專(zhuān)利名稱(chēng)：：液晶顯示裝置及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及液晶顯示裝置及其制造方法。
背景技術(shù)：
：液晶顯示裝置由于小巧、重量輕和功耗低的優(yōu)點(diǎn)，已經(jīng)廣泛地用作適合各種用途的顯示裝置。近來(lái)，液晶顯示裝置廣泛地用于包括家用大尺寸的電視接收機(jī)和小尺寸的移動(dòng)電話，并且因此對(duì)顯示裝置性質(zhì)的要求，尤其對(duì)其視角的要求越來(lái)越高?？紤]到這些，例如，在先所提出的是TN(扭轉(zhuǎn)向列，TwistedNematic)才莫式牙口IPS(面內(nèi)+刀4奐，In-PlaneSwitching)才莫式(侈寸^口，參考專(zhuān)利文獻(xiàn)1(JP-B-63-21907))和多疇VA(垂直取向，VerticalAlignment)模式(MVA)(例如，參考專(zhuān)利文獻(xiàn)2(JP-A-10-186330))。在這些模式中，例如，由MVA模式所代表的VA模式是高生產(chǎn)率的，容易獲得高對(duì)比度和寬的單元間隔的控制余量，這是因?yàn)橐壕Х肿酉鄬?duì)于基板垂直取向。專(zhuān)利文獻(xiàn)3(JP-A-2005-266778)描述了關(guān)于在液晶分子上取向控制的方法，該方法使用通過(guò)給像素部分提供電介質(zhì)構(gòu)件作為用于取向分割(alignmentdivision)的手段，或者對(duì)像素的透明電極例如ITO(銦錫氧化物)的部分形成凹槽和切口(notchesandslits)所獲得的傾斜電場(chǎng)。用這樣的方法，如圖IOA的示意性平面布局圖和圖IOB的其主要部分截面圖所示，液晶分子22可以圍繞取向控制元件34例如電介質(zhì)構(gòu)件放射狀地取向，該取向控制元件提供到子像素50中的像素電極(公共電極)32。這通過(guò)給像素40中的像素電極32和像素電極12形成凹槽來(lái)實(shí)現(xiàn)，由此將像素40分成多個(gè)子像素50(51、52和53)。對(duì)于每個(gè)所產(chǎn)生的子像素50，取向控制元件34設(shè)置在位于相對(duì)于像素電極12的像素電極32上，處于子像素50的中心。用這樣的液晶分子22的放射狀取向，減小了方位角方向上的亮度的任何可覺(jué)察性變化，由此得到寬視角特性。然而，對(duì)于將像素分成多個(gè)子像素，需要在子像素之間建立電連接。因此上述方法嘗試在每個(gè)子像素的中心部分留下像素電極(公共電極)。在該方法中，在子像素中提供到對(duì)向電極的取向控制元件負(fù)責(zé)控制取向方向。該方法的問(wèn)題是施加給電連接的部分的取向控制弱。因此，當(dāng)液晶面板受壓時(shí)，例如，如圖11B的照片實(shí)例所示，液晶分子的取向喪失。在圖11B的實(shí)例中，在不同于受壓之前的方向上推動(dòng)電連接部分中的液晶分子。子像素的取向也因而喪失，因此導(dǎo)致很差的取向。如圖11A的照片實(shí)例所示，當(dāng)液晶面板的表面不受壓時(shí)，觀察不到耳又向紊亂(misalignments就是說(shuō)，如圖10A和10B所示，在像素中，之前要求電連接建立在子像素之間的像素電極(連接部分)之間。然而，在上述方法中，沒(méi)有提供元件來(lái)限定連接部分中的取向，因此取向狀態(tài)不穩(wěn)定。例如，當(dāng)面板的表面上受壓，液晶分子的取向一旦無(wú)選擇地喪失時(shí)，取向再也不能返回到以前的情形。圖12示意性地展示了示范性的取向紊亂。液晶分子22所產(chǎn)生的取向紊亂不能原樣地恢復(fù)，在面板上所觀察到的是帶有取向紊亂痕跡的異常顯示現(xiàn)象。