專(zhuān)利名稱(chēng)：：新型抗反射導(dǎo)電膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種附著在透明材料上的抗反射導(dǎo)電膜，特別是用于液晶顯示、陰極射線(xiàn)管、建筑玻璃、觸摸屏面板、屏幕濾波器等附著在光學(xué)玻璃以及透明塑料基材上的抗反射導(dǎo)電膜。
背景技術(shù)：
：當(dāng)陰極射線(xiàn)管或液晶顯示器這類(lèi)顯示裝置在室外較明亮的公共場(chǎng)所使用時(shí)，外界光線(xiàn)對(duì)顯示屏幕具有非常大的干擾，尤其一些液晶顯示屏(LCD)，人眼幾乎不能正常分辨顯示色彩色度和對(duì)比度，使這類(lèi)顯示器不能正常的發(fā)揮顯示效果，如手機(jī)的液晶顯示屏在陽(yáng)光下幾乎不能看到顯示的內(nèi)容。解決此問(wèn)題可以采用以下兩種方法，其一是減少顯示器件光經(jīng)過(guò)的各個(gè)部件對(duì)光的損失率(包括材料本身的吸收和無(wú)法再利用的各個(gè)界面對(duì)光線(xiàn)的反射部分)；其二是減少外界光線(xiàn)在各個(gè)界面上的反射，以增強(qiáng)自液晶顯示發(fā)出的光進(jìn)入人眼的比例。在各個(gè)界面上增加減反射膜是解決此問(wèn)題的一種有效方法，其原理是利用多層具有不同折射率及不同厚度的膜層，按照一定的排列規(guī)律組成復(fù)合膜，形成光的干涉，從而消除反射。傳統(tǒng)的光學(xué)抗反射薄膜大量的使用在鏡頭表面、鏡片表面、光學(xué)元件表面、液晶顯示器件、陰極射線(xiàn)管、建筑玻璃和觸摸屏的塑料或者玻璃基板上，用于消除塑料或者玻璃基板的表面反射。光學(xué)抗反射膜是利用光的干涉原理，單層抗反射膜是讓膜層上下界面反射的兩束相干光線(xiàn)產(chǎn)生1/2的光程差(即光學(xué)厚度為1/4參考波長(zhǎng))時(shí)，光線(xiàn)發(fā)生相消干涉，反射光相互消除，從而降低表面反射?？狗瓷涠鄬幽ねǔ２捎酶哒凵渎什牧?H)和低折射率材料(L)，如Ti02和Si02，形成對(duì)光線(xiàn)相互干涉的膜層結(jié)構(gòu)，對(duì)不同的波長(zhǎng)產(chǎn)生干涉相消，從而降低塑料或玻璃基板對(duì)不同波長(zhǎng)的反射。一般而言，對(duì)于普通的光學(xué)塑料和玻璃基板，基板在550nm處折射率為1.52時(shí)，基板與空氣的一個(gè)接觸面將產(chǎn)生4%—4.5%的反射，兩個(gè)接觸面將產(chǎn)生8%—9%的反射。而使用抗反射膜后，可使表面的反射降低到1%以下。按照這種原理，現(xiàn)有技術(shù)中已經(jīng)公開(kāi)了多種抗反射導(dǎo)電膜，比較有代表性的是美國(guó)專(zhuān)利No.5986796和No.5825255公開(kāi)了一種抗反射的膜層結(jié)構(gòu)，其中實(shí)例采用1/4參考波長(zhǎng)的光學(xué)厚度設(shè)計(jì)，使膜層達(dá)到抗反射的效果。但是此發(fā)明最外層使用了在550nm的波長(zhǎng)時(shí)，折射率為1.38的MgF2作為低折射率材料，因此最外層材料本身不導(dǎo)電，不能同時(shí)滿(mǎn)足抗反射和導(dǎo)電的性能要求。美國(guó)專(zhuān)利No.4921760中公布了一種采用Ce02、A1203、Zr02、Si02、Ti02、Ta205等氧化物作為材料設(shè)計(jì)，在公布的實(shí)例中最外層材料為Si02，在550nm處的折射率為1.46，膜層的總厚度為358.0nm。同樣最外層材料本身不導(dǎo)電，不能同時(shí)滿(mǎn)足抗反射和導(dǎo)電的性能要求。