模塊在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息包括生成能夠校正瀑 光模塊在所述成像面的第 一成像方向或第二成像方向上的膝光位置偏差的舉 光控制信息。
12、 如權(quán)利要求11所述的成像裝置，其特征在于，所述根據(jù)多個(gè)聯(lián)動(dòng)的 曝光模塊在成像面上的實(shí)際曝光位置，生成能夠校正爆光4莫塊在所述成像面的第一成像方向上的膝光位置偏差的瀑光控制信息具體包括.根據(jù)多個(gè)聯(lián)動(dòng)的啄光模塊的實(shí)際啄光位置，獲得春曝光模塊與相鄰曝光模 塊在所述成像面的第 一成像方向上的實(shí)際距離，并在所獲得的實(shí)際距離中確定 最大3巨離；根據(jù)所述實(shí)際距離，將待成像圖像在所述第一成^f象方向上進(jìn)行分像，使各 曝光模塊對(duì)應(yīng)的分像子圖像在所述第一成像方向上的尺寸，與該曝光模塊與相 鄰曝光模塊在所述第 一成像方向上的實(shí)際距離相一致；對(duì)各曝光模塊對(duì)應(yīng)的分像子圖像，分別判斷其在所述笫一成像方向上的尺 寸是否達(dá)到所述最大距離，若是，則以該分像子圖像作為相應(yīng)曝光模塊的曝光 控制信息；若否，則相對(duì)于所述第一成像方向，在該分像子圖像的后面填補(bǔ)空 白區(qū)域，使填補(bǔ)后的分像子圖像在所述第一成像方向上的尺寸與所述最大距離 相一致，以該填補(bǔ)后的分像子圖像作為相應(yīng)曝光;f莫塊的曝光控制信息。
13、如權(quán)利要求11所述的成像裝置，其特征在于，根據(jù)多個(gè)聯(lián)動(dòng)的曝光 模塊在成像面上的實(shí)際膝光位置，生成能夠校正曝光才莫塊在所述成像面的第二 成像方向上的曝光位置偏差的膝光控制信息具體包括根據(jù)多個(gè)聯(lián)動(dòng)的曝光模塊的實(shí)際曝光位置，獲得各曝光模塊在所述成像面 的第二成像方向上，相對(duì)于在第二成像方向上實(shí)際膝光位置偏移最遠(yuǎn)的曝光模 塊的實(shí)際距離，并在所獲得的實(shí)際距離中確定最大距離；相對(duì)于所述第二成像方向，在曝光模塊各自在第一成像方向上的分像子圖 像的前面填補(bǔ)第一空白區(qū)域，所填補(bǔ)的第一空白區(qū)域在所述第二成像方向上的 尺寸與該曝光模塊在所述第二成像方向上，相對(duì)于所述偏移最遠(yuǎn)的曝光模塊的 實(shí)際距離相一致；相對(duì)于所述第二成像方向，在曝光模塊各自經(jīng)填補(bǔ)第一空白區(qū)域后的分像 子圖像的后面填補(bǔ)第二空白區(qū)域，使填補(bǔ)后的分像子圖像在所述第二成像方向 上的尺寸，和未經(jīng)填補(bǔ)第一空白區(qū)域前分像亍圖像在第二成像方向上的尺寸與 所述最大距離之和相一致，以該填補(bǔ)第二空白區(qū)域后的分像子圖像作為相應(yīng)曝 光模塊的爆光控制信息。
14、 如權(quán)利要求11所述的成像裝置，其特征在于，所述根據(jù)多個(gè)聯(lián)動(dòng)的 曝光模塊的實(shí)際曝光位置，生成能夠校正曝光模塊在第二成像方向上的曝光位 置偏差的曝光控制信息具體包括根據(jù)多個(gè)聯(lián)動(dòng)的曝光模塊的實(shí)際曝光位置，獲得各曝光模塊在所述第二成 像方向上，相對(duì)于在第二成4象方向上實(shí)際曝光位置偏移最遠(yuǎn)的曝光才莫塊的實(shí)際 距離；將待成像圖像在成像面的第一成像方向上進(jìn)行分像，生成與所述多個(gè)曝光 模塊一一對(duì)應(yīng)的分像子圖像；根據(jù)所獲得的各曝光模塊在所述第二成像方向上，相對(duì)于在第二成像方向 上實(shí)際曝光位置偏移最遠(yuǎn)的曝光模塊的實(shí)際距離，確定各曝光模塊的工作時(shí) 延，對(duì)各曝光模塊，分別以其工作時(shí)延和分像子圖像作為該曝光模塊的曝光控 制佶息；其中，所述工作時(shí)延使得相應(yīng)的曝光模塊在接收到啟動(dòng)命令后，延遲 該工作時(shí)延所指示的時(shí)長后才啟動(dòng)。
15、 如權(quán)利要求14所述的成像裝置，其特征在千 所述成像裝置還包括承載所述成像面在所述第二成像方向上移動(dòng)的第一運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)；所述曝光模塊的工作時(shí)延是通過將瀑光模塊在所述第二成像方向上，相對(duì) 于在第二成像方向上實(shí)際曝光位置偏移最遠(yuǎn)的膝光;f莫塊的實(shí)際距離與用于承 載所述成像面在所述第二成像方向上移動(dòng)的第一運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的線速度相除所得 到的。
16、 如權(quán)利要求10至15任一項(xiàng)所述的成像裝置，其特征在于，所述成像裝 置還包括影像檢測(cè)裝置和第三運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述第三運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)承載所述影像檢測(cè) 裝置進(jìn)行移動(dòng)，使所述影傳輪測(cè)裝置分別對(duì)所述多個(gè)膝光才莫塊在所述成像面上 各自的規(guī)定位置處的曝光影像進(jìn)行檢測(cè)，獲得各曝光模塊在各自的規(guī)定位置處 的實(shí)際曝光位置。
17、 如權(quán)利要求10至15任一項(xiàng)所述的成像裝置，其特征在于，所述曝M 塊包括成像器件，所述成像器件的類型具體是激光成像器件。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種曝光影像偏差的校正方法和成像裝置。所述校正方法包括根據(jù)曝光模塊在成像面上的實(shí)際曝光位置，生成能夠校正所述曝光模塊在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息；按照所述曝光控制信息，控制所述曝光模塊在所述成像面上進(jìn)行曝光。本發(fā)明實(shí)施例只需要通過軟件補(bǔ)償?shù)姆绞郊纯梢詫?duì)曝光模塊的曝光位置偏差進(jìn)行自動(dòng)校正，而不需要對(duì)曝光模塊的機(jī)械或硬件電路做任何改動(dòng)。
文檔編號(hào)G03G15/04GK101609284SQ20081006779
公開日2009年12月23日 申請(qǐng)日期2008年6月17日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月17日
發(fā)明者孫海翔, 高云峰 申請(qǐng)人:深圳市大族激光科技股份有限公司