可以通過(guò)設(shè)置子像素50彼此分開(kāi)來(lái)減少顯示異常的程度，但是子像素50之間較長(zhǎng)的距離引起另外的透射率降低的問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容當(dāng)由于液晶面板上受壓而導(dǎo)致液晶分子的取向一旦喪失時(shí)，例如，該取向不會(huì)再返回到以前的情形，因此導(dǎo)致在液晶面板上由于取向紊亂痕跡的異常顯示。因此，希望通過(guò)由像素分割來(lái)制作子像素以使它們每個(gè)用作電氣上獨(dú)立的像素，從而當(dāng)液晶顯示裝置的顯示表面受壓即表面受壓時(shí)，抑制對(duì)液晶分子所產(chǎn)生的取向紊亂的程度。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，提供有一種液晶顯示裝置，包括液晶層，設(shè)置在彼此相對(duì)的基板之間，其中像素被取向分割成多個(gè)子像素；和電介質(zhì)構(gòu)件，提供在電連接子像素的連接部分上。在本發(fā)明的實(shí)施例中，在子像素之間的電連接部分上提供電介質(zhì)構(gòu)件能夠使子像素彼此電氣上獨(dú)立，從而液晶分子可以穩(wěn)定地取向。這樣，即使液晶分子的取向由于液晶面板受壓而喪失，該取向也迅速返回到其以前的狀態(tài)，因此順利地解決當(dāng)液晶面板表面受壓時(shí)所引起的由于痕跡的差的顯示的問(wèn)題。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例，提供有一種液晶顯示裝置的制造方法，該液晶顯示裝置包括設(shè)置在彼此相對(duì)的基板之間的液晶層，并且其中像素被取向分割成多個(gè)子像素。該制造方法包括在電連接子像素的連接部分上形成電介質(zhì)構(gòu)件的步驟。在本發(fā)明的該實(shí)施例中，提供在子像素之間的電連接部分上形成電介質(zhì)構(gòu)件的步驟能夠使子像素彼此電氣上獨(dú)立，從而液晶分子可以穩(wěn)定地取向。這樣，即使液晶分子的取向由于液晶面板受壓而喪失，該取向也迅速返回到其以前的狀態(tài)，因此適合于提供一種液晶顯示裝置，當(dāng)液晶面板的表面受壓時(shí)其不引起由于痕跡的差的顯示的問(wèn)題。就本發(fā)明的實(shí)施例而言，具有能夠改善顯示質(zhì)量的優(yōu)點(diǎn)，這是因?yàn)椴辉儆幸壕姘灞砻媸軌阂鸬牟畹娘@示的可能性。此外，對(duì)于形成在子像素中的電連接部分上的電介質(zhì)構(gòu)件和用于對(duì)液晶分子的取向控制而形成在每個(gè)子像素的取向控制元件取得尺寸最小化，因此能夠增加透射率。還有，因?yàn)楦纳屏酸槍?duì)表面受壓的抵抗性，所以不再需要用于改善對(duì)表面受壓的抵抗性所曾經(jīng)要求的減J、基板之間的間距，即所謂的單元間隔。因此，這能夠增加基板間的間隔，從而可以改善透射特性。就本發(fā)明的實(shí)施例而言，具有能夠提供改善顯示質(zhì)量的液晶顯示裝置的優(yōu)點(diǎn)，這是因?yàn)椴辉儆幸壕姘宓谋砻媸軌核鸬牟畹娘@示的可能性。此外，對(duì)于形成在子像素中的電連接部分上的電介質(zhì)構(gòu)件和用于對(duì)液晶分子的取向控制而形成在每個(gè)子像素的取向控制元件取得尺寸最小化，因此能夠提供增加透射率的液晶顯示裝置。還有，因?yàn)楦纳屏酸槍?duì)表面受壓的抵抗性，不再需要用于改善針對(duì)表面受壓的抵抗性所曾經(jīng)要求的減小基板之間的間距，即所謂的單元間隔。因此，這能提供增加基板之間的間隔從而可以改善透射特性的液晶顯示裝置。