美國(guó)專(zhuān)利No.5091244和5407733采用了TiN、NbN、Sn02、Si02、八1203和Nb20s等氧化物和氮化物設(shè)計(jì)，公布的膜層結(jié)構(gòu)為4層，總厚度為161.0nm，最外層材料為Si02，在550nm波長(zhǎng)處的折射率為1.46，只能將可見(jiàn)光的反射光強(qiáng)度降低到50%。同樣最外層材料本身不導(dǎo)電，不能同時(shí)滿(mǎn)足抗反射和導(dǎo)電的性能要求。美國(guó)專(zhuān)利No.5728456和5783049公開(kāi)了一種在塑料薄膜上采用濺射法沉積抗反射薄膜。膜層材料采用了ITO、Si02和氟化物，膜層為6層結(jié)構(gòu)，總厚度為363.0nm，最外層為低折射率材料Si02，在550nrn波長(zhǎng)處的折射率為1.46。同樣最外層材料本身不導(dǎo)電，不能同時(shí)滿(mǎn)足抗反射和導(dǎo)電的性能要求。中國(guó)專(zhuān)利公開(kāi)號(hào)為CN1665753，公布了一種包含減反射涂層的透明基材。這種透明基材至少有一層包含了由薄膜構(gòu)成疊層的防眩涂層，在基板的垂直方向，疊層材料依次包含第一膜層具有折射指數(shù)介于1.8-2.2并且其幾何厚度介于5—50nm，第二膜層具有折射指數(shù)介于1.35-1.65，并且?guī)缀魏穸冉橛?—50nm，第三膜層具有光折射指數(shù)介于1.8-2.2，并且?guī)缀魏穸冉橛?0—150nm,第四膜層具有光折射指數(shù)介于1.35-1.65，并且?guī)缀魏穸冉橛?0—150nm。同樣最外層材料本身不導(dǎo)電，不能同時(shí)滿(mǎn)足抗反射和導(dǎo)電的性能要求。中國(guó)專(zhuān)利公開(kāi)號(hào)為CN1280676A，公布了一種多層導(dǎo)電抗反射涂層。其發(fā)明包括了以涂布在柔性基材上的具有預(yù)定光學(xué)性能的多層無(wú)機(jī)抗反射涂層。該涂層為五種材料層組成的一疊層，其中第三層(由外到里起數(shù))是由導(dǎo)電材料最好是銦一氧化錫構(gòu)成的虛層，該導(dǎo)電材料具有約25—2000^/sq的可調(diào)薄膜電阻，因而不影響涂層的光學(xué)性能。但是同樣最外層材料本身不導(dǎo)電，在工藝上還需要加上刻蝕的工藝，因此增加了工藝的不穩(wěn)定性，良品率降低。美國(guó)專(zhuān)利No.6586101，公開(kāi)了一種抗反射光學(xué)多層膜，具有五層結(jié)構(gòu)，且由離基板最遠(yuǎn)的層開(kāi)始算起第一層、第二層、第三層、第四層和第五層。此多層薄膜材料包含材料為ITO的第一層、材料為Si02的第二層、材料為NbO的第三層、材料材Si02的第四層和材料為NbO的第五層。此發(fā)明可以解決透明和導(dǎo)電的結(jié)合，但是使用的膜層結(jié)構(gòu)復(fù)雜，尤其是高折射率層的厚度太厚不適于大面積、批量連續(xù)生產(chǎn)的要求。中國(guó)專(zhuān)利公開(kāi)號(hào)CN1389346A，公布了一種抗反射光學(xué)多層膜，膜層具有五層結(jié)構(gòu)，并且由離基板最遠(yuǎn)的層開(kāi)始計(jì)算起為第一層、第二層、第三等、第四層和第五層。此多層膜包含材料為ITO的第一層、材料為SK)2的第二層、材料為NbO的第三層、材料為Si02的第四層和材料為NbO的第五層。公布了的膜層結(jié)構(gòu)如下<table>tableseeoriginaldocumentpage6</column></row><table>此膜層結(jié)構(gòu)可以實(shí)現(xiàn)較高的透射率，在可見(jiàn)光波長(zhǎng)為460nm—600nm時(shí)，反射率可以低于0.1%。