專利名稱：一種照明均勻性校正裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種應(yīng)用于光刻系統(tǒng)中的照明均勻性校正裝置。
技術(shù)背景光刻是半導(dǎo)體制造中 一道重要工藝，其將掩膜版上的圖案精確地轉(zhuǎn)移到襯底(如硅片)上。在光刻系統(tǒng)中，激光源與掩膜版之間包含照明系統(tǒng)，用于 產(chǎn)生需要的照明模式和照明場分布。光刻中要求照明系統(tǒng)產(chǎn)生的照明場盡量均 勻，均勻性誤差盡量小，以便整個照明光束能夠均勻地照射在掩膜版上，并均 勻地投影到村底上。照明均勻性會影響整個曝光場的線寬均勻性。步進(jìn)掃描光刻系統(tǒng)是典型的光刻系統(tǒng)，它具有矩形照明場，掩膜臺和工件 臺沿著全曝光區(qū)域掃描矩形照明場，然后步進(jìn)到下一個曝光區(qū)，再沿著該曝光 區(qū)域掃描矩形照明場，依此進(jìn)行下去。沿掃描方向的光能量被積分，使掃描方 向矩形照明場的非均勻性;陂平均化。而掃描方向積分能量在非掃描方向的非均 勻性，會導(dǎo)致整個曝光場曝光不均勻。在美國專利US 7， 173,688 (公告日2007年2月6日)中，所述的均勻性 校正系統(tǒng)是利用多組校正元件來改變透射率，該系統(tǒng)具有雙邊結(jié)構(gòu)，即在照明 場兩邊插入許多校正元件，設(shè)置它們具有一定透過率分布，從而改變它們所覆 蓋區(qū)域的光強(qiáng)。照明場的每邊每個元件都具有對立的元件，每組對立元件具有 相同X坐標(biāo)，但在Y方向沿相反方向插入，對立元件也可旋轉(zhuǎn)具有V型結(jié)構(gòu)。 對立元件各自最大可以插入到照明場區(qū)域中間，彼此不重疊，也可以在照明場 區(qū)域重疊。在該專利中，由于每個校正元件具有有限寬度和厚度，因此每一個校正元 件具有多個邊。當(dāng)照明光束角較大時(即大Sigma照明時)，光可能在元件側(cè)面 形成反射，造成陰影。另外相鄰的校正元件之間也存在間隙，由于每一間隙具 有0%的衰減，而校正元件具有非零的衰減，因此間隙會產(chǎn)生漏光，通過間隙的光在照明區(qū)將產(chǎn)生較大強(qiáng)度的條紋帶或區(qū)域帶，由于這種透過率的突變而引入 新的非均勻性。而在美國專利US 7,088,527 (公告日2006年8月8日)中，提到了 一種 補(bǔ)償漏光和陰影的方法，這種方法在上述方案基礎(chǔ)上增加了額外的補(bǔ)償板，在 補(bǔ)償板上與間隙對應(yīng)區(qū)域設(shè)置非零衰減率，而在其它區(qū)域設(shè)置100°/。的透過率。 雖然利用這種帶透過率分布的補(bǔ)償板可以消除上述漏光與陰影效應(yīng)，但是需要 增加額外的補(bǔ)償板，而且補(bǔ)償板的透過率分布需要與校正元件的所有間隙對應(yīng)， 必然增加校正系統(tǒng)的復(fù)雜度。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的主要目的在于提供一種照明均勻性校正裝置，其不需要利用額外 的補(bǔ)償板，就可避免相鄰校正組件之間的間隙所導(dǎo)致的漏光和陰影；同時，其 可控制掃描方向積分能量的分布，并可控制全照明場的均勻性。為達(dá)上述目的，本發(fā)明提供一種照明均勻性校正裝置，設(shè)置在掩膜版附近 或掩模版的光學(xué)共軛面附近，其包含若干設(shè)置在照明光束橫截面的校正組件對， 其沿非掃描方向間隔排列設(shè)置以覆蓋整個照明場，沿掃描方向重疊設(shè)置以覆蓋 整個照明場，共同作用于光束，改變所覆蓋區(qū)域的照明光強(qiáng)；特點是，所述的校正組件對包含沿掃描方向插入矩形照明場的第一校正組件，和沿 掃描反方向插入矩形照明場的第二校正組件；所述的第一校正組件和第二校正組件在掃描方向與光束傳輸方向截面上呈 互相平行的平板狀，可分別在掃描方向做至少一維運(yùn)動，改變兩者之間的相對 位置；所述的第 一校正組件和第二校正組件上設(shè)置有隨位置變化而變化的透過率 分布，且該第一校正組件的透過率分布與第二校正組件的透過率分布相反設(shè)置， 即兩者在移動方向上具有相反變化趨勢的透過率分布。