圖1A和1B分別為本發(fā)明第一實(shí)施例的示意性平面布局圖和主要部分截面圖2A和2B分別為液晶顯示面板的表面受壓前后的液晶面板的示意性平面布局圖3A和3B分別為電介質(zhì)構(gòu)件的示范性形成位置的示意性平面布局圖4A和4B分別為本發(fā)明第二實(shí)施例的展示像素電極和取向控制元件之間位置關(guān)系的示意性平面布局圖，以及像素電極和電介質(zhì)構(gòu)件之間位置關(guān)系的示意性平面布局圖5A和5B分別為本發(fā)明第三實(shí)施例展示像素電極和取向控制元件之間的位置關(guān)系的示意性平面布局圖，以及像素電極和電介質(zhì)構(gòu)件之間的位置關(guān)系的示意性平面布局圖6A和6B分別為本發(fā)明第四實(shí)施例的示意性平面布局圖和主要部分截面圖7A和7B分別為本發(fā)明第五實(shí)施例的示意性平面布局圖和主要部分截面圖8為本發(fā)明第六實(shí)施例的主要部分截面圖9為本發(fā)明第七實(shí)施例的主要部分截面圖IOA和IOB分別為在先的液晶顯示裝置的示意性平面布局圖和主要部分截面圖IIA和11B分別為液晶顯示面板表面受壓前后的像素的照片；以及圖12是展示示范性取向紊亂的示意性平面布局圖。具體實(shí)施例方式通過(guò)參照?qǐng)D1A的示意性平面布局圖和圖1B的主要部分截面圖，來(lái)描述本發(fā)明的實(shí)施例即第一實(shí)施例。如圖1A和1B所示，液晶顯示裝置1的液晶材料為垂直取向型。在該裝置中，液晶層20密封在相對(duì)的基板10和30之間，并且包括多個(gè)像素40用于圖像顯示。每個(gè)像素40由多個(gè)子像素50構(gòu)造，例如子像素51、52和53,它們被取向分割(alignment-divided)。子像素50由形成在基板10上的像素電極12彼此電連接，并且例如子像素50之間的像素電極12形成有凹槽61。子像素50之間的像素電極12在其上形成有電介質(zhì)16，并且這樣的部分在下文稱(chēng)為連接部分14。用于取向分割像素40的像素分割通過(guò)對(duì)形成在基板10的像素電極12形成如圖1A和1B所示的孔、切口或凹槽61來(lái)進(jìn)行。作為選H像素分割可以由形成在像素電極12或與其連接的反射電極(未示出)上的電介質(zhì)構(gòu)件來(lái)實(shí)施。與基板IO在形成有電介質(zhì)16的一側(cè)相對(duì)的基板30，即對(duì)向基板30，形成有像素電極32。在像素電極32位于每個(gè)子像素50中心的部分，即在液晶層20側(cè)的表面，形成有取向控制元件34。該取向控制元件34由例如電介質(zhì)構(gòu)件形成。在上述液晶顯示裝置1中，電介質(zhì)構(gòu)件16形成在連接部分14上，在連接部分14子像素50彼此電連接，從而子像素50可以是彼此電氣上獨(dú)立的(electricallyseparate)。結(jié)果，可以穩(wěn)定液晶層20的取向，特別是在連接部分14的液晶分子22的取向。如圖2A所示，例如，在液晶顯示面+反表面受壓之前，液晶分子22圍繞取向控制元件34放射狀地取向。如圖2B所示，即使在液晶顯示面板表面受壓之后，液晶分子22迅速恢復(fù)到原始取向，即圍繞取向控制元件34的放射狀地取向，從而沒(méi)有引起液晶分子22取向紊亂的可能性。這樣，因?yàn)榧词乖诒砻媸軌簳r(shí)也沒(méi)有液晶分子22取向紊亂的可能性，所以可以成功地解決液晶面板上由于表面受壓痕跡的差的顯示的問(wèn)題。更好的是，減小了從方位角方向上的任何可察覺(jué)的亮度變化，因此獲得寬視角特性。為了穩(wěn)定液晶分子22取向的目的，在先的像素構(gòu)造要求連接部分14在子像素50之間具有特定長(zhǎng)度，并且在相對(duì)側(cè)上的取向控制元件34為特定的尺寸。該要求是透射率下降的原因。