但是由于各個(gè)波長(zhǎng)段的光線(xiàn)對(duì)于人類(lèi)眼睛的刺激程度不同，對(duì)眼睛起作用的光線(xiàn)在波長(zhǎng)為530nm—570nm，其它波段的光線(xiàn)對(duì)眼睛的刺激以離550nm越遠(yuǎn)越弱，對(duì)人眼的光強(qiáng)貢獻(xiàn)也越遠(yuǎn)越弱，可見(jiàn)光對(duì)人類(lèi)眼睛的刺激函數(shù)見(jiàn)圖8。因此在對(duì)膜層的優(yōu)化設(shè)計(jì)時(shí)，可以充分利用這種特征簡(jiǎn)化膜層結(jié)構(gòu)和降低膜層厚度。美國(guó)專(zhuān)利No.6586101和中國(guó)專(zhuān)利公開(kāi)號(hào)CN1389346A中高折射率層的厚度最高為30nm—100nm，由于高折射率材料在蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜的工藝中較難實(shí)現(xiàn)高沉積速率鍍膜，膜層較厚將增加工藝的難度，同時(shí)增加設(shè)備和材料成本。中國(guó)專(zhuān)利公開(kāi)號(hào)為CN1447133A，公開(kāi)了一種具有透明導(dǎo)電表面層的抗反射涂布層。此發(fā)明的膜層具有四層結(jié)構(gòu)，由離基板最遠(yuǎn)的層開(kāi)始算起為第一層、第二層、第三層和第四層。其中該膜層結(jié)構(gòu)的第一層為透明導(dǎo)電表面，該導(dǎo)電層有良好的導(dǎo)電性和抗劃傷性，使用了ITO、Si02、NbO和NbSiO作為鍍膜材料。公開(kāi)的膜層結(jié)構(gòu)為-<table>tableseeoriginaldocumentpage7</column></row><table>該膜層結(jié)構(gòu)也可以達(dá)到較高的透射率，可見(jiàn)光波長(zhǎng)為460nm-600nm范圍時(shí)，反射率可以低于0.1%。同樣高折射率層的厚度較厚，增加了靶材和真空室的數(shù)量，實(shí)現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn)的工藝較復(fù)雜，工藝不穩(wěn)定。綜上所述，雖然現(xiàn)有技術(shù)實(shí)現(xiàn)了抗反射和導(dǎo)電膜的結(jié)合，但是在實(shí)際生產(chǎn)中還存在著成本高、工藝不穩(wěn)定、成品率低等問(wèn)題，為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)未能解決的難題，需提供新的設(shè)計(jì)方案。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于提供了一種新型抗反射導(dǎo)電膜，具有成本低、工藝穩(wěn)定、成品率高的優(yōu)點(diǎn)。本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的新型抗反射導(dǎo)電膜，所述抗反射導(dǎo)電膜附著在透明基材(S)上，所述抗反射導(dǎo)電膜是至少包含有高折射率層(H)、低折射率層(L)和透明導(dǎo)電膜(T)，所述高折射率層(H)指波長(zhǎng)在530nm-570nm時(shí)，折射率指數(shù)在2.1-2.4的膜層材料，所述低折射率層(L)指波長(zhǎng)在530nm—570nm時(shí)，折射率指數(shù)在1.4-1.5膜層材料，所述透明導(dǎo)電膜(T)指波長(zhǎng)在530nm—570nm時(shí)，折射率指數(shù)在1.85-1.95具有弱吸收的膜層材料，而且所述抗反射導(dǎo)電膜的結(jié)構(gòu)是以下三種膜結(jié)構(gòu)中的一種第一種膜結(jié)構(gòu)是在透明基材(S)的兩面由靠近透明基材(S)向外依次為高折射率層(H)，低折射率層(L),其中一面的最外層為透明導(dǎo)電膜(T);高折射率層(H)的厚