專利名稱：光學(xué)掃描設(shè)備以及使用該光學(xué)掃描設(shè)備的圖像形成設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光學(xué)掃描設(shè)備以及使用該光學(xué)掃描設(shè)備的圖像形成設(shè)備。例如，本發(fā)明適用于采用電子照像處理的圖像形成設(shè)備，諸如激光束打印機(jī)、數(shù)字復(fù)印機(jī)或多功能打印機(jī)。
背景技術(shù)：
直到如今，在光學(xué)掃描設(shè)備中，在光源單元中響應(yīng)于圖像信號被光學(xué)調(diào)制并且從光源單元中發(fā)射的光束例如由包括多面反射鏡的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器被周期性地偏轉(zhuǎn)。
由光學(xué)偏轉(zhuǎn)器偏轉(zhuǎn)的光束通過具有fθ特性的成像光學(xué)系統(tǒng)在感光記錄介質(zhì)的表面上會聚成光斑形狀。
因此，感光記錄介質(zhì)的表面被光束掃描，以執(zhí)行圖像記錄。
近年來，諸如激光束打印機(jī)、數(shù)字復(fù)印機(jī)或多功能打印機(jī)的整個圖像形成設(shè)備在尺寸減小以及簡化(成本降低)方面具有進(jìn)步。
由于這種進(jìn)步，希望使光學(xué)掃描設(shè)備更加緊湊和簡單。
因此，直到如今，已經(jīng)提出了設(shè)計成緊湊的各種光學(xué)掃描設(shè)備(日本專利申請?zhí)亻_No.2001-296491以及日本專利申請?zhí)亻_No.2000-267030)。
根據(jù)日本專利申請?zhí)亻_No.2001-296491，為了縮短光學(xué)偏轉(zhuǎn)器的偏轉(zhuǎn)表面和待掃描表面之間的間隔(光路長度)，提高了掃描視場角。此外，適當(dāng)?shù)卦O(shè)定包括在成像光學(xué)系統(tǒng)中的成像透鏡在主掃描方向上的形狀(子午線形狀)。
日本專利申請?zhí)亻_No.2000-267030公開了一種光學(xué)掃描設(shè)備，其中在主掃描截面中，會聚的光束入射到成像透鏡上。
根據(jù)日本專利申請?zhí)亻_No.2000-267030，在主掃描截面中，設(shè)定成像光學(xué)系統(tǒng)的子午線形狀，使得在掃描視場角小于最大有效掃描視場角的77％的情況下，入射到成像光學(xué)系統(tǒng)上的光束在遠(yuǎn)離光軸的方向中折射，并且在掃描視場角大于最大有效掃描視場角的77％的情況下，入射到成像光學(xué)系統(tǒng)上的光束在靠近光軸的方向中折射(見圖18)。
在日本專利申請?zhí)亻_No.2001-296491的情況下，在主掃描截面中，設(shè)定成像光學(xué)系統(tǒng)的子午線形狀，使得入射到成像光學(xué)系統(tǒng)上的光束在所有掃描視場角的情況下都在靠近光軸的方向中折射。因此，當(dāng)要縮短該間隔以用相同的掃描寬度執(zhí)行掃描時，有必要進(jìn)一步提高掃描視場角。
然而，當(dāng)提高掃描視場角時，在掃描視場角大的掃描視場角區(qū)域中，折射光束所必需的量變得非常大。
由于這個原因，產(chǎn)生了一個問題，即在光學(xué)偏轉(zhuǎn)器的偏轉(zhuǎn)表面和待掃描表面之間的光路長度短的光學(xué)系統(tǒng)中，無法修正fθ特性、像場彎曲以及其他像差。
在日本專利申請?zhí)亻_No.2000-267030的情況下，設(shè)定成像光學(xué)系統(tǒng)的子午線形狀，使得在掃描視場角小于最大有效掃描視場角的77％的情況下，入射到成像光學(xué)系統(tǒng)上的光束在遠(yuǎn)離光軸的方向中折射。
在如上設(shè)定的成像光學(xué)系統(tǒng)中，當(dāng)要進(jìn)一步縮短光學(xué)偏轉(zhuǎn)器的偏轉(zhuǎn)表面和待掃描表面之間的間隔(光路長度)時，在其掃描視場小的區(qū)域中，在遠(yuǎn)離光軸的方向中折射光束所必需的量變得非常大。因此，產(chǎn)生一個問題，即，無法修正fθ特性、像場彎曲以及其他像差，或者子午線形狀失真。
根據(jù)日本專利申請?zhí)亻_No.2000-267030，在主掃描截面中，設(shè)定布置得最接近待掃描表面的成像透鏡的子午線形狀，使得在成像透鏡的整個區(qū)域中滿足θ2＞θ3，其中θ2表示入射到成像透鏡上的光束和光軸之間形成的角，并且θ3表示從成像透鏡發(fā)射的光束和光軸之間形成的角(見圖17)。
在沿著偏轉(zhuǎn)單元和待掃描單元之間的光路的表面間隔當(dāng)中，成像透鏡的最終表面和待掃描表面之間的間隔(光路長度)是最長的間隔。因此，當(dāng)子午線形狀設(shè)定為滿足θ2＞θ3時，即使以相同的掃描視場角，也不能充分地獲得從光軸移動被偏轉(zhuǎn)和反射的光束所到達(dá)的待掃描表面7上的位置的效果。因此，產(chǎn)生一個問題，即光路長度不能縮短。
發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的一個目的是提供一種能夠按照所希望的那樣修正fθ特性、像場彎曲以及其他像差的緊湊的光學(xué)掃描設(shè)備，以及使用該光學(xué)掃描設(shè)備的圖像形成設(shè)備。
根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種光學(xué)掃描設(shè)備，該光學(xué)掃描設(shè)備包括光源單元；偏轉(zhuǎn)單元；入射光學(xué)系統(tǒng)，用于將從光源單元發(fā)射的光束引導(dǎo)至偏轉(zhuǎn)單元；以及成像光學(xué)系統(tǒng)，用于將由偏轉(zhuǎn)單元偏轉(zhuǎn)的光束成像在待掃描表面上，其中滿足以下條件0.3＜Sd/L＜1，其中L(毫米)表示偏轉(zhuǎn)單元的偏轉(zhuǎn)表面和待掃描表面之間在成像光學(xué)系統(tǒng)的光軸方向上的間隔，并且Sd(毫米)表示偏轉(zhuǎn)單元的偏轉(zhuǎn)表面和自然會聚點之間的間隔，并且滿足|θ1|＜|θ3|以及|θ2|＜|θ3|的掃描視場角區(qū)域存在于整個有效掃描視場角區(qū)域中，其中在主掃描截面中且對于有限掃描視場角θ1(度)，θ2(度)表示入射到包含在成像光學(xué)系統(tǒng)中的成像光學(xué)元件LR上的光束的主光線與成像光學(xué)系統(tǒng)的光軸之間形成的角，θ3(度)表示從包含在成像光學(xué)系統(tǒng)中的成像光學(xué)元件LR發(fā)射的光束的主光線與成像光學(xué)系統(tǒng)的光軸之間形成的角。
根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，在光學(xué)掃描設(shè)備中，隨著掃描視場角絕對值|θ1|增大，掃描視場角區(qū)域從滿足|θ1|＜|θ3|以及|θ2|＜|θ3|的區(qū)域改變成滿足|θ1|＞|θ3|以及|θ2|＞|θ3|的區(qū)域。
根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，在光學(xué)掃描設(shè)備中，令θa(弧度)為有限的掃描視場角，θmax(弧度)為有效掃描區(qū)域中的最大掃描視場角，K(毫米/弧度)為fθ因子，并且θ(弧度)為任意掃描視場角，則滿足以下條件|L×tanθa|＝|K×θa|(0＜|θa|＜|θmax|)，以及0.3＜|θa|/|θmax|＜0.7，并且存在滿足以下條件的掃描視場角θa|L×tanθ|＜|K×θ|(當(dāng)0＜|θ|＜|θa|時)，以及|L×tanθ|＞|K×θ|(當(dāng)|θa|＜|θ|≤|θmax|時)。
根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，提供了一種光學(xué)掃描設(shè)備，包括光源單元；偏轉(zhuǎn)單元；入射光學(xué)系統(tǒng)，用于將從光源單元發(fā)射的光束引導(dǎo)至偏轉(zhuǎn)單元；以及成像光學(xué)系統(tǒng)，用于將由偏轉(zhuǎn)單元偏轉(zhuǎn)的光束成像在待掃描表面上，其中滿足以下條件0.3＜Sd/L＜1，其中L(毫米)表示偏轉(zhuǎn)單元的偏轉(zhuǎn)表面和待掃描表面之間在成像光學(xué)系統(tǒng)的光軸方向上的間隔，并且Sd(毫米)表示偏轉(zhuǎn)單元的偏轉(zhuǎn)表面和自然會聚點之間的間隔，其中令θa(弧度)為有限的掃描視場角，θmax(弧度)為有效掃描區(qū)域中的最大掃描視場角，K(毫米/弧度)為fθ因子，并且θ(弧度)為任意掃描視場角，則滿足以下條件|L×tanθa|＝|K×θa|(0＜|θa|＜|θmax|)，以及0.3＜|θa|/|θmax|＜0.7，并且存在滿足以下條件的掃描視場角θa|L×tanθ|＜|K×θ|(當(dāng)0＜|θ|＜|θa|時)，以及|L×tanθ|＞|K×θ|(當(dāng)|θa|＜|θ|≤|θmax|時)。