另一方面，在本發(fā)明的實(shí)施例中，通過(guò)將電介質(zhì)16設(shè)置在連接部分14，可以取得連接部分14和取向控制元件34的尺寸最小化，這是因?yàn)槿缟纤龇€(wěn)定了液晶分子22的取向。這樣，液晶顯示裝置1可以提供足夠水平的透射率。接下來(lái)，通過(guò)參照?qǐng)D3A和3B以及表1，描述關(guān)于電介質(zhì)16形成位置的實(shí)驗(yàn)結(jié)果。針對(duì)像素40的如下構(gòu)造進(jìn)行了就表面受壓時(shí)液晶分子的取向穩(wěn)定性的測(cè)試如圖3A所示的在先構(gòu)造；圖3B所示的構(gòu)造，即其中電介質(zhì)構(gòu)件16(16A)設(shè)置在子像素50之間的像素電極12即連接部分14上的構(gòu)造；其中電介質(zhì)構(gòu)件16(16B)沒(méi)有設(shè)置在子像素50之間的連接部分14上的構(gòu)造；其中電介質(zhì)構(gòu)件16(16C)設(shè)置在子像素50周?chē)皇窃谧酉袼?0之間的連接部分14上的構(gòu)造；以及這些構(gòu)造的組合的構(gòu)造。表l展示了該實(shí)驗(yàn)結(jié)果。在表l中，"A"表示有效的實(shí)驗(yàn)結(jié)果，而"B"表示無(wú)效的實(shí)驗(yàn)結(jié)果。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage9</column></row><table>如表1所示，對(duì)于不包括電介質(zhì)構(gòu)件16的構(gòu)造，在表面受壓后觀察到取向紊亂的痕跡。另一方面，只有電介質(zhì)構(gòu)件16設(shè)置在作為子像素50之間連接構(gòu)件14的像素電極12上的構(gòu)造，觀察到取向穩(wěn)定性。包括不在作為連接部分14的像素電極12上的電介質(zhì)構(gòu)件16的構(gòu)造，沒(méi)有觀察到對(duì)表面受壓后的取向紊亂的效果。對(duì)于取向控制元件34為電介質(zhì)構(gòu)件或者形成在像素電極32上的切口的構(gòu)造，觀察到對(duì)于取向紊亂的效果。考慮到這些，對(duì)于設(shè)置在作為子像素50之間連接部分14的像素電極12上的電介質(zhì)16，每個(gè)子像素50變?yōu)殡姎馍溪?dú)立的。這相應(yīng)地導(dǎo)致取向穩(wěn)定，從而通常由于表面受壓引起的差的圖像質(zhì)量的問(wèn)題可以得到解決。該效果不僅在透射型和反射型液晶顯示裝置中觀察到，而且在包括由反射電極和透明電極形成的像素電極的半透射型液晶顯示裝置中也同樣觀察到。接下來(lái)，通過(guò)參照展示像素電極和取向控制元件之間位置關(guān)系的圖4A的示意性平面布局圖和展示像素電極和電介質(zhì)構(gòu)件之間位置關(guān)系的圖4B的另一個(gè)示意性平面布局圖，來(lái)描述本發(fā)明的實(shí)施例，即第二實(shí)施例。如圖4A所示，像素電極12的連接部分14形成在任何兩個(gè)子像素50之間的垂直端部。如圖4B所示，通過(guò)形成電介質(zhì)構(gòu)件16到連接部分14,該構(gòu)造也導(dǎo)致類(lèi)似于參照表1描述的電介質(zhì)16A的構(gòu)造的效果。通過(guò)參照展示像素電極和取向控制元件之間位置關(guān)系的圖5A的示意性平面布局圖和展示像素電極和電介質(zhì)構(gòu)件之間位置關(guān)系的圖5B的另一個(gè)示意性平面布局圖，來(lái)描述本發(fā)明的實(shí)施例，即第三實(shí)施例。如圖5A所示，像素電極12的連接部分14完全形成在任何兩個(gè)子像素50之間的部分。