所述的所有校正組件對中的第 一校正組件均設(shè)置在同 一平面上，且相鄰的 兩個第 一校正組件之間設(shè)置間隔隔開；所述的所有校正組件對中的第二校正組 件均設(shè)置在同 一平面上，且相鄰的兩個第二校正組件之間設(shè)置間隔隔開。所述的相鄰第 一校正組件之間的間隔和相鄰第二校正組件之間的間隔大小相等。所述的所有第 一校正組件和對應(yīng)的第二校正組件之間設(shè)置間隔隔開。 所述的透過率分布至少是一維的透過率分布，可以是一次函數(shù)分布，或者 二次函數(shù)分布，或者三角函數(shù)分布，或者上述若干種函數(shù)的組合分布。 所述的第 一校正組件和第二校正組件由玻璃，或者透射材料制成。 所述的設(shè)置有透過率分布的第一校正組件和第二校正組件通過在制造材料上沉積透射或衰減物的方法制成，例如在玻璃基板上沉積鉻薄膜，根據(jù)位置 做成不同膜的函數(shù)形式，連續(xù)改變膜的厚度，以實現(xiàn)預(yù)定的透過率分布。所述的設(shè)置有透過率分布的第一校正組件和第二校正組件通過在制造材料 上沉積隨機(jī)點狀衰減或擋光物的方法制成，通過控制所述點狀物的密度以實現(xiàn) 預(yù)定的透過率分布。所述的第一校正組件和第二校正組件在垂直于掃描方向的光束傳輸截面是 矩形；該兩個校正組件在非掃描方向錯位重疊設(shè)置，此時，所述的透過率分布 分別設(shè)置在該兩個校正組件的相同表面，或者設(shè)置在該兩個校正組件的相異表 面。所述的第一校正組件和第二校正組件在垂直于掃描方向的光束傳輸截面是 平行四邊形，或梯形；該兩個校正組件在非掃描方向錯位重疊設(shè)置，此時，所 述的透過率分布分別設(shè)置在該兩個校正組件的相同表面，或者設(shè)置在該兩個校 正組件的相異表面；該兩個校正組件在非掃描方向也可以無錯位完全重疊設(shè)置， 此時，所述的透過率分布分別設(shè)置在該兩個校正組件的相異表面。所述的第一校正組件和第二校正組件在垂直于掃描方向的光束傳輸截面是 階梯形；該兩個校正組件相對于光束截面具有鏡像結(jié)構(gòu)，所述的透過率分布分 別設(shè)置在該兩個校正組件的相同表面，或者設(shè)置在該兩個校正組件的相異表面。本發(fā)明提供的照明均勻性校正裝置，由于每個校正組件對均可獨立的調(diào)節(jié) 所覆蓋照明場區(qū)域的透過率分布；同時，通過設(shè)置校正組件的不同形狀，并設(shè) 置相鄰的兩個校正組件對之間的連接方式，使得兩相鄰校正組件對之間共有區(qū) 域的透過率將介于兩個組件對獨立的透過率，并且相鄰組件對之間的間隙區(qū)域 具有非零衰減率。因而，不需要利用其它額外的補(bǔ)償板，即可避免相鄰組件對 之間的間隙導(dǎo)致的漏光和陰影。另外，調(diào)節(jié)所有校正組件對的透射率，可控制掃描方向積分能量的分布，也可控制全照明場的均勻性。