根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，在光學(xué)掃描設(shè)備中，滿足以下條件0.85≤W/2L，其中L(毫米)表示偏轉(zhuǎn)單元的偏轉(zhuǎn)表面和待掃描表面之間在成像光學(xué)系統(tǒng)的光軸方向上的間隔，并且W(毫米)表示待掃描表面上的有效掃描寬度。
根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，在光學(xué)掃描設(shè)備中，滿足條件L≤125(毫米)。
根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，在光學(xué)掃描設(shè)備中，最大掃描視場角等于或者大于30(度)。
根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，在光學(xué)掃描設(shè)備中，整個成像光學(xué)系統(tǒng)在主掃描截面中具有負(fù)的軸向焦度。
根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，在光學(xué)掃描設(shè)備中，成像光學(xué)元件是成像光學(xué)系統(tǒng)中所包含的光學(xué)元件當(dāng)中最接近待掃描表面的光學(xué)元件，并且該成像光學(xué)元件在主掃描截面上具有負(fù)的軸向焦度。
根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，在光學(xué)掃描設(shè)備中，整個成像光學(xué)系統(tǒng)在整個有效掃描視場角區(qū)域中，在主掃描截面中具有負(fù)的軸向焦度。根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，在光學(xué)掃描設(shè)備中，在包含在成像光學(xué)系統(tǒng)中的最接近待掃描表面的成像光學(xué)元件的待掃描表面?zhèn)鹊谋砻媾c待掃描表面之間在光軸方向上的間隔，比位于偏轉(zhuǎn)單元和待掃描表面之間的光學(xué)元件的表面之間在光軸方向上的每個間隔都更寬。
根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，在光學(xué)掃描設(shè)備中，成像光學(xué)元件在主掃描截面上具有厚度，該厚度隨著從成像光學(xué)元件的光軸向離軸的位置移動而增大然后減小。
根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，在光學(xué)掃描設(shè)備中，組成成像光學(xué)系統(tǒng)的每一個成像光學(xué)元件在主掃描截面中具有負(fù)的軸向焦度。
根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，在光學(xué)掃描設(shè)備中，成像光學(xué)元件具有光學(xué)表面，該光學(xué)表面位于偏轉(zhuǎn)單元側(cè)，并且隨著從成像光學(xué)元件的中心向其每個邊緣部分移動，該光學(xué)表面在主掃描方向上具有從凸形形狀向凹形形狀反轉(zhuǎn)的形狀。根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，在光學(xué)掃描設(shè)備中，成像光學(xué)元件具有光學(xué)表面，該光學(xué)表面位于待掃描表面?zhèn)?，并且隨著從成像光學(xué)元件的中心向其每個邊緣部分移動，該光學(xué)表面在主掃描方向上具有從凹形形狀向凸形形狀反轉(zhuǎn)的形狀。
根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，在光學(xué)掃描設(shè)備中，成像光學(xué)元件包括入射表面和出射表面，每一個表面具有這樣一種形狀，其中主掃描截面中的有效掃描區(qū)域邊緣中的表面位置比該成像光學(xué)元件的表面頂點位置更加接近偏轉(zhuǎn)單元。
根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，在光學(xué)掃描設(shè)備中，成像光學(xué)元件的軸向形狀是主掃描截面中的彎月形狀。
根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，提供了一種圖像形成設(shè)備，包括如上所述的光學(xué)掃描設(shè)備；位于待掃描表面上的感光部件；顯影裝置，把用光束通過光學(xué)掃描設(shè)備掃描而形成在感光部件上的靜電潛像顯影作為調(diào)色劑圖像；轉(zhuǎn)印裝置，用于將顯影的調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到待轉(zhuǎn)印材料上；以及定影裝置，用于將轉(zhuǎn)印的調(diào)色劑圖像定影在待轉(zhuǎn)印的材料上。
根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，提供了一種圖像形成設(shè)備，包括如上所述的光學(xué)掃描設(shè)備；和打印機(jī)控制器，其將從外部裝置輸入的代碼數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成圖像信號，并將該圖像信號輸出到光學(xué)掃描設(shè)備。
根據(jù)本發(fā)明，可能實現(xiàn)緊湊的光學(xué)掃描設(shè)備以及使用該光學(xué)掃描設(shè)備的圖像形成設(shè)備，該光學(xué)掃描設(shè)備能夠按照所希望的那樣修正fθ特性、像場彎曲以及其他像差，以便獲得高分辨率和高質(zhì)量圖像。
本發(fā)明的其他特征將在以下參照附圖的示例性實施例的描述中變得清晰。
圖1是示出根據(jù)本發(fā)明實施例1的光學(xué)掃描設(shè)備的主掃描截面圖。
圖2是示出根據(jù)本發(fā)明實施例1的θ1、θ2和θ3的示意圖。
圖3是示出常規(guī)光學(xué)掃描設(shè)備中θ1和θ3之間的關(guān)系的曲線圖。
圖4是示出根據(jù)本發(fā)明實施例1的θ1和θ3之間的相關(guān)性的曲線圖。
圖5是示出根據(jù)本發(fā)明實施例1的θ2和θ3之間的相關(guān)性的曲線圖。
圖6示出根據(jù)本發(fā)明實施例1的布置得最接近待掃描表面的透鏡的厚度。
圖7是示出根據(jù)本發(fā)明實施例1的fθ性能的曲線圖。
圖8是示出根據(jù)本發(fā)明實施例1的主掃描方向上的像場彎曲的曲線圖。
圖9是示出根據(jù)本發(fā)明實施例1的主掃描方向上的每個像差的曲線圖。
圖10是示出常規(guī)光學(xué)掃描設(shè)備(日本專利申請?zhí)亻_No.2001-296491)中的|K×θ|與L×tanθ之間的相關(guān)性的曲線圖。
圖11是示出常規(guī)光學(xué)掃描設(shè)備(日本專利申請?zhí)亻_No.2001-296491)中的|K×θ|與L×tanθ之間的關(guān)系的示意圖。
圖12是示出根據(jù)本發(fā)明實施例1的|K×θ|與L×tanθ之間的相關(guān)性的曲線圖。
圖13是示出根據(jù)本發(fā)明實施例1的|K×θ|與L×tanθ之間的關(guān)系的示意圖。
圖14是示出根據(jù)本發(fā)明實施例1的主掃描方向上的部分放大倍率的曲線圖。
圖15是示出根據(jù)本發(fā)明一個實施例的圖像形成設(shè)備的副掃描截面圖。
圖16是示出根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的彩色圖像形成設(shè)備的主要部分的示意圖。
圖17是示出常規(guī)光學(xué)掃描設(shè)備(日本專利申請?zhí)亻_No.2000-267030)中的θ2和θ3之間的相關(guān)性的曲線圖。
圖18是示出常規(guī)光學(xué)掃描設(shè)備(日本專利申請?zhí)亻_No.2000-267030)中的|K×θ|與L×tanθ之間的相關(guān)性的曲線圖。