如圖5B所示，通過(guò)在連接部分14上形成電介質(zhì)構(gòu)件16，該構(gòu)造也導(dǎo)致類(lèi)似于參照表1描述的電介質(zhì)16A的構(gòu)造的效果。這樣，通過(guò)在像素電極12(連接部分14)上形成電介質(zhì)構(gòu)件16,這里子像素電連接而不管連接部分14的形成位置，實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示，穩(wěn)定了液晶分子的取向，并且即使表面受壓也不會(huì)引起取向紊亂的問(wèn)題。如圖3B所示，當(dāng)形成所有的電介質(zhì)構(gòu)件16A、16B和16C時(shí)改善了取向穩(wěn)定性。液晶顯示裝置通常顯示出隨著相對(duì)的基板之間的窄的間距，即窄的單元間隔，取向穩(wěn)定性更好的傾向，但也顯示出透射率降低的傾向。另一方面，因?yàn)楸景l(fā)明實(shí)施例的液晶顯示裝置1具有好的和滿(mǎn)意的取向穩(wěn)定性，如表2所示，所以對(duì)于單元間隔，也可以預(yù)期取向穩(wěn)定性的余量擴(kuò)展效果(marginwideningeffect),從而也可以改善透射率。表2<table>tableseeoriginaldocumentpage11</column></row><table>A:在表面受壓后沒(méi)有取向紊亂的痕跡B:表面受壓后帶有取向紊亂的痕跡作為像素分割的結(jié)果的子像素之間更大的像素電極的連接部分通常穩(wěn)定液晶分子的取向，但是不足以解決其取向紊亂的問(wèn)題，并且引起透射率下降。另一方面，因?yàn)楸景l(fā)明實(shí)施例的液晶顯示面板1具有好的和滿(mǎn)意的取向穩(wěn)定性，如表3所示，所以連接部分可以為更小的尺寸，因此導(dǎo)致更好的透射率。表3<table>tableseeoriginaldocumentpage11</column></row><table>A:表面受壓后沒(méi)有取向紊亂的痕跡B:表面受壓后帶有取向紊亂的痕跡形成在對(duì)向基板的更大的取向控制元件通常穩(wěn)定液晶分子的取向，但是不足以解決表面受壓引起的取向紊亂的問(wèn)題，并且引起透射率下降。另一方面，因?yàn)楸景l(fā)明實(shí)施例的液晶顯示面板1具有好的和滿(mǎn)意的取向穩(wěn)定性，如表4所示，所以取向控制元件可以為更小的尺寸，因此導(dǎo)致更好的透射率，并且很好地消除了產(chǎn)生取向紊亂的可能性。表4展示了一個(gè)實(shí)例，其中形成在對(duì)向基板側(cè)上的像素電極的孔用作取向控制元件。作為選擇，取向控制元件可以由電介質(zhì)構(gòu)件形成，并且在此情況下，可以取得類(lèi)似的效果。表4<table>tableseeoriginaldocumentpage12</column></row><table>A:表面受壓后沒(méi)有取向紊亂的痕跡B:表面受壓后帶有取向紊亂的痕跡電介質(zhì)構(gòu)件16的形成影響對(duì)比度。為了改善對(duì)比度，屏蔽光是有效的。通過(guò)參照?qǐng)D6A至8，來(lái)描述這些實(shí)施例，即第四至第六實(shí)施例，其中形成有光屏蔽膜。通過(guò)參照?qǐng)D6A的示意性平面布局圖和圖6B的主要部分截面圖，首先描述第四實(shí)施例。如圖6A和6B所示，液晶顯示裝置2類(lèi)似于參照?qǐng)D1A和1B描述的液晶顯示裝置1的構(gòu)造，但是區(qū)別在于光屏蔽元件71形成在基板(未示出)形成有電介質(zhì)構(gòu)件16側(cè)上的電介質(zhì)構(gòu)件16之下。電介質(zhì)構(gòu)件16經(jīng)由平坦膜18上的像素電極12形成在連接部分14上。平坦膜18覆蓋形成在基板(未示出)上的元件層(未示出)，并且連接部分14為子像素50之間像素電極12的一部分。