圖1是具有本發(fā)明所提供的均勻性校正裝置的步進(jìn)掃描光刻系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是步進(jìn)掃描光刻系統(tǒng)中的兩塊刀口陣列板組成刀口陣列對的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是本發(fā)明實施例中的均勻性校正裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4是本發(fā)明中非掃描方向的積分光強(qiáng)分布的示意圖；圖5是本發(fā)明實施例中的校正組件對在YZ截面的示意圖；圖6是本發(fā)明實施例中描述了校正組件對的透光率分布的示意圖；圖7是本發(fā)明實施例中的校正組件對在垂直于掃描方向的光束傳輸截面(XZ截面)為矩形的結(jié)構(gòu)示意圖；圖8是本發(fā)明實施例中的校正組件對在垂直于掃描方向的光束傳輸截面(XZ截面)為平行四邊形的結(jié)構(gòu)示意圖；圖9是本發(fā)明實施例中的校正組件對在垂直于掃描方向的光束傳輸截面(XZ截面)為梯形的結(jié)構(gòu)示意圖；圖10是本發(fā)明實施例中的校正組件對在垂直于掃描方向的光束傳輸截面(XZ截面)為階梯形的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合圖1-圖10,詳細(xì)說明本發(fā)明較佳的實施方式如圖1所示，為本發(fā)明所述的均勻性校正裝置所應(yīng)用的曝光投影系統(tǒng)的結(jié) 構(gòu)示意圖。其中，光源101產(chǎn)生用于曝光的激光光束，其可以是248nm，或者 193nm，或者其他波長的激光光源。光源發(fā)出的光束119首先經(jīng)過擴(kuò)束器102進(jìn) 行準(zhǔn)直，并將橢圓形光轉(zhuǎn)換為圓形光束；反射鏡單元103可以是單個反射鏡， 也可以是包含多個反射鏡的復(fù)雜傳輸系統(tǒng)，它將從擴(kuò)束器102出射的激光束119 傳輸?shù)焦馐ㄎ粏卧?04;光束定位單元104通過對光束采樣和分析，可以校正 光束119的入射位置和角度；然后光束119通過用于控制照明系統(tǒng)的能量的可調(diào)節(jié)光衰減器105和能量監(jiān)測單元106;經(jīng)過反射鏡107后，光束119進(jìn)入照明 系統(tǒng)頂部模塊。所述的照明系統(tǒng)頂部模塊包括模塊108,模塊109和模塊110;該模塊108是衍射光學(xué)元件組，它的主要作用是產(chǎn)生多種不同的照明模式， 例如圓形照明模式、環(huán)形照明模式、雙極照明模式和四極照明模式。所述的 衍射光學(xué)元件是可替換的，例如本模塊108是一個轉(zhuǎn)輪，在轉(zhuǎn)輪上設(shè)置有多 個能夠在遠(yuǎn)場形成不同光強(qiáng)分布的衍射光學(xué)片，分別用來產(chǎn)生不同的照明模式， 當(dāng)需要用其中某一個衍射光學(xué)片時，將其轉(zhuǎn)入光路即可。另外，本模塊108的 衍射光學(xué)片也可以用微透鏡陣列，或者菲涅爾透鏡，或者衍射光柵等元件代替。從模塊108出射的光束再入射到模塊109,該模塊109包括變焦透鏡組和旋 轉(zhuǎn)三棱鏡，所述的變焦透鏡組的放置位置應(yīng)當(dāng)滿足使模塊108正好位于變焦透 鏡組的前焦面上。模塊109與模塊108中的衍射元件組合后，可以得到適當(dāng)?shù)?照明光瞳，例如環(huán)形照明光瞳。另外，改變變焦透鏡組和旋轉(zhuǎn)三棱鏡的焦距 可以改變照明模式的部分相干度，例如改變環(huán)形光瞳的外環(huán)和內(nèi)環(huán)大小。光束119經(jīng)過模塊109后入射到模塊110,該模塊110包含三塊二維微柱面 陣列板，刀口陣列對，以及聚光鏡組；其中，第一塊二維微柱面陣列板放置于 模塊109中變焦透鏡組的出瞳(后焦面)位置，刀口陣列對被設(shè)置于第二塊和 第三塊二維微柱面陣列板之間，第一塊和第二塊二維微柱面陣列在刀口陣列處形成一中間光瞳像，第三塊二維微柱面陣列板起到場鏡作用，它和聚光鏡組共 同將刀口陣列處的光瞳成像到掩膜版112上，對掩膜版上的圖案進(jìn)行照明。