具體實施例方式
在下文中，將參考附圖描述本發(fā)明的實施例。
(實施例1)圖1是示出根據(jù)本發(fā)明實施例1的主掃描方向上的主要部分的截面圖(主掃描截面圖)。
在以下描述中，主掃描方向指的是與偏轉(zhuǎn)單元的旋轉(zhuǎn)軸(或振蕩軸)和成像光學(xué)系統(tǒng)的光軸垂直的方向(由偏轉(zhuǎn)單元反射和偏轉(zhuǎn)(偏轉(zhuǎn)用于掃描)的光束的行進(jìn)方向)。副掃描方向指的是與偏轉(zhuǎn)單元的旋轉(zhuǎn)軸(或振蕩軸)平行的方向。主掃描截面指的是包括主掃描方向和成像光學(xué)系統(tǒng)的光軸的平面。副掃描截面指的是垂直于主掃描橫截面的截面。
在圖1中，光源單元1是半導(dǎo)體激光器，其具有單個光發(fā)射部分(光發(fā)射點)。
在本實施例中，使用單個光束的半導(dǎo)體激光器。在本發(fā)明中，可以使用用于生成兩個或者更多光束的多光束半導(dǎo)體激光器。
孔徑(孔徑光闌)3用于將從光源單元1發(fā)射的光束成形為所需的且適合的光束形狀。
光束的波長λ為780nm(紅外激光光束)。
變形透鏡2在主掃描方向(主掃描截面)上和副掃描方向(幅掃描截面上)具有不同的焦度。
變形透鏡2的第一表面(光入射表面)2a是凸球面，并且用于將來自光源單元1的發(fā)散光束轉(zhuǎn)換成平行光束。
變形透鏡2的第二表面(光出射表面)2b是變形表面，其在主掃描方向和副掃描方向上具有不同焦度。
在此實施例中，來自第一表面2a的平行光束由變形透鏡2的第二表面2b轉(zhuǎn)換成主掃描方向上的會聚光束，其要被成像在與以下所述的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器4的偏轉(zhuǎn)表面(反射表面)5距離59.4毫米的地方。
來自第一表面2a的平行光束由變形透鏡2的第二表面2b轉(zhuǎn)換成副掃描方向上的會聚光束，其要被成像在光學(xué)偏轉(zhuǎn)器4的偏轉(zhuǎn)表面5上。
因此，根據(jù)變形透鏡2，從光源單元1發(fā)射的光束作為縱向線性圖像在主掃描方向上成像在光學(xué)偏轉(zhuǎn)器4的偏轉(zhuǎn)表面5上。
在此實施例中，設(shè)置了現(xiàn)場(under field)光學(xué)系統(tǒng)，其中入射到光學(xué)偏轉(zhuǎn)器的偏轉(zhuǎn)表面上的光束在主掃描方向上的寬度小于偏轉(zhuǎn)面在主掃描方向上的寬度。
注意，變形透鏡2構(gòu)成入射光學(xué)系統(tǒng)LA的一個組件。
充當(dāng)偏轉(zhuǎn)單元的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器4例如包括以某個范圍內(nèi)的恒定角速度振蕩的檢電鏡。光學(xué)偏轉(zhuǎn)器4在圖1中所示的箭頭“A”所指示的方向上以恒定速度振蕩。
成像光學(xué)系統(tǒng)LB具有會聚功能和fθ特性，并且由第一和第二成像透鏡6a和6b構(gòu)成。第一和第二成像透鏡6a和6b中的每一個都具有在主掃描方向中的軸上的負(fù)焦度。此外，第一和第二成像透鏡6a和6b中的每一個都具有在副掃描方向中的軸上的正焦度。
在此實施例中，成像光學(xué)系統(tǒng)LB在感光鼓表面7上對基于圖像信息的光斑光束進(jìn)行成像，其中該感光鼓表面7是主掃描截面中的待掃描表面，該光斑光束由光學(xué)偏轉(zhuǎn)器4反射和偏轉(zhuǎn)。
成像光學(xué)系統(tǒng)LB通過使光學(xué)偏轉(zhuǎn)器4的偏轉(zhuǎn)表面5和感光鼓表面7在副掃描截面中具有光學(xué)共軛關(guān)系，從而在偏轉(zhuǎn)表面上實現(xiàn)光學(xué)表面歪斜誤差修正。
作為待掃描表面的感光鼓表面7對應(yīng)于記錄介質(zhì)表面。
在本實施例中，在半導(dǎo)體激光器1中基于圖像信息被光學(xué)調(diào)制并且從中發(fā)射的光束通過孔徑光闌3。光束的一部分被孔徑光闌3阻擋。接著，光束入射到變形透鏡2上，并且在主掃描截面和副掃描截面上被變形透鏡2的第一表面2a轉(zhuǎn)換為會聚光束。
來自變形透鏡2的第一表面2a的光束入射到光學(xué)偏轉(zhuǎn)器4的偏轉(zhuǎn)表面5上，作為主掃描截面上的會聚光束，并且作為光學(xué)偏轉(zhuǎn)器4的偏轉(zhuǎn)表面5上的縱向線性圖像而在主掃描方向上成像。
由光學(xué)偏轉(zhuǎn)器4的偏轉(zhuǎn)表面5反射并偏轉(zhuǎn)的光束的一部分通過成像光學(xué)系統(tǒng)LB被引導(dǎo)到感光鼓表面7上。光學(xué)偏轉(zhuǎn)器4在由箭頭“A”指示的方向上振蕩(旋轉(zhuǎn))。因此，感光鼓表面7在由箭頭“B”指示的方向(主掃描方向)上被光學(xué)掃描，以執(zhí)行圖像信息記錄。
近年來，為了降低使用光學(xué)掃描設(shè)備的圖像形成設(shè)備的主體的尺寸，存在使光學(xué)掃描設(shè)備緊湊的需要。
特別地，在成像光學(xué)系統(tǒng)中不布置復(fù)原反射鏡的簡單模型的情況下，使光學(xué)偏轉(zhuǎn)器和待掃描表面之間的距離比光束掃描寬度更短。因此，光學(xué)掃描設(shè)備中沒有任何部分伸出到例如定影裝置之外，結(jié)果，可以實現(xiàn)緊湊的圖像形成設(shè)備。
根據(jù)本實施例的光學(xué)掃描設(shè)備是緊湊且小型的光學(xué)掃描設(shè)備，其中滿足如下條件0.85≤W/2L(1)，
其中L(毫米)表示光學(xué)偏轉(zhuǎn)器4的偏轉(zhuǎn)表面5和待掃描表面7之間的間隔(光路長度)，并且W(毫米)表示待掃描表面7上的有效掃描寬度。
在此實施例中，W＝214(毫米)并且L＝100(毫米)。
因此W/2L＝1.07，這滿足條件表達(dá)式(1)。
在常規(guī)光學(xué)掃描設(shè)備中，入射到光學(xué)偏轉(zhuǎn)器上的光束被配置為是在主掃描方向上的平行光束或者弱會聚光束，因此成像光學(xué)系統(tǒng)在主掃描方向上的焦度在整個有效掃描區(qū)域內(nèi)為正。
因此，在每個掃描視場角，通過光學(xué)偏轉(zhuǎn)器偏轉(zhuǎn)和反射的光束由成像光學(xué)系統(tǒng)在靠近光軸的方向上折射。
圖2是主掃描方向上的主要部分截面圖(主掃描截面圖)，其示出了光束以任意掃描視場角θ1通過成像光學(xué)系統(tǒng)LB的一部分的狀態(tài)。
換句話說，在圖2中，掃描視場角θ1是在由光學(xué)偏轉(zhuǎn)器4偏轉(zhuǎn)和反射并且然后入射到成像光學(xué)系統(tǒng)LB上的光束的主光線與成像光學(xué)系統(tǒng)LB的光軸C之間形成的角(度)。角θ2定義為在入射到位于最接近待掃描表面7一側(cè)的成像透鏡6b上的光束的主光線與成像光學(xué)系統(tǒng)LB的光軸C之間形成的角(度)。角θ3定義為在從成像光學(xué)系統(tǒng)LB發(fā)射并且接著入射到待掃描表面7上的光束的主光線與成像光學(xué)系統(tǒng)LB的光軸C之間形成的角(度)。
圖3是曲線圖，其示出在常規(guī)光學(xué)掃描設(shè)備中，對于任意掃描視場角θ1(度)從成像光學(xué)系統(tǒng)發(fā)射并且到達(dá)待掃描表面的光束的主光線與成像光學(xué)系統(tǒng)LB的光軸之間形成的角θ3的值(度)。
從圖3中可清楚看出，在常規(guī)光學(xué)掃描設(shè)備的情況下，當(dāng)掃描視場角θ1為0時，θ1＝θ3＝0。當(dāng)掃描視場角θ1不為0時，θ3＜θ1。因此，隨著掃描視場角θ1增大，θ3＜＜θ1。即，掃描視場角θ1與角θ3之間的差顯著增大。
如圖3所示，在常規(guī)光學(xué)掃描設(shè)備中，對于所有的掃描視場角，入射到成像光學(xué)系統(tǒng)上的光束在靠近光軸的方向中被折射。因此在以下方面存在限制在主掃描方向上的像場彎曲和fθ特性保持在所需狀態(tài)下的同時以該光束掃描具有所需寬度的區(qū)域，以及縮短偏轉(zhuǎn)表面和待掃描表面之間的距離(間隔)。
因而，在此實施例中，為了縮短偏轉(zhuǎn)表面5和待掃描表面7之間在光軸方向上的距離，以及縮短偏轉(zhuǎn)表面5和待掃描表面7之間的距離而不增加光束的掃描視場角，使用以下方法。
即，在此實施例中，執(zhí)行這樣的設(shè)定，使得在有效掃描視場角區(qū)域中，存在用于在遠(yuǎn)離光軸的方向折射入射到成像光學(xué)系統(tǒng)LB上的光束的掃描視場角區(qū)域。