在這樣形成的電介質(zhì)構(gòu)件16下，光屏蔽元件71形成在平坦膜18的下側(cè)。對(duì)于在元件側(cè)上形成光屏蔽元件71這樣的構(gòu)造，光屏蔽元件71可以在形成元件工藝的同時(shí)形成，即在鉬(Mo)、鋁(Al)和其它金屬工藝的同時(shí)。接下來(lái)，通過(guò)參照?qǐng)D7A的示意性平面布局圖和圖7B的主要部分截面圖，來(lái)描述第五實(shí)施例。如圖7A和7B所示，液晶顯示裝置2的構(gòu)造類(lèi)似于參照?qǐng)D1A和1B描述的液晶顯示裝置1，但是區(qū)別在于光屏蔽元件73形成在基板(未示出)形成有電介質(zhì)構(gòu)件16的側(cè)上的電介質(zhì)構(gòu)件16下。層間絕緣膜17形成來(lái)覆蓋形成在基板(未示出)上的元件層(未示出)，并且在層間絕緣膜17的上表面上形成有平坦膜18。電介質(zhì)構(gòu)件16經(jīng)由平坦膜18上的像素電極12形成在作為子像素50之間像素電極12的一部分的連接部分14上，并且在電介質(zhì)構(gòu)件16下，光屏蔽元件73形成在層間絕緣膜17中。關(guān)于在元件側(cè)上形成光屏蔽元件73這樣的構(gòu)造，光屏蔽元件73可以在形成元件工藝的同時(shí)形成，即在鉬(MO)、鋁(Al)和其它金屬工藝的同時(shí)。接下來(lái)，通過(guò)參照?qǐng)D8的主要部分截面圖，來(lái)描述第六實(shí)施例。如圖8所示，液晶顯示裝置2的構(gòu)造類(lèi)似于參照?qǐng)D1A和1B描述的液晶顯示裝置1,但是區(qū)別在于光屏蔽元件75形成在對(duì)向基板(未示出)的側(cè)面上相對(duì)于電介質(zhì)構(gòu)件16的位置，該對(duì)向基板相對(duì)于形成有電介質(zhì)構(gòu)件16的基板(未示出)。例如，光屏蔽元件75形成到形成在對(duì)向基板(未示出)上的色彩層(coloringlayer)例如濾色器36的下側(cè)。關(guān)于在濾色器側(cè)上形成光屏蔽元件75的構(gòu)造，光屏蔽元件75可以在形成黑矩陣的同時(shí)形成，從而對(duì)生產(chǎn)率不產(chǎn)生影響。對(duì)于上述的第四至第六實(shí)施例，形成光屏蔽元件71、73和75能夠保證對(duì)比度，從而顯示屏可以具有更好的可視性。如表5所示，如參照?qǐng)D3B所描述，不僅形成電介質(zhì)構(gòu)件16A而且形成電介質(zhì)構(gòu)件16B和16C可以增加在液晶分子取向上的控制力。此外，為了具有取向穩(wěn)定性，要求電介質(zhì)構(gòu)件16A、16B和16C高到一定程度。表5的結(jié)果對(duì)應(yīng)于液晶顯示裝置的單元間隔為3.5pm，并且對(duì)于電介質(zhì)構(gòu)件16A、16B和16C的有效的高度取決于影響液晶分子取向的任何因素，例如，單元間隔、像素尺寸、像素電極、對(duì)向取向控制元件以及其它因素。<table>tableseeoriginaldocumentpage13</column></row><table>如上所述，取向控制力隨著電介質(zhì)構(gòu)件16的高度增加而增加，但是如表5所示，對(duì)比度隨著電介質(zhì)構(gòu)件16的高度增加而減小。在此應(yīng)當(dāng)注意的是，更高高度的電介質(zhì)構(gòu)件16將降低光學(xué)性質(zhì)，而光屏蔽膜將解決對(duì)比度的問(wèn)題。周此，對(duì)于高度的調(diào)整，電介質(zhì)構(gòu)件16也可以用作決定單元間隔的間隔物(spacer)。通過(guò)參照?qǐng)D9的主要部分截面圖，描述了作為第七實(shí)施例的實(shí)例。