為了獲得掃描方向(即Y方向)上的梯形照明場分布，掩膜版112的位置相對聚 光鏡組后焦面有偏離。上述模塊110所包含的刀口陣列對，可由兩塊同樣大小的刀口陣列板組成， 如圖2所示。每塊陣列板具有數(shù)個大小相同的通光圖案，通過調(diào)節(jié)兩塊刀口陣 列板的相對運(yùn)動，能夠連續(xù)改變光束在X和Y方向的視場大小。陣列板上的通 光圖案可以利用光刻工藝在石英上形成精確大小的吸收膜，也可以用易化學(xué)刻 蝕的材料，例如硅，利用光刻工藝在硅版上刻蝕出需要的孔。經(jīng)過模塊110出射的光束，在垂直于光軸118的平面內(nèi)是具有矩形照明場 大小的。本發(fā)明所述的均勻性校正裝置111用來校正矩形照明場的非均勻性，也用來校正硅片面115的線寬非均勻性。它可以位于模塊110和掩膜版112之間 靠近掩膜版附近的位置，也可位于掩模版112的光學(xué)共軛面附近。如圖1A所示， 該均勻性校正裝置111位于模塊110中聚光鏡組的后焦面附近。掩膜版112放置在掩膜臺113上，在步進(jìn)掃描曝光系統(tǒng)中，掩膜臺113能以 恒定速度沿Y方向往返掃描運(yùn)動，投影物鏡114將掩膜版112上的圖案投影到 硅片115,例如投影物鏡放大倍率為0.25。工件臺116設(shè)置在基座117上，其 承載硅片115。在步進(jìn)掃描曝光系統(tǒng)中，工件臺116可以在平行于投影物鏡114 像面的XY平面內(nèi)做兩維運(yùn)動，包括在Y方向以恒定速度做掃描運(yùn)動，在X和 Y方向以步進(jìn)方式運(yùn)動。對掩膜版112上的圖案的非均勻照明會通過投影物鏡114反映到硅片115 的圖形上，引起圖形的均勻性差異，使用本發(fā)明對照明系統(tǒng)均勻性的校正，可 以獲得硅片的均勻線寬。另外，投影物鏡114性能的退化也會導(dǎo)致照明均勻性 變化，造成硅片115上的圖形線寬非均勻，通過均勻性校正裝置111的調(diào)節(jié)補(bǔ)償， 可以達(dá)到校正硅片115上圖形線寬非均勻的目的。更進(jìn)一步，在硅片115測量 照明光強(qiáng)分布，對測試結(jié)果判斷處理，通過電子控制裝置，自動調(diào)節(jié)均勻性校 正裝置lll,達(dá)到及時補(bǔ)償硅片115照明光強(qiáng)均勻性的目的。如圖3所示，為本發(fā)明提供的均勻性校正裝置111的結(jié)構(gòu)示意圖，其包含2 組校正組件202n和203n (n-l, 2， ...， M),它們分別從矩形照明場201的兩 邊插入，具體的，校正組件202n沿掃描反方向(即-Y方向)插入照明場201 內(nèi)，校正組件203n沿掃描方向(即Y方向)插入照明場201內(nèi)。校正組件202n與對應(yīng)的校正組件203n組成一對校正組件對，其沿非掃描 方向間隔排列設(shè)置以覆蓋整個照明場，沿掃描方向重疊設(shè)置以覆蓋整個照明場， 共同作用于光束，改變所覆蓋區(qū)域的照明光強(qiáng)；如圖4所示，曲線301表示一 種非掃描方向的積分光強(qiáng)分布，所述的每個校正組件對可獨立校正該分布中的 部分區(qū)段，而所有的M對校正組件對共同作用，即可調(diào)節(jié)整個照明場在非掃描 方向的光強(qiáng)積分均勻性。所述的校正組件對202n和203n在掃描方向與光束傳輸方向截面上呈互相 平行的平板狀(如圖7-圖IO所示)，可分別在掃描方向做至少一維運(yùn)動，改變 兩者之間的相對位置；如圖5所示，校正組件202n和203n可以分別沿箭頭Sl和箭頭S2所示的方向移動。所述的校正組件對202n和203n上分別設(shè)置有隨位置變化而變化的透過率 分布，如圖5所示，校正組件202n和203n具有隨Y方向的位置變化的透過率 分布，該校正元件202n和203n之間相對位置的變化，可以調(diào)節(jié)校正組件對202n 和203n的整體透過率。