圖4是曲線圖，其示出在本實施例中，在對于任意掃描視場角θ1(度)，從成像光學(xué)系統(tǒng)發(fā)射并且到達(dá)待掃描表面的光束的主光線與成像光學(xué)系統(tǒng)的光軸之間形成的角θ3的值(度)。
從圖4中可清楚看出，根據(jù)本實施例，成像光學(xué)系統(tǒng)LB被設(shè)定為包括這樣的掃描視場角區(qū)域，其中在0(度)＜θ1＜34.7(度)的掃描視場角區(qū)域中，滿足θ1＜θ3。
更具體地，為了在成像透鏡的光軸附近在遠(yuǎn)離光軸的方向折射入射到成像光學(xué)系統(tǒng)LB上的光束，整個成像光學(xué)系統(tǒng)LB的軸向焦度被設(shè)定為負(fù)值。
本實施例中的入射光學(xué)系統(tǒng)LA被設(shè)定為使得自然會聚點存在于待掃描表面7和光學(xué)偏轉(zhuǎn)器4之間。此外，整個成像光學(xué)系統(tǒng)LB的軸向焦度被設(shè)定為負(fù)值。因此，光束在主掃描截面中成像在待掃描表面7上。
在本實施例中，整個成像光學(xué)系統(tǒng)LB的軸向焦距fLB被設(shè)定為-27.29毫米。
自然會聚點是在沒有提供成像光學(xué)系統(tǒng)的情況下，入射到偏轉(zhuǎn)表面上的光束成像在主掃描截面中的位置。
在本實施例中，將每個元件設(shè)定為滿足以下條件0.3＜Sd/L＜1(6)，其中L(毫米)表示光學(xué)偏轉(zhuǎn)器4的偏轉(zhuǎn)表面5和待掃描表面7之間在光軸方向上的間隔，并且Sd(毫米)表示光學(xué)偏轉(zhuǎn)器4的偏轉(zhuǎn)表面5和自然會聚點之間在光軸方向上的間隔。
條件表達(dá)式(6)涉及光學(xué)偏轉(zhuǎn)器4的偏轉(zhuǎn)表面5和自然會聚點之間的間隔Sd與光學(xué)偏轉(zhuǎn)器4的偏轉(zhuǎn)表面5和待掃描表面7之間的間隔L之間的比值。
當(dāng)Sd/L超過條件表達(dá)式(6)的上限值時，在主掃描截面中，整個成像光學(xué)系統(tǒng)LB的焦度不能被設(shè)定為負(fù)值，因此，不能獲得在遠(yuǎn)離光軸的方向折射所需光線的效果。這不是所希望的。另一方面，當(dāng)Sd/L小于條件表達(dá)式(6)的下限值時，成像透鏡的負(fù)焦度變得過于強(qiáng)，因此其在主掃描方向上的形狀(子午線形狀)失真。因此，形成或處理很困難。這不是所希望的。
作為參考，在常規(guī)光學(xué)掃描設(shè)備中滿足以下條件。
1＜Sd/L在此實施例中，Sd＝59.4(毫米)并且L＝100(毫米)。
因此Sd/L＝0.59，這滿足條件表達(dá)式(6)。即，在本實施例中，入射光學(xué)系統(tǒng)LA被設(shè)定為使得入射到光學(xué)偏轉(zhuǎn)器4上的光束變成強(qiáng)會聚。
如上所述，根據(jù)本實施例，當(dāng)入射光學(xué)系統(tǒng)LA被設(shè)定為滿足條件表達(dá)式(6)時，能夠獲得在遠(yuǎn)離光軸的方向折射所需光線的效果。
此外，成像透鏡的子午線形狀和緩地彎曲，使得可實現(xiàn)光路長度短且具有所需fθ特性的光學(xué)掃描設(shè)備。
更優(yōu)選地，將條件表達(dá)式(6)設(shè)定為如下0.40＜Sd/L＜0.90(6a)在本實施例中，在主掃描截面中，入射到成像光學(xué)系統(tǒng)LB上的光束在遠(yuǎn)離光軸的方向被折射，以便增加待掃描表面上的有效掃描寬度。
然而，當(dāng)折射角大或者折射角在成像透鏡的主掃描方向上顯著改變時，發(fā)生彗形像差，這導(dǎo)致待掃描表面7上的成像性能惡化的問題。
因而，在本實施例中，執(zhí)行以下設(shè)定，使得最小化折射量，以在遠(yuǎn)離光軸的方向上有效地折射光束。
即，在主掃描截面中，在有限掃描視場角θ1(度)的情況下，角θ2(度)被定義為入射到位于最接近待掃描表面7的第二成像透鏡6b上的光束的主光線與成像光學(xué)系統(tǒng)LB的光軸之間形成的角。
θ3(度)被定義為從位于最接近待掃描表面7的第二成像透鏡6b發(fā)射的光束的主光線與成像光學(xué)系統(tǒng)LB的光軸之間形成的角。
在本實施例中，第二成像透鏡6b的子午線形狀被設(shè)定為使得滿足θ2＜θ3的掃描視場角區(qū)域存在于軸和中間圖像高度之間。
圖5是示出了本實施例中角θ2和θ3關(guān)于任意掃描視場角θ1的曲線圖。
從圖5中可清楚看出，根據(jù)本實施例，執(zhí)行設(shè)定，以便在掃描視場角θ1滿足“0(度)＜θ1＜34.7(度)”的掃描視場角區(qū)域中，滿足θ2＜θ3。
在掃描視場角θ1等于35.9(度)的情況下，執(zhí)行設(shè)定使得滿足θ2＝θ3。
執(zhí)行設(shè)定，使得在掃描視場角θ1滿足“35.9(度)＜θ1＜θmax(＝56(度))”的范圍內(nèi)的掃描視場角區(qū)域中，滿足θ3＜θ2。
換句話說，執(zhí)行設(shè)定，使得在掃描視場角θ1滿足“35.9(度)＜θ1＜θmax(＝56(度))”的掃描視場角區(qū)域中，滿足θ3＜θ1且θ3＜θ2。
如上所述，在本實施例中，為了在主掃描截面中在遠(yuǎn)離光軸的方向上以接近光軸的圖像高度折射入射到最接近待掃描表面7的第二成像透鏡6b上的光束，第二成像透鏡6b的軸向焦度被設(shè)定為負(fù)值。
在本實施例中，第二成像透鏡6b的軸向焦距f6b被設(shè)定為-60.87毫米。
在設(shè)定θ3＜θ2的情況下，光束可以在遠(yuǎn)離光軸的方向上被有效折射的原因如下所述。
在本實施例中，通過使光路長度大大短于掃描寬度(W/2L＝1.07)，以所需的方式修正主掃描方向上的fθ性能和像場彎曲。因此，成像光學(xué)系統(tǒng)LB的后焦點(Sk＝70.0毫米)被設(shè)定為使得后焦點成為成像光學(xué)系統(tǒng)LB的光路長度中的最長間隔(L＝100毫米)。
即，成像光學(xué)系統(tǒng)LB被配置為使得在布置于偏轉(zhuǎn)表面5和待掃描表面7之間的光學(xué)元件的各表面之間在光軸方向上的各間隔當(dāng)中，成像光學(xué)系統(tǒng)LB中最接近待掃描表面7的成像透鏡6b位于待掃描表面7一側(cè)的表面與待掃描表面7之間在光軸方向上的間隔是最寬的。
因此，在增大角θ3的情況下，可以將被偏轉(zhuǎn)和反射的光束到達(dá)待掃描表面7的位置保持得比增大角θ2的情況下離光軸更遠(yuǎn)。
在該光學(xué)掃描設(shè)備中，容易展示出fθ性能。
參考圖4和5，描述了掃描視場角θ1在正掃描視場角區(qū)域之內(nèi)的例子(主掃描截面中相對于光軸的逆時針方向?qū)?yīng)于正方向)。根據(jù)本發(fā)明的特征，隨著掃描視場角θ1增大，掃描視場角區(qū)域從滿足θ1＜θ3以及θ2＜θ3的區(qū)域改變成滿足θ1＞θ3以及θ2＞θ3的區(qū)域。
在掃描視場角θ1在負(fù)掃描視場角區(qū)域中的情況下(主掃描截面中相對于光軸的順時針旋轉(zhuǎn))，根據(jù)本發(fā)明的特征，隨著掃描視場角絕對值|θ1|增大，掃描視場角區(qū)域從滿足|θ1|＜|θ3|以及|θ2|＜|θ3|的區(qū)域改變成滿足|θ1|＞|θ3|以及|θ2|＞|θ3|的區(qū)域。
換句話說，即使當(dāng)掃描視場角θ1在負(fù)掃描視場角區(qū)域中時，為光束提供與由用于在遠(yuǎn)離光軸的方向上對入射到第二成像透鏡6b的光軸附近的光束進(jìn)行折射的楔形棱鏡所引起的效果相同的效果。
此外，為光束提供與由用于在靠近光軸的方向上對入射到第二成像透鏡6b的有效邊緣部分附近的光束進(jìn)行折射的楔形棱鏡所引起的效果相同的效果。
例如，由于希望成像光學(xué)系統(tǒng)的成像透鏡在主掃描方向上的有效寬度變窄，以降低成像透鏡的形成成本，趨于將成像透鏡布置在接近光學(xué)偏轉(zhuǎn)器的位置上。
除了少數(shù)幾種情況之外，成像光學(xué)系統(tǒng)的最終表面和待掃描表面之間在光軸方向上的間隔被設(shè)定為是偏轉(zhuǎn)表面和待掃描表面之間沿著光路的最長表面間隔。
因此，在光學(xué)掃描設(shè)備中，當(dāng)成像光學(xué)系統(tǒng)LB的透鏡形狀被設(shè)定為使得滿足θ1＜θ3以及θ2＜θ3的掃描視場角區(qū)域存在于整個掃描視場角范圍中時，可以縮短光路長度，并且可以以所需的方式修正彗形像差。