度在5nm至30nm之間，低折射率層(L)的厚度在60nrn至120nm之間，透明導(dǎo)電膜(T)的厚度在5nm至40nm之間，這種排列形式的膜結(jié)構(gòu)記錄為L(zhǎng)/H/S/H/L/T型；第二種膜結(jié)構(gòu)是:在透明基材(S)的兩面由靠近透明基材(S)向外依次為高折射率層(H)，低折射率層(L)，高折射率層(H)，低折射率層(L),且在透明基材(S)的一面的最外層為透明導(dǎo)電膜(T)，這種排列形式的膜結(jié)構(gòu)記錄為(L/H)2/S/(H/L)Vr型；組成這種9層復(fù)合膜的各膜層的厚度具有以下特征<table>tableseeoriginaldocumentpage8</column></row><table>第三種膜的排列結(jié)構(gòu)中還包含中折射率層(M)，所述的中折射率層(M)是指波長(zhǎng)在530nm-570nm時(shí)，折射率指數(shù)在1.6-1.7的膜層材料。第三種膜結(jié)構(gòu)的特征在于在透明基材(S)的兩面由靠近透明基材(S)向外依次為高折射率層(H)，中折射率層(M)，低折射率層(L)，其中一面的最外層為透明導(dǎo)電膜(T);高折射率層(H)的厚度在5nm至30nm之間，低折射率層(L)的厚度在60nm至120nm之間，中折射率層(M)的厚度在5nm至40nm之間，透明導(dǎo)電膜(T)的厚度在5nm至40nm之間，這種排列形式的膜結(jié)構(gòu)記錄為L(zhǎng)/M/H/S/H/M/L/T型。所述透明基材(S)為玻璃或光學(xué)塑料，特別是光學(xué)玻璃，或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、或聚碳酸酯(PC)、或聚對(duì)苯二甲酸乙醇酯(PET),在波長(zhǎng)380nm-780nm范圍內(nèi)為透明，其折射率要求為1.40-1.70。所述高折射率層(H)在波長(zhǎng)380nm-780nm范圍內(nèi)透明無(wú)吸收，其材料是二氧化鈦(Ti02)、或五氧化二鉭(Ta20s)、或五氧化二鈮(Nb20s)、或鈮鉭(NbTa)混合鍍膜后形成的氧化物、或者鈦鈮(TiNb)混合后鍍膜形成的氧化物。所述低折射率層(L)在波長(zhǎng)380nm-780nm范圍內(nèi)透明無(wú)吸收，其材料可以為氧化硅(Si02)、硅鋁(SiAl)混合后鍍膜形成的氧化物。所述中折射率層(M)其在波長(zhǎng)380nm-780nm范圍內(nèi)透明無(wú)吸收，其材料為氧化鋁(A1203)、或鈮硅(NbSi)混合鍍膜后形成的氧化物。所述透明導(dǎo)電膜(T)是下列氧化物中的一種或者是它們之間的混合物，所述氧化物是指氧化銦錫(ITO)、氧化錫(Sn02)、氧化鋅(ZnO)、氧化銦(In203)、摻氟氧化錫(Sn02:F)、摻砷氧化錫(Sn02:Sb)、摻鋁氧化鋅(ZnO:AD、氧化銦鋅(In203:ZnO)、氧化錫鋅(Sn02:ZnO)以及氧化銦鎂(In203:MgO)。所述抗反射導(dǎo)電膜是采用批次生產(chǎn)或者連續(xù)式生產(chǎn)的蒸發(fā)鍍膜或者濺射鍍膜系統(tǒng)制造的多層膜結(jié)構(gòu)的復(fù)合膜。本發(fā)明提供了三種新型抗反射導(dǎo)電膜，抗反射導(dǎo)電膜是包含有高折射率層(H)、低折射率層(L)、中折射率層(M)和透明導(dǎo)電膜(T)，高折射率層(H)在波長(zhǎng)530nm—570nm時(shí)，折射率指數(shù)在2.1-2.4的具有最髙折射率的材料Ti02，低折射率層(L)在波長(zhǎng)530nm—570nm時(shí)，折射率指數(shù)在1.4-1.5的Si02，所述透明導(dǎo)電膜(T)指波長(zhǎng)在530nm—570nm時(shí)，折射率指數(shù)在1.85-1.95具有弱吸收的膜層材料。