所述的校正組件202n和203n的透過率分布相反設(shè)置，即兩者在移動方向 上具有相反變化趨勢的透過率分布。如圖6所示，校正組件202n具有圖6中虛 線401所示的線性分布，例如其透過率從一開始的70%線性增加到100%,而 校正組件203n具有圖6中虛線402所示的線性分布，例如其透過率從開始的 100%線性減小到70%,這兩者的組合可以在照明場內(nèi)所覆蓋的區(qū)域?qū)崿F(xiàn)如圖6 中直線403所示的透過率分布，實現(xiàn)需要的光強(qiáng)調(diào)制?；蛘?，校正組件202n具 有分段的透過率分布，即校正組件202n在初始至1/2的覆蓋范圍內(nèi)，透過率 從50°/。線性增加到100%,在1/2至末端的覆蓋范圍內(nèi)具有均勻的100%透過率， 此時，校正組件203n也同樣具有分段透過率分布，只是與校正組件202n的透 過率分布趨勢相反；這樣可實現(xiàn)校正組件202n和203n在所覆蓋的照明場范圍 內(nèi)無衰減光的目的，也使得相鄰的校正組件對之間不會因間隔而增加額外的散 光。所述的透過率分布至少是一維的透過率分布，具體可以是一次函數(shù)分布， 或者二次函數(shù)分布，或者三角函數(shù)分布，或者其他形式的函數(shù)分布。如圖2所示，所述的校正組件對中的第一校正組件202n均設(shè)置在同一平面 上，且相鄰的兩個^^正組件202n和202n-l之間^沒置槽縫204a間隔隔開；所述 的所有校正組件對中的第二校正組件203n均設(shè)置在同一平面上，且相鄰的兩個 第二校正組件203n和203n-l之間設(shè)置槽縫204b間隔隔開；所述的槽縫204a 和槽縫204b是大小相等的微小間隔。所述的校正組件202n和203n之間設(shè)置間隔隔開，該間隔是一個微小的距 離，例如O.lmm。所述的校正組件202n和203n由玻璃，或者透射材料制成。所述的設(shè)置有透過率分布的校正組件202n和203n通過在制造材料上沉積 透射或衰減物的方法制成，例如在玻璃基板上沉積鉻薄膜，根據(jù)位置做成不同膜的函數(shù)形式，連續(xù)改變膜的厚度，以實現(xiàn)預(yù)定的透過率分布。所述的設(shè)置有透過率分布的^f交正組件202n和203n通過在基板沉積隨^L點 狀衰減或擋光物的方法制成，通過控制所述點狀物的密度以實現(xiàn)預(yù)定的透過率 分布。如圖7所示，所述的校正組件202n和203n在垂直于掃描方向的光束傳輸 截面是矩形，在非掃描方向(X方向)錯位重疊設(shè)置，此時，所述的透過率分 布分別設(shè)置在該兩個校正組件的相同表面，例如，都設(shè)置在校正組件的上表面 207a或下表面207b，也可以設(shè)置在該兩個校正組件的相異表面，例如， 一個設(shè) 置在校正組件的上表面207a，另一個設(shè)置在下表面207b,反之亦可。由于此時校正組件202n和203n在X方向上的錯位，使得槽縫204a和204b 在光軸方向存在偏離，通過槽縫204a和204b的光具有非零衰減率，故該錯位 設(shè)置有效的減少了槽縫中光的泄露。校正組件對202n和203n形成透過率T(n), 而校正組件對202n-l和203n-l形成透過率T(n-l)，對于錯位部分205的透過率 介于T(n)和T(n-l)之間。所述的校正組件202n和203n在垂直于掃描方向的光束傳輸截面是平行四 邊形(如圖8所示)，或梯形(如圖9所示)；該兩個^f交正組件202n和203n在 非掃描方向(X方向)可以錯位重疊設(shè)置(圖中未顯示)，此時，所述的透過率 分布分別設(shè)置在該兩個校正組件的相同表面，或者設(shè)置在該兩個校正組件的相 異表面；該兩個才交正組件202n和203n在非掃描方向(X方向)也可以無錯位 完全重疊設(shè)置，此時，槽縫204a和204b為傾斜于光軸方向；所述的校正組件 202n和203n的透過率分布分別設(shè)置在相異表面，例如，校正組件202n的透過 率分布設(shè)置在上表面207a,而校正組件203n的透過率分布設(shè)置在下表面207b， 反之亦可。