接著，將描述為了實現(xiàn)隨著掃描視場角θ1逐漸從0開始增大，將入射到第二成像透鏡6b上的光束的角θ2和從其發(fā)射出的光束的角θ3改變?yōu)檫B續(xù)滿足θ2＜θ3、θ2＝θ3和θ2＞θ3，而設(shè)定成像透鏡厚度及其子午線形狀的具體方式。
圖6是示出了此實施例中最接近待掃描表面7的第二成像透鏡6b的厚度相對于主掃描方向上的位置的曲線圖。
如從圖6中可清楚看出的，隨著從光軸(透鏡的中心部分)向透鏡的有效邊緣部分移動，第二成像透鏡6b的厚度被設(shè)定為逐漸增大然后逐漸減小。
因此，入射到第二成像透鏡6b的光軸附近的光束接受與由在遠(yuǎn)離光軸的方向上進(jìn)行折射的楔形棱鏡所引起的效果相同的效果。
此外，入射到第二成像透鏡6b的有效邊緣部分附近的光束接受與由在靠近光軸的方向上進(jìn)行折射的楔形棱鏡所引起的效果相同的效果。
在本實施例中，在主掃描截面中，位于光學(xué)偏轉(zhuǎn)器4側(cè)的第二成像透鏡6b的透鏡表面的子午線形狀被設(shè)定為在透鏡的光軸(成像光學(xué)系統(tǒng)的光軸)和每個邊緣部分之間從凸形形狀反轉(zhuǎn)為凹形形狀。
位于待掃描表面7側(cè)的第二成像透鏡6b的透鏡表面的子午線形狀被設(shè)定為在透鏡的光軸(透鏡的中心部分)和每個邊緣部分之間從凹形形狀反轉(zhuǎn)為凸形形狀。
主掃描方向上的主點位置被設(shè)定為在光軸上與光學(xué)偏轉(zhuǎn)器4的偏轉(zhuǎn)表面5接近，并且在透鏡的邊緣中與待掃描表面7側(cè)接近。
因此，在本實施例中，可以獲得以下效果在主掃描方向上的部分放大倍率可以被修正為在每個圖像高度處都是均勻的。
圖7是示出了本實施例中在主掃描方向上部分放大倍率dY/dθ的均勻性的曲線圖。
如從圖7中可清楚看出的，部分放大倍率dY/dθ的最大值和最小值之間的差為1.5％。因此，部分放大倍率的非均勻性被抑制到對圖像沒有影響的水平。
在此實施例中，位于光學(xué)偏轉(zhuǎn)器4側(cè)的第二成像透鏡6b的透鏡表面的子午線形狀和位于待掃描表面7側(cè)的第二成像透鏡6b的透鏡表面的子午線形狀中的每一個都被設(shè)定為這樣一種形狀其中主掃描方向上每個有效邊緣部分中的表面位置比透鏡光軸上的表面頂點位置更接近光學(xué)偏轉(zhuǎn)器4。
因此，主掃描方向上的透鏡寬度可以變窄。此外，主掃描方向上的fθ特性、彗形像差、像場彎曲等以所需的方式進(jìn)行修正。
如上所述，在本實施例中，在整個第二成像透鏡6b要形成為彎月形狀的的情況下，當(dāng)改變軸向曲率半徑時，即，當(dāng)作為子午線形狀的基礎(chǔ)的弓形形狀被設(shè)定為凸-凹形狀時，整個透鏡變成其曲率非常陡峭的彎月形狀。
因此，在本實施例中，主掃描截面中第二成像透鏡6b的軸向形狀被設(shè)定為彎月形狀(凸-凹形狀)。因而，整個第二成像透鏡6b形成為其曲率和緩的彎月形狀，因此容易形成第二成像透鏡6b。
在此實施例中，第二成像透鏡6b的厚度和每個透鏡表面的子午線形狀如上所述設(shè)定。因此，隨著掃描視場角θ1從0開始逐漸增大，該條件可以改變?yōu)檫B續(xù)滿足θ2＜θ3、θ2＝θ3和θ2＞θ3。
因而，可以以所需的方式修正彗形像差、像場彎曲以及部分放大倍率的不均勻。此外，可以獲得其掃描視場角寬且光路長度短的光學(xué)掃描設(shè)備。
圖8是示出了本實施例中的fθ特性的曲線圖。在圖8中，橫坐標(biāo)表示圖像高度，并且縱坐標(biāo)表示光學(xué)掃描設(shè)備中實際圖像高度與理想圖像高度的偏離量ΔdY。
如從圖8中可清楚看出的，實際圖像高度與理想圖像高度的偏離量ΔdY的最大值為0.09毫米，因此獲得了足夠優(yōu)選的fθ特性。
圖9是示出本實施例的主掃描方向上的每個像差的曲線圖。在圖9中，橫坐標(biāo)表示圖像高度，并且縱坐標(biāo)表示在各個圖像高度處在主掃描方向上的每個像差。
如從圖9中可清楚看出的，彗形像差的最大值為0.19λ，并且波前像差在主掃描方向上的最大值為0.03λ，因此對于每個像差執(zhí)行了足夠優(yōu)選的修正。
假設(shè)光學(xué)偏轉(zhuǎn)器4的偏轉(zhuǎn)表面5和待掃描表面7之間的間隔(光路長度)如上所述由L(毫米)表示。
在此，當(dāng)不在主掃描截面中設(shè)置圖像光學(xué)系統(tǒng)時，以掃描視場角θ(弧度)行進(jìn)的光束的主光線到達(dá)待掃描表面7的相對于主掃描方向的位置與以掃描視場角θ為0(弧度)行進(jìn)的光束的主光線到達(dá)待掃描表面7的位置之間的間隔可以通過|L×tan(θ)|(毫米)表達(dá)。
假設(shè)成像光學(xué)系統(tǒng)LB的fθ因子由K(毫米/弧度)表達(dá)。
fθ因子定義如下。即，當(dāng)通過偏轉(zhuǎn)單元偏轉(zhuǎn)和反射的光線的角度改變1弧度時，光線到達(dá)待掃描表面的位置在掃描方向上移位K毫米。
在此，當(dāng)以掃描視場角θ(弧度)行進(jìn)的光束的主光線在主掃描截面中通過成像光學(xué)系統(tǒng)LB時，光束的主光線到達(dá)待掃描表面的位置與以掃描視場角θ為0(弧度)行進(jìn)的光束的主光線到達(dá)待掃描表面的位置之間的間隔可以通過|K×θ|(毫米)表達(dá)。
圖10是示出日本專利申請?zhí)亻_No.2001-296491中描述的常規(guī)光學(xué)掃描設(shè)備中|L×tan(θ)|和|K×θ|分別相對于任意掃描視場角θ的各自的關(guān)系的曲線圖。
圖11是清楚地示出日本專利申請?zhí)亻_No.2001-296491中描述的常規(guī)光學(xué)掃描設(shè)備中|L×tan(θ)|和|K×θ|分別相對于任意掃描視場角θ的各自的關(guān)系的示意性主掃描截面圖。
在圖11中，為了清楚描述，通過單個成像透鏡示出成像光學(xué)系統(tǒng)，并且以任意掃描視場角θ行進(jìn)的光束由一條光線示出。
如從圖10和11中可清楚看出的，在常規(guī)光學(xué)掃描設(shè)備中滿足K＜L。因此，當(dāng)θ＝0時，|L×tan(θ)|＝|K×θ|。因而，隨著掃描視場角θ變得更大，“|L×tan(θ)|-|K×θ|”的值按二次曲線增大。
即，當(dāng)掃描視場角θ等于0時(與光軸一致)，在任意掃描視場角θ下獲得所需的fθ特性以使光束到達(dá)待掃描表面7的位置靠近光軸所必要的折射光束的量為0。隨著掃描視場角θ增大，該量按二次曲線增大。
因此，在常規(guī)光學(xué)掃描設(shè)備的情況下，當(dāng)使掃描視場角θ變寬以縮短間隔(光路長度)L時，在掃描視場角θ很大的掃描視場角區(qū)域中，折射光束的量變得非常大。
隨著掃描視場角θ增大，折射光束的量快速改變。
由于以上原因，常規(guī)光學(xué)掃描設(shè)備引起這樣的問題即，在設(shè)定了非常短的光路長度以滿足條件表達(dá)式(1)即0.85≤W/2L的光學(xué)系統(tǒng)中，無法充分修正fθ特性、像場彎曲以及其他像差。
因此根據(jù)本實施例，在滿足條件表達(dá)式(1)的光學(xué)掃描設(shè)備中，有效掃描區(qū)域中的最大掃描視場角θmax(弧度)、L、fθ因子、K(毫米/弧度)被設(shè)定為使得存在滿足以下條件的有限掃描視場角θa(弧度)。
|L×tanθa|＝|K×θa|(0＜|θa|＜|θmax|)(2)即，在此實施例中，θmax＝56度，L＝100毫米，并且K＝109.5毫米。
因此θa＝28.9(度)＝0.52×θmax(度)。
圖12是示出了本實施例中|L×tan(θ)|和|K×θ|分別相對于任意掃描視場角θ的各自的關(guān)系的曲線圖。
圖13是清楚地示出了本實施例中|L×tan(θ)|和|K×θ|分別相對于任意掃描視場角θ的各自的關(guān)系的主掃描方向上的示意性主要部分截面圖(主掃描截面圖)。
如從圖13可清楚看出的，根據(jù)本實施例，光束以不會折射的掃描視場角θa到達(dá)待掃描表面7。在其掃描視場角小于掃描視場角θa的掃描視場角區(qū)域中，光束在遠(yuǎn)離光軸的方向折射。在其掃描視場角大于掃描視場角θa的掃描視場角區(qū)域中，光束在靠近光軸的方向折射。
在此，將參考圖12描述|L×tan(θ)|、|K×θ|以及θa之間的關(guān)系。
如從圖12中可清楚看出的，根據(jù)本實施例，在掃描視場角θa為最大掃描視場角θmax的50％處(0.52×θmax(度))，|L×tan(θ)|＝|K×θ|。
在軸上(θ＝0度)，|L×tan(θ)|和|K×θ|中的每一個都成為0。
在直到相對于軸的掃描視場角θa(0.52×θmax(度))的區(qū)域中，滿足|L×tan(θ)|＜|K×θ|，這是因為執(zhí)行設(shè)定使得滿足L＜K。
在掃描視場角θa和最大掃描視場角θmax之間形成的區(qū)域中，滿足|K×θ|＜|L×tan(θ)|。