表6<table>tableseeoriginaldocumentpage14</column></row><table>如圖9所示，液晶顯示裝置3的構(gòu)造類(lèi)似于參照?qǐng)D1A和IB描述的液晶顯示裝置1的構(gòu)造，但是區(qū)別在于由電介質(zhì)構(gòu)件16形成決定單元間隔的間隔物。這樣，電介質(zhì)構(gòu)件16形成來(lái)連接元件側(cè)上的像素電極12和對(duì)向基板(未示出)的側(cè)面上的像素電極32。同樣在該實(shí)例中，在形成有電介質(zhì)構(gòu)件16的基板(未示出)的側(cè)面上，光屏蔽元件71形成在電介質(zhì)構(gòu)件16下。該光屏蔽元件可以如上述第五和第六實(shí)施例構(gòu)造。電介質(zhì)構(gòu)件16經(jīng)由形成在平坦膜18上的像素電極12形成在作為子像素50之間像素電極12的一部分的連接部分14上，該平坦膜18提供為覆蓋形成在基板(未示出)上的元件層(未示出)。這樣，在第七實(shí)施例中，當(dāng)電介質(zhì)構(gòu)件16經(jīng)過(guò)高度調(diào)整用于形成單元間隔的間隔物時(shí)，沒(méi)有必要在濾色器側(cè)上提供光間隔物(photospacer),從而可以適當(dāng)減少工藝數(shù)量。而且，因?yàn)樾纬稍谧酉袼刂g的電連接部分14的電介質(zhì)構(gòu)件16也用作保持基板之間間距的間隔物，所以該間隔物可以規(guī)則間隔隔開(kāi)。結(jié)果，基板之間的間距可以保持均勻。關(guān)于上述實(shí)施例中描述的液晶顯示裝置，電介質(zhì)構(gòu)件16設(shè)置在用于電連接子像素50的連接部分14上，從而子像素50可以彼此電氣上獨(dú)立。這適合于穩(wěn)定液晶材料(液晶分子)22的取向。這樣，即使液晶分子的取向一旦由于液晶顯示面板的表面受壓而喪失，液晶分子也迅速恢復(fù)到以前的取向狀態(tài)，因此解決了液晶面板上由于受壓表面痕跡的差的顯示的問(wèn)題。這樣，對(duì)于形成電介質(zhì)構(gòu)件16，在通常的液晶顯示裝置的制造方法中，加工像素電極12使得子像素50形成在基板10的元件側(cè)上。此后，進(jìn)行在連接部分14上形成電介質(zhì)構(gòu)件16的工藝，該連接部分14為至少用作在子像素50之間電連接的像素電極12的一部分。這樣，通過(guò)在作為至少用作子像素50之間電連接的部分像素電極12的連接部分14上形成電介質(zhì)構(gòu)件16，可以解決液晶面板上帶有表面受壓的痕跡的差的顯示的問(wèn)題。這樣，具有能夠制造可以增強(qiáng)顯示質(zhì)量的液晶顯示裝置的優(yōu)點(diǎn)。此外，能夠最小化電連接子像素50的連接部分14上的電介質(zhì)構(gòu)件16和形成在每個(gè)子像素50以控制液晶分子取向的取向控制元件34的尺寸。這樣，所產(chǎn)生的液晶顯示裝置可以具有更好的透射率。再者，為了增加針對(duì)任何表面受壓的抵抗性，曾經(jīng)要求基板之間的間距即所謂的單元間隔很小。然而，這樣由于具有更好的針對(duì)任何表面受壓的抵抗性，基板之間的間距可以很大，從而所產(chǎn)生的液晶顯示裝置可以具有更好的透射特性。再者，液晶顯示裝置1至3由于不會(huì)產(chǎn)生由于濾色器和元件側(cè)上的基板的裝配精確性所導(dǎo)致的任何錯(cuò)誤，因此能夠制造高精確度的液晶顯示裝置。再者，電介質(zhì)構(gòu)件16可以由有機(jī)或者無(wú)機(jī)材料制造。例如，如果為有機(jī)材料制造的電介質(zhì)構(gòu)件，則有機(jī)材料可以包括聚曱基丙烯酸甲酯樹(shù)脂(polymethylmethacrylateresin)、酚搭斗對(duì)月旨(novolacresin)及其它。