類似于如圖7所示，這種透過率的交錯分布設(shè)置減少了槽縫中的光泄露， 錯位部分的透過率介于相鄰的校正組件對的透過率之間。如圖IO所示，所述的校正組件202n和203n在垂直于掃描方向的光束傳輸 截面是階梯形；此時，槽縫204a和204b具有階梯式結(jié)構(gòu)，而兩個校正組件202n 和203n相對于光束截面具有鏡像結(jié)構(gòu)，所述的透過率分布分別設(shè)置在該兩個校 正組件的相同表面，例如，都設(shè)置在校正組件的上表面207a或下表面207b,也可以設(shè)置在該兩個校正組件的相異表面，例如， 一個設(shè)置在校正組件的上表面207a,另一個設(shè)置在下表面207b,反之亦可。所述的階梯式槽縫結(jié)構(gòu)能減少漏光，也使中間部分206的透過率介于相鄰 兩個校正組件對的透過率之間。本發(fā)明提供的照明均勻性校正裝置，校正組件在垂直于掃描方向的截面還 可以是除矩形，平行四邊形，梯形，階梯形外的其它任何復(fù)雜結(jié)構(gòu)，并且可以 設(shè)置重疊、錯位、鏡像或設(shè)置透過率分布在相同或相異表面等特定的連接方式， 這種連接方式滿足兩相鄰校正組件對之間共有區(qū)域的透過率介于兩個組件對獨 立的透過率，并且使相鄰組件對之間的間隙區(qū)域具有非零的衰減率，避免相鄰 組件之間的間隙導(dǎo)致漏光和陰影。另外，調(diào)節(jié)所有組件對的透射率，可控制掃 描方向積分能量的分布，也可控制全照明場的均勻性。
權(quán)利要求
1.一種照明均勻性校正裝置，設(shè)置在掩膜版附近或掩模版的光學(xué)共軛面附近，其包含若干設(shè)置在照明光束橫截面的校正組件對，該若干校正組件對沿非掃描方向間隔排列設(shè)置并覆蓋整個照明場，沿掃描方向重疊設(shè)置并覆蓋整個照明場；其特征在于所述的校正組件對包含沿掃描方向插入矩形照明場的第一校正組件，和沿掃描反方向插入矩形照明場的第二校正組件；所述的第一校正組件和第二校正組件在掃描方向與光束傳輸方向截面上呈互相平行的平板狀，分別在掃描方向做至少一維運(yùn)動，改變兩者之間的相對位置；所述的第一校正組件和第二校正組件上設(shè)置有隨位置變化而變化的透過率分布，且該第一校正組件的透過率分布與第二校正組件的透過率分布相反設(shè)置，即兩者在移動方向上具有相反變化趨勢的透過率分布。
2. 如權(quán)利要求1所述的照明均勻性校正裝置，其特征在于，所述的所有校正組 件對中的第 一校正組件均設(shè)置在同 一平面上，且相鄰的兩個第 一校正組件之 間設(shè)置間隔隔開。
3. 如權(quán)利要求1所述的照明均勻性校正裝置，其特征在于，所述的所有校正組 件對中的第二校正組件均設(shè)置在同 一平面上，且相鄰的兩個第二校正組件之 間設(shè)置間隔隔開。
4. 如權(quán)利要求2或3所述的照明均勻性校正裝置，其特征在于，所述的相鄰第 一校正組件之間的間隔和相鄰第二校正組件之間的間隔大小相等。
5. 如權(quán)利要求1所述的照明均勻性校正裝置，其特征在于，所述的所有第一校 正組件和對應(yīng)的第二校正組件之間設(shè)置間隔隔開。
6. 如權(quán)利要求1所述的照明均勻性校正裝置，其特征在于，所述的第一校正組 件和第二校正組件的透過率分布至少是一維的透過率分布。
7. 如權(quán)利要求6所述的照明均勻性校正裝置，其特征在于，所述的第一校正組 件和第二校正組件的透過率分布為一次函數(shù)分布，或者二次函數(shù)分布，或者三角函數(shù)分布，或者上述若干種函數(shù)的組合分布。