即，根據(jù)本實施例，執(zhí)行設(shè)定，使得在“0＜|θ|＜|θa|”的掃描視場角區(qū)域中滿足以下條件。
|L×tanθ|＜|K×θ|(4)執(zhí)行設(shè)定，使得在“|θa|＜|θ|≤|θmax|”的掃描視場角區(qū)域中滿足以下條件。
|L×tanθ|＞|K×θ|(5)因此，在掃描視場角θa大的掃描視場角區(qū)域中，折射光束的量或者其差異可以降低。因而，即使在光路長度非常短且掃描視場角θa寬(W/2d＝1.07)的光學(xué)掃描設(shè)備中，也可以修正fθ特性、像場彎曲、以及其他像差。
注意，當(dāng)掃描視場角θa變得大于0.7×θmax時，在軸附近，在遠(yuǎn)離光軸的方向上的折射光束的量顯著增長。因此，成像光學(xué)系統(tǒng)LB的透鏡的表面變成凹表面，其中其子午線形狀的曲率變得非常陡峭，結(jié)果形成或處理很困難。
當(dāng)掃描視場角θa變得小于0.3×θmax時，在最大掃描視場角附近，在靠近光軸的方向上折射光束的量顯著增大。因此，成像光學(xué)系統(tǒng)LB的透鏡的表面變成凹表面，其中其子午線形狀的曲率變得非常陡峭，結(jié)果形成或處理很困難。
因而，根據(jù)本實施例，將每個元件設(shè)定為滿足以下條件0.3＜|θa|/|θmax|＜0.7 (3)當(dāng)執(zhí)行設(shè)定以滿足條件表達(dá)式(3)時，可獲得這樣的成像透鏡，該成像透鏡包括子午線形狀容易形成或處理的透鏡表面，因此可以獲得本發(fā)明的充分效果。因此，可以獲得緊湊且具有所需fθ特性的圖像形成設(shè)備。
可以將掃描視場角θa設(shè)定為是近似等于最大掃描視場角θmax的50％的掃描視場角。即，也可以將條件表達(dá)式(3)設(shè)定如下0.4＜|θa|/|θmax|＜0.6 (3a)當(dāng)滿足條件表達(dá)式(3a)時，用于在靠近光軸的方向折射光束的掃描視場角區(qū)域變得幾乎等于用于在遠(yuǎn)離光軸的方向折射光束的掃描視場角區(qū)域。
結(jié)果，可以降低在靠近光軸的方向折射光束的量的最大值和在遠(yuǎn)離光軸的方向折射光束的量的最大值這兩者。
因此，容易獲得成像光學(xué)系統(tǒng)LB的透鏡的更加柔和的子午線形狀?？梢愿訌氐椎匦拚齠θ特性。
在本實施例中，為了縮短主掃描截面中的光路長度，入射光學(xué)系統(tǒng)LA被設(shè)定為使得自然會聚點對應(yīng)于比待掃描表面7更接近光學(xué)偏轉(zhuǎn)器4的距離為40.6毫米的位置。
根據(jù)本實施例，為了以每個掃描視場角將光束成像在待掃描表面7上，整個成像光學(xué)系統(tǒng)LB在主掃描截面中的軸向焦度被設(shè)定為負(fù)值。
圖14是示出本實施例中主掃描方向上的像場彎曲的曲線圖。在圖14中，橫坐標(biāo)表示圖像高度，并且縱坐標(biāo)表示在各個圖像高度處在主掃描方向上的圖像平面dM。
從圖14中可清楚看出，根據(jù)本實施例，在主掃描方向上，最大像場彎曲量和最小像場彎曲量之間的差變?yōu)?.0毫米。因此，像場彎曲按照期望地被修正為對圖像不存在問題的充足的水平。
在本實施例中，在主掃描截面中，如下設(shè)定第一成像透鏡6a的軸向焦距f6a、第二成像透鏡6b的軸向焦距f6b、以及整個成像光學(xué)系統(tǒng)LB的軸向焦距fLB。
f6a＝-67.83毫米，f6b＝-60.87毫米，以及fLB＝-27.29毫米。
即，在本實施例中，整個成像光學(xué)系統(tǒng)LB在主掃描截面中的軸向焦度被設(shè)定為負(fù)值。成像光學(xué)系統(tǒng)LB由兩個成像透鏡6a和6b形成，其中的每一個都在主掃描方向上具有負(fù)的軸向焦度。
因此，根據(jù)此實施例中的結(jié)構(gòu)，與一個成像透鏡具有正軸向焦度且另一個成像透鏡具有負(fù)軸向焦度的情況相比，使用了其中可以將每個曲率半徑做得和緩且容易形成的簡單子午線形狀。
當(dāng)可以將成像透鏡在主掃描截面中的軸向曲率半徑設(shè)定為充分和緩的值時，沒有必要將成像光學(xué)系統(tǒng)LB的兩個成像透鏡6a和6b中的每一個的焦度都設(shè)定為負(fù)值。
如上所述，根據(jù)本實施例，比值W/2L被設(shè)定為大的值。通過這種結(jié)構(gòu)，最大有效掃描視場角θmax被設(shè)定為56(度)的寬的值，以便實現(xiàn)每種光學(xué)性能。本發(fā)明并不局限于此。當(dāng)θmax等于或大于30(度)時，可以充分獲得本發(fā)明的效果。
如上所述，根據(jù)本實施例，光路長度L被設(shè)定為非常短的值100(毫米)。本發(fā)明并不局限于此。當(dāng)滿足以下條件時，可以充分獲得本發(fā)明的效果。
L≤125(毫米)在本實施例中，成像光學(xué)系統(tǒng)LB包括兩個成像透鏡。本發(fā)明并不局限于此。成像光學(xué)系統(tǒng)LB可以包括三個或更多的成像透鏡，或者可以是單個成像透鏡。
當(dāng)成像光學(xué)系統(tǒng)LB包括三個或更多的成像透鏡時，只需要用兩個成像透鏡代替第一成像透鏡6a，其中該兩個成像透鏡的復(fù)合焦距等于第一成像透鏡6a的焦距。
當(dāng)成像光學(xué)系統(tǒng)LB是單個成像透鏡時，只需要用單個成像透鏡代替第一和第二成像透鏡6a和6b，其中該單個成像透鏡的焦距等于第一和第二成像透鏡6a和6b的復(fù)合焦距。
如上所述，即使當(dāng)成像光學(xué)系統(tǒng)LB包括三個或更多成像透鏡，或者是單個成像透鏡時，也能夠充分獲得本發(fā)明的效果。
因此，可獲得光路長度短且fθ性能充分優(yōu)選的光學(xué)掃描設(shè)備。
在本實施例中，沒有描述成像透鏡在副掃描截面中的形狀。當(dāng)滿足成像光學(xué)系統(tǒng)所需的光學(xué)性能，諸如待掃描表面上在副掃描方向中的像場彎曲、副掃描放大倍率的均勻性以及掃描線曲率時，可以使用任何形狀。
在本實施例中，如上所述為了縮短光路長度，入射到光學(xué)偏轉(zhuǎn)器上的光束在主掃描方向上的會聚度被設(shè)定為高的值，結(jié)果，由于偏轉(zhuǎn)表面的非均勻性而提高了會聚抖動(待掃描表面上的照射位置在主掃描方向上的偏離，其由偏轉(zhuǎn)表面5的非均勻量引起)。
因此，根據(jù)本實施例，使用其中偏轉(zhuǎn)表面5的非均勻量小的振蕩型光學(xué)偏轉(zhuǎn)器(檢電鏡)，以便降低會聚抖動。
檢電鏡基于檢流計的原理。此后將簡要描述該原理。
當(dāng)電流提供給位于磁場中的可移動線圈時，基于電流和磁通量生成電磁力，從而使旋轉(zhuǎn)力(轉(zhuǎn)矩)與電流成比例。
可移動線圈旋轉(zhuǎn)到轉(zhuǎn)矩與彈簧力平衡的角度。指針通過可移動線圈搖擺，以檢測電流是否存在或者電流的幅度。這是檢流計的原理。
因此，在檢電鏡的情況下，基于檢流計的原理，在與可移動線圈相關(guān)聯(lián)轉(zhuǎn)動的軸中設(shè)置反射鏡而不是指針。
本發(fā)明不局限于振蕩型光學(xué)偏轉(zhuǎn)器?？梢允褂眯D(zhuǎn)多面反射鏡(多面反射鏡)作為光學(xué)偏轉(zhuǎn)器。旋轉(zhuǎn)多面反射鏡(多面反射鏡)具有能夠圍繞旋轉(zhuǎn)軸以恒定角速度旋轉(zhuǎn)的性能。
旋轉(zhuǎn)多面反射鏡(多面反射鏡)的優(yōu)勢是與檢電鏡的情況相比，折射表面的數(shù)量可增加。
然而，如在檢電鏡的情況中，即使在旋轉(zhuǎn)多面反射鏡(多面反射鏡)的情況下，也會由于偏轉(zhuǎn)表面的非均勻性而生成會聚抖動(待掃描表面上的照射位置在主掃描方向上的偏離，其由偏轉(zhuǎn)表面5的非均勻量引起)。
在本實施例中，為了提供緊湊和簡單的結(jié)構(gòu)，僅將變形透鏡2用于入射光學(xué)系統(tǒng)LA。本發(fā)明并不局限于此。例如，當(dāng)入射光學(xué)系統(tǒng)LA被設(shè)定為滿足條件表達(dá)式(6)時，可以獲得本發(fā)明的效果，而不依賴于入射光學(xué)系統(tǒng)LA的任何焦度配置。
例如，可以在入射光學(xué)系統(tǒng)LA中從光源單元1側(cè)依次布置在副掃描方向上具有焦度的準(zhǔn)直器透鏡和柱形透鏡。
在本實施例中，成像透鏡在主掃描方向上的子午線形狀關(guān)于光軸橫向?qū)ΨQ。本發(fā)明并不局限于此。例如，成像透鏡的形狀可以形成為關(guān)于光軸不橫向?qū)ΨQ。
下面，表1中示出根據(jù)本實施例的光學(xué)掃描設(shè)備的光學(xué)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)。