本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解的是，可以根據(jù)設(shè)計(jì)需要和其它因素進(jìn)行各種修改、組合、子組合和替換，只要它們?cè)跈?quán)利要求或者其等同特征的范圍內(nèi)。本發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng)包含與2006年12月20日提交日本專(zhuān)利局的日本專(zhuān)利申請(qǐng)JP2006-342140相關(guān)的主題，將其全部?jī)?nèi)容引用結(jié)合于此。權(quán)利要求1、一種液晶顯示裝置，包括設(shè)置在彼此相對(duì)的基板之間的液晶層，其中像素被取向分割成多個(gè)子像素，并且電介質(zhì)構(gòu)件提供在電連接所述子像素的連接部分上。2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置，其中像素電極形成在對(duì)向基板，所述對(duì)向基板相對(duì)于在側(cè)面形成有所述電介質(zhì)構(gòu)件的基板；并且取向控制元件形成在所述像素電極上位于每個(gè)所述子像素中心。3、根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置，其中在形成有所述電介質(zhì)構(gòu)件的所述基板的一側(cè)上，光屏蔽元件形成在所述電介質(zhì)構(gòu)件下。4、根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置，其中光屏蔽元件形成在相對(duì)于形成有所述電介質(zhì)構(gòu)件的基板的基板上且在相對(duì)于所述電介質(zhì)構(gòu)件的位置。5、根據(jù)權(quán)利要求2所述的液晶顯示裝置，其中所述電介質(zhì)構(gòu)件設(shè)置在所述像素電極周?chē)?、根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置，其中所述電介質(zhì)構(gòu)件還用作保持彼此相對(duì)的所述基板之間的間距的間隔物。7、根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置，其中所述液晶層為垂直取向型。8、一種液晶顯示裝置的制造方法，所述液晶顯示裝置包括設(shè)置在彼此相對(duì)的基板之間的液晶層，并且其中像素被取向分割多個(gè)子像素，所述方法包括以下步驟在電連接所述子像素的連接部分上形成電介質(zhì)構(gòu)件。9、根據(jù)權(quán)利要求8所述的液晶顯示裝置的制造方法，其中所述電介質(zhì)構(gòu)件形成為連接到所述彼此相對(duì)的基板，并且所述電介質(zhì)構(gòu)件還用作保持所述相對(duì)的基板之間的間距的間隔物。10、根據(jù)權(quán)利要求8所述的液晶顯示裝置的制造方法，其中所述電介質(zhì)構(gòu)件形成在所述像素的像素電極周?chē)蛘咝纬稍谒鱿袼仉姌O的一部分。全文摘要本發(fā)明公開(kāi)了一種液晶顯示裝置及其制造方法。該液晶顯示裝置包括設(shè)置在彼此相對(duì)的基板之間的液晶層。液晶顯示裝置的像素被取向分割成多個(gè)子像素。電介質(zhì)構(gòu)件提供在電連接子像素的連接部分上。文檔編號(hào)G02F1/139GK101206367SQ20071030018公開(kāi)日2008年6月25日申請(qǐng)日期2007年12月19日優(yōu)先權(quán)日2006年12月20日發(fā)明者坂井榮治,小糸健夫,片岡真吾,西川寬申請(qǐng)人:索尼株式會(huì)社