8. 如權(quán)利要求1所述的照明均勻性校正裝置，其特征在于，所述的第一校正組 件和第二校正組件由玻璃，或者透射材料制成。
9. 如權(quán)利要求8所述的照明均勻性校正裝置，其特征在于，所述的設(shè)置有透過 率分布的第一校正組件和第二校正組件通過在制造材料上沉積透射或衰減物 的方法制成。
10. 如權(quán)利要求8所述的照明均勻性校正裝置，其特征在于，所述的設(shè)置有透過 率分布的第一校正組件和第二校正組件通過在制造材料上沉積隨機(jī)點狀衰減 或擋光物的方法制成，通過控制所述點狀物的密度以實現(xiàn)預(yù)定的透過率分布。
11. 如權(quán)利要求1所述的照明均勻性校正裝置，其特征在于，所述的第一校正組 件和第二校正組件在垂直于掃描方向的光束傳輸截面是矩形。
12. 如權(quán)利要求11所述的照明均勻性校正裝置，其特征在于，所述的第一校正組 件和第二校正組件在非掃描方向錯位重疊設(shè)置。
13. 如權(quán)利要求12所述的照明均勻性校正裝置，其特征在于，所述的透過率分布 分別設(shè)置在第一校正組件和第二校正組件的相同表面，或者設(shè)置在該兩個校 正組件的相異表面。
14. 如權(quán)利要求1所述的照明均勻性校正裝置，其特征在于，所述的第一校正組 件和第二校正組件在垂直于掃描方向的光束傳輸截面是平行四邊形，或梯形。
15. 如權(quán)利要求14所述的照明均勻性校正裝置，其特征在于，所述的第一校正組 件和第二校正組件在非掃描方向錯位重疊設(shè)置。
16. 如權(quán)利要求15所述的照明均勻性校正裝置，其特征在于，所述的透過率分布 分別設(shè)置在第一校正組件和第二校正組件的相同表面，或者設(shè)置在該兩個校 正組件的相異表面。
17. 如權(quán)利要求14所述的照明均勻性校正裝置，其特征在于，所述的第一校正組 件和第二校正組件在非掃描方向無錯位重疊設(shè)置。
18. 如權(quán)利要求17所述的照明均勻性校正裝置，其特征在于，所述的透過率分布 分別設(shè)置在第一校正組件和第二校正組件的相異表面。
19. 如權(quán)利要求1所述的照明均勻性校正裝置，其特征在于，所述的第一校正組 件和第二校正組件在垂直于掃描方向的光束傳輸截面是階梯形。
20. 如權(quán)利要求19所述的照明均勻性校正裝置，其特征在于，所述的第一校正組 件和第二校正組件相對于光束截面具有鏡像結(jié)構(gòu)。
21. 如權(quán)利要求20所述的照明均勻性校正裝置，其特征在于，所述的透過率分布 分別設(shè)置在第一校正組件和第二校正組件的相同表面，或者設(shè)置在該兩個校 正組件的相異表面。
全文摘要
本發(fā)明提供一種照明均勻性校正裝置，其設(shè)置在掩膜版附近或掩模版的光學(xué)共軛面附近，包含若干設(shè)置在照明光束橫截面的校正組件對，沿非掃描方向間隔排列設(shè)置，沿掃描方向重疊設(shè)置；該校正組件對包含沿掃描方向插入矩形照明場的第一校正組件，和沿掃描反方向插入矩形照明場的第二校正組件；該第一、第二校正組件在掃描方向與光束傳輸方向截面上呈互相平行的平板狀，可分別在掃描方向做至少一維運(yùn)動；該第一、第二校正組件上設(shè)置有隨位置變化的透過率分布，且該第一、第二校正組件的透過率分布相反設(shè)置。本發(fā)明可避免相鄰校正組件之間的間隙所導(dǎo)致的漏光和陰影；同時，其可控制掃描方向積分能量的分布，并可控制全照明場的均勻性。
文檔編號G03F7/20GK101221373SQ20081003311
公開日2008年7月16日 申請日期2008年1月25日 優(yōu)先權(quán)日2008年1月25日
發(fā)明者李仲禹, 程波濤 申請人:上海微電子裝備有限公司