表1實施例1中的結(jié)構(gòu)
此外，在本實施例中與成像光學(xué)系統(tǒng)有關(guān)的“r”、“d”和“n”在表2中示出。
表2
此外，本實施例中的非球面形狀如表3所示。
表3
注意，非球面形狀是由以下的表達(dá)式定義的。
假設(shè)透鏡的曲面與光軸之間的交點被設(shè)定為原點，光軸方向被設(shè)定為X軸，在主掃描平面中與光軸正交的軸被設(shè)定為Y軸，并且相對于副掃描平面與光軸正交的軸被設(shè)定為Z軸。在此，當(dāng)X-Y平面和曲面之間的切割線被設(shè)定為子午線，并且X-Z平面和曲面之間的切割面在與子午線正交的方向上被設(shè)定為弧矢線，則子午線的形狀由以下表達(dá)式表達(dá)。
X=Y2/R1+(1-(1-K)×(Y/R)2+B2Y2+B4Y4+B6Y6+B8Y8+B10Y10+B12Y12+B14Y14+B16Y16]]>(其中，R表示曲率半徑，K、B2、B4、B6、B8、B10、B12、B14、和B16為子午線的非球面系數(shù))。
表4
表5
(圖像形成設(shè)備)圖15是副掃描截面方向上的主要部分的截面圖，示出了根據(jù)本發(fā)明一個實施例的圖像形成設(shè)備。在圖15中，代碼數(shù)據(jù)Dc從諸如個人計算機(jī)的外部裝置117輸入到圖像形成設(shè)備104。通過圖像形成設(shè)備中的打印機(jī)控制器111，代碼數(shù)據(jù)Dc被轉(zhuǎn)換成圖像數(shù)據(jù)(點數(shù)據(jù))Di。圖像數(shù)據(jù)Di被輸入到具有實施例1中所描述結(jié)構(gòu)的光學(xué)掃描單元100。根據(jù)圖像數(shù)據(jù)Di調(diào)制的光束103從光學(xué)掃描單元100發(fā)射。用光束103在主掃描方向上掃描感光鼓101的感光表面。
充當(dāng)靜電潛像承載部件(感光部件)的感光鼓101通過馬達(dá)115沿順時針方向旋轉(zhuǎn)。隨著該旋轉(zhuǎn)，感光鼓101的感光表面在與主掃描方向正交的副掃描方向上相對于光束103移動。均勻地給感光鼓101的表面充電的充電輥102被設(shè)置在感光鼓101的上方，以便和其表面接觸。通過充電輥102而帶電的感光鼓101的表面由被光學(xué)掃描單元100掃描的光束103照射。
如上所述，基于圖像數(shù)據(jù)Di調(diào)制光束103。感光鼓101的表面被光束103照射，以在其上形成靜電潛像。通過在感光鼓101的旋轉(zhuǎn)方向相對于光束103的照射位置設(shè)置在下游側(cè)以與感光鼓101相接觸的顯影裝置107，靜電潛像被顯影為調(diào)色劑圖像。
通過設(shè)置在感光鼓101的下方以便與感光鼓101相對的轉(zhuǎn)印輥108，由顯影裝置107顯影的調(diào)色劑圖像被轉(zhuǎn)印到充當(dāng)待轉(zhuǎn)印材料的片材112上。片材112包含在片材盒109中，該片材盒109位于感光鼓101之前(圖15中的右側(cè))。也可手動送紙。送紙輥110設(shè)置在片材盒109的端部分。包含在片材盒109中的片材112通過送紙輥110被送到輸送路徑。
通過上述操作，轉(zhuǎn)印了未定影調(diào)色劑圖像的片材112被進(jìn)一步輸送到位于感光鼓101的后部(圖15中左側(cè))的定影裝置。定影裝置包括具有定影加熱器(未示出)的定影輥113和設(shè)置為與定影輥113壓力接觸的加壓輥114。從轉(zhuǎn)印部分輸送的片材112在定影輥113和加壓輥114之間的加壓接觸部分中被加壓的同時被加熱，從而片材112上未定影的調(diào)色劑圖像被定影。傳遞輥116設(shè)置在定影輥113的后部。被定影的片材112通過傳遞輥116被傳遞到圖像形成設(shè)備的外部。
盡管圖15中未示出，但打印機(jī)控制器111不僅進(jìn)行如上所述的數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換，而且還如后面所述控制由馬達(dá)115表示的圖像形成設(shè)備的每個部分，以及控制光學(xué)掃描單元中的多角馬達(dá)(polygon motor)等等。
在本發(fā)明中使用的圖像形成設(shè)備的記錄密度不特別地限制。當(dāng)記錄密度增大時，需要更高的圖像質(zhì)量。因此，根據(jù)本發(fā)明實施例1的結(jié)構(gòu)進(jìn)一步展示出1200dpi或更高的圖像形成設(shè)備的情況下的效果。
(彩色圖像形成設(shè)備)圖16是示出根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的彩色圖像形成設(shè)備的主要部分的示意圖。該實施例示出了級聯(lián)型彩色圖像形成設(shè)備，其中設(shè)置四個光學(xué)掃描設(shè)備(光學(xué)成像光學(xué)系統(tǒng))以將圖像信息并行地記錄在每一個都充當(dāng)圖像承載部件的感光鼓的各表面上。如圖16所示，該彩色圖像形成設(shè)備包括彩色圖像形成設(shè)備60，每個均具有實施例1所述結(jié)構(gòu)的光學(xué)掃描設(shè)備11、12、13和14，充當(dāng)圖像承載部件的感光鼓21、22、23和24，顯影單元31、32、33和34，以及輸送帶51。在圖16中，為每個光學(xué)掃描設(shè)備設(shè)置用于將顯影裝置顯影的調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到待轉(zhuǎn)印材料上的轉(zhuǎn)印裝置(未示出)以及用于將轉(zhuǎn)印的調(diào)色劑圖像定影到待轉(zhuǎn)印材料上的定影裝置(未示出)。
在圖16中，R(紅色)，G(綠色)和B(藍(lán)色)的各個顏色信號從諸如個人計算機(jī)的外部裝置52輸入到彩色圖像形成設(shè)備60。通過彩色圖像形成設(shè)備中的打印機(jī)控制器53，這些顏色信號被轉(zhuǎn)換成C(青)、M(品紅)、Y(黃)和K(黑)的各個圖像數(shù)據(jù)(點數(shù)據(jù))。圖像數(shù)據(jù)被分別輸入到光學(xué)掃描設(shè)備11、12、13和14。根據(jù)各個圖像數(shù)據(jù)調(diào)制的光束41、42、43和44從各光學(xué)掃描設(shè)備發(fā)射。利用這些光束在主掃描方向上掃描感光鼓21、22、23和24的表面。
根據(jù)本實施例中的彩色圖像形成設(shè)備，四個光學(xué)掃描設(shè)備(11，12，13和14)對應(yīng)于C(青)、M(品紅)、Y(黃)和B(黑)的各個顏色排列。將圖像信號(圖像信息)并行記錄在感光鼓21、22、23和24的表面上，從而以高速打印彩色圖像。
根據(jù)本實施例中的彩色圖像形成設(shè)備，如上所述，通過使用基于來自四個掃描光學(xué)裝置11、12、13和14的各個圖像數(shù)據(jù)的光束，在感光鼓21、22、23和24的相應(yīng)表面上形成各個顏色的潛像。此后，在記錄部件上執(zhí)行多次轉(zhuǎn)印，以便產(chǎn)生全彩色圖像。
例如，可使用包括CCD傳感器的彩色圖像讀取設(shè)備作為外部裝置52。在這種情況下，彩色圖像讀取設(shè)備和彩色圖像形成設(shè)備60形成彩色數(shù)字復(fù)印機(jī)。
雖然本發(fā)明已經(jīng)參考示例性實施例進(jìn)行描述，但是應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明并不局限于公開的示例性實施例。以下權(quán)利要求的保護(hù)范圍應(yīng)作最寬的解釋，以包括所有這樣的變型和等同結(jié)構(gòu)和功能。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)掃描設(shè)備，包括光源單元；偏轉(zhuǎn)單元；入射光學(xué)系統(tǒng)，用于將從光源單元發(fā)射的光束引導(dǎo)至偏轉(zhuǎn)單元；以及成像光學(xué)系統(tǒng)，用于將由偏轉(zhuǎn)單元偏轉(zhuǎn)的光束成像在待掃描表面上，其中，滿足以下條件0.3＜Sd/L＜1，其中L(毫米)表示偏轉(zhuǎn)單元的偏轉(zhuǎn)表面和待掃描表面之間的間隔，并且Sd(毫米)表示偏轉(zhuǎn)單元的偏轉(zhuǎn)表面和自然會聚點之間的間隔，以及其中滿足|θ1|＜|θ3|以及|θ2|＜|θ3|的掃描視場角區(qū)域存在于整個有效掃描視場角區(qū)域中，其中在主掃描截面中且對于有限掃描視場角θ1(度)，θ2(度)表示入射到包含在成像光學(xué)系統(tǒng)中的成像光學(xué)元件LR的光束的主光線與成像光學(xué)系統(tǒng)的光軸之間形成的角度，并且θ3(度)表示從包含在成像光學(xué)系統(tǒng)中的成像光學(xué)元件LR發(fā)射的光束的主光線與成像光學(xué)系統(tǒng)的光軸之間形成的角度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，隨著掃描視場角絕對值|θ1|增大，掃描視場角區(qū)域從滿足|θ1|＜|θ3|以及|θ2|＜|θ3|的區(qū)域改變成滿足|θ1|＞|θ3|以及|θ2|＞|θ3|的區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中令θa(弧度)為有限的掃描視場角，θmax(弧度)為有效掃描區(qū)域中的最大掃描視場角，K(毫米/弧度)為fθ因子，并且θ(弧度)為任意掃描視場角，則滿足以下條件，|L×tanθa|＝|K×θa|(0＜|θa|＜|θmax|)，以及0.3＜|θa|/|θmax|＜0.7，并且存在滿足以下條件的掃描視場角θa|L×tanθ|＜|K×θ|(當(dāng)0＜|θ|＜|θa|時)，以及|L×tanθ|＞|K×θ|(當(dāng)|θa|＜|θ|≤|θmax|時)。
4.一種光學(xué)掃描設(shè)備，包括光源單元；偏轉(zhuǎn)單元；入射光學(xué)系統(tǒng)，用于將從光源單元發(fā)射的光束引導(dǎo)至偏轉(zhuǎn)單元；以及成像光學(xué)系統(tǒng)，用于將由偏轉(zhuǎn)單元偏轉(zhuǎn)的光束成像在待掃描表面上，其中，滿足以下條件0.3＜Sd/L＜1，其中L(毫米)表示偏轉(zhuǎn)單元的偏轉(zhuǎn)表面和待掃描表面之間的間隔，并且Sd(毫米)表示偏轉(zhuǎn)單元的偏轉(zhuǎn)表面和自然會聚點之間的間隔，其中令θa(弧度)為有限的掃描視場角，θmax(弧度)為有效掃描區(qū)域中的最大掃描視場角，K(毫米/弧度)為fθ因子，并且θ(弧度)為任意掃描視場角，則滿足以下條件，|L×tanθa|＝|K×θa|，(0＜|θa|＜|θmax|)，以及0.3＜|θa|/|θmax|＜0.7，并且存在滿足以下條件的掃描視場角θa|L×tanθ|＜|K×θ|(當(dāng)0＜|θ|＜|θa|時)，以及|L×tanθ|＞|K×θ|(當(dāng)|θa|＜|θ|≤|θmax|時)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中滿足以下條件0.85≤W/2L，其中L(毫米)表示偏轉(zhuǎn)單元的偏轉(zhuǎn)表面和待掃描表面之間的間隔，并且W(毫米)表示待掃描表面上的有效掃描寬度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中滿足以下條件L≤125(毫米)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中最大掃描視場角等于或者大于30(度)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中整個成像光學(xué)系統(tǒng)在主掃描截面中具有負(fù)的軸向焦度。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中成像光學(xué)元件是成像光學(xué)系統(tǒng)中所包含的光學(xué)元件當(dāng)中最接近待掃描表面的光學(xué)元件；并且該成像光學(xué)元件在主掃描截面上具有負(fù)的軸向焦度。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中整個成像光學(xué)系統(tǒng)在整個有效掃描視場角區(qū)域中，在主掃描截面中具有負(fù)的軸向焦度。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中在位于偏轉(zhuǎn)單元和待掃描表面之間的各光學(xué)元件的表面之間的間隔當(dāng)中，包含在成像光學(xué)系統(tǒng)中的、最接近待掃描表面的成像光學(xué)元件的待掃描表面?zhèn)鹊谋砻媾c待掃描表面之間的間隔是最寬的。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中成像光學(xué)元件在主掃描截面上具有厚度，該厚度隨著從該成像光學(xué)元件的光軸向離軸位置移動而增大然后減小。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中組成成像光學(xué)系統(tǒng)的每一個成像光學(xué)元件在主掃描截面中都具有負(fù)的軸向焦度。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中成像光學(xué)元件具有光學(xué)表面，該光學(xué)表面位于偏轉(zhuǎn)單元側(cè)，并且隨著從該成像光學(xué)元件的中心向其每個邊緣部分移動，該光學(xué)表面在主掃描方向上具有從凸形形狀向凹形形狀反轉(zhuǎn)的形狀。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中成像光學(xué)元件具有光學(xué)表面，該光學(xué)表面位于待掃描表面?zhèn)?，并且隨著從該成像光學(xué)元件的中心向其每個邊緣部分移動，該光學(xué)表面在主掃描方向上具有從凹形形狀向凸形形狀反轉(zhuǎn)的形狀。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中成像光學(xué)元件包括入射表面和出射表面，每一個表面具有這樣一種形狀，其中主掃描截面中的有效掃描區(qū)域邊緣中的表面位置比該成像光學(xué)元件的表面頂點位置更加接近偏轉(zhuǎn)單元。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中成像光學(xué)元件的軸向形狀是主掃描截面中的彎月形狀。
18.一種圖像形成設(shè)備，包括根據(jù)權(quán)利要求1-17中的任何一個權(quán)利要求所述的光學(xué)掃描設(shè)備；位于待掃描表面上的感光部件；顯影裝置，把用光束通過光學(xué)掃描設(shè)備掃描而形成在感光部件上的靜電潛像顯影作為調(diào)色劑圖像；轉(zhuǎn)印裝置，用于將顯影的調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到待轉(zhuǎn)印材料上；以及定影裝置，用于將轉(zhuǎn)印的調(diào)色劑圖像定影在待轉(zhuǎn)印的材料上。
19.一種圖像形成設(shè)備，包括根據(jù)權(quán)利要求1-17中的任何一個權(quán)利要求所述的光學(xué)掃描設(shè)備；以及打印機(jī)控制器，用于將從外部裝置輸入的代碼數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成圖像信號，并將該圖像信號輸出到光學(xué)掃描設(shè)備。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種能夠優(yōu)選地修正fθ特性、像場彎曲以及其他像差的緊湊的光學(xué)掃描設(shè)備，以及使用該光學(xué)掃描設(shè)備的圖像形成設(shè)備，該光學(xué)掃描設(shè)備包括入射光學(xué)系統(tǒng)(LA)，用于將光束從光源(1)引導(dǎo)至偏轉(zhuǎn)器(4)；以及成像光學(xué)系統(tǒng)(LB)，用于將光束引導(dǎo)至掃描表面(7)，其中滿足θ1＜θ3以及θ2＜θ3的掃描視場角區(qū)域存在于有效掃描視場角區(qū)域中，其中在主掃描截面中并且對于掃描視場角θ1，θ2表示入射到包含在成像光學(xué)系統(tǒng)中且最接近掃描表面的光學(xué)元件上的光束的主光線與成像光學(xué)系統(tǒng)的光軸之間的角，并且θ3表示來自該光學(xué)元件的光束的主光線與光軸之間的角。
文檔編號G03G15/04GK101034205SQ20071008568
公開日2007年9月12日 申請日期2007年3月6日 優(yōu)先權(quán)日2006年3月6日
發(fā)明者富岡雄一, 山脅健 申請人:佳能株式會社