三種抗反射導(dǎo)電膜的結(jié)構(gòu)為L(zhǎng)/H/S/H/L/T型、(L/H)2/S/(H/L)2/T型和L/M/H/S/H/M/L/T型本發(fā)明提供的三種結(jié)構(gòu)高折射率材料的厚度較小，可以簡(jiǎn)化工藝，有利于實(shí)現(xiàn)連續(xù)批量的生產(chǎn)。同時(shí)由于大面積顯示器、陰極射線(xiàn)管和觸摸屏，不僅是一個(gè)光電器件，而且也是一個(gè)裝飾件，所以對(duì)其外觀色彩有要求，本發(fā)明針對(duì)人們認(rèn)可的幾種顏色進(jìn)行膜層的優(yōu)化，由所提出的三種結(jié)構(gòu)可以實(shí)現(xiàn)人們比較認(rèn)可的色彩范圍。如視覺(jué)上的色彩為藍(lán)色、淺藍(lán)色、紅色和紫色等。圖1是本發(fā)明之L/H/S/H/L/T型抗反射導(dǎo)電膜的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本發(fā)明之(L/H)2/S/(H/L)Vr型抗反射導(dǎo)電膜的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3是本發(fā)明之L/M/H/S/H/M/L/T型抗反射導(dǎo)電膜的結(jié)構(gòu)示意圖。圖4是可見(jiàn)光對(duì)人眼的刺激函數(shù)圖。i上述圖中，H為高折射率層，L為低折射率層，M為中折射率層，S為基板。具體實(shí)施例實(shí)施例l:本發(fā)明之L/H/S/H/L/T型抗反射導(dǎo)電膜本發(fā)明之L/H/S/H/L/T型抗反射導(dǎo)電膜的具體膜層特點(diǎn)為高折射率層(H)選用Ti02，材料在530-570nm的折射率指數(shù)為2.1-2.4;低折射率層(L)選用Si02，材料在530-570nm的折射率指數(shù)為1.4-1.5;基板材料(S)選用玻璃，在可見(jiàn)光范圍內(nèi)折射率指數(shù)為<table>tableseeoriginaldocumentpage10</column></row><table>參考圖l，這種膜層反射顏色為淺藍(lán)色，530nm—570nm波長(zhǎng)處的反射率值可在原基板的反射率上降低8.5%的反射率。由于高折射率材料的厚度較小，這樣的厚度和膜層結(jié)構(gòu)可以減少真空連續(xù)鍍膜機(jī)的腔體，并且工藝簡(jiǎn)單，更容易實(shí)現(xiàn)大批量連續(xù)生產(chǎn)。下面為生產(chǎn)此抗反射導(dǎo)電膜的基本工藝流程。本發(fā)明的膜層采用連續(xù)磁控濺射或蒸發(fā)和批次濺射或蒸發(fā)進(jìn)行生產(chǎn)，尤其是連續(xù)磁控濺射鍍膜的方法。采用連續(xù)磁控濺射方法具體實(shí)例制造步驟為玻璃連續(xù)濺射鍍膜工藝，需要經(jīng)過(guò)玻璃切片，磨邊，倒角，玻璃清洗、鍍膜和檢測(cè)等工序。鍍膜按如下工藝方案實(shí)施(1)使用直流平面磁控濺射鍍的方法濺射鍍膜玻璃基板，濺射時(shí)所使用的靶材料為T(mén)i靶，采用在真空室同時(shí)通入Ar和02進(jìn)行反應(yīng)濺射鍍膜，形成高折射率的Ti02膜層?；宀ＡЬ嚯x靶材表面為60mm—120mm，并采用加熱器保持該玻璃的基板溫度為100°C-300°C，鍍膜機(jī)腔體內(nèi)的工作壓力為0—10mTorr。(2)使用交流反應(yīng)平面磁控濺射的方法濺射鍍膜玻璃基板，濺射時(shí)使用的靶材料為Si靶，采用真空室內(nèi)同時(shí)通入Ar和02進(jìn)行反應(yīng)濺射鍍膜，形成低折射率的Si02膜層。基板玻璃距離靶材表面為60mm—120mm，并采用加熱器保持該玻璃的基板溫度為10(TC—300'C，鍍膜機(jī)腔體內(nèi)的工作壓力為0—lOmTorr。(3)使用直流或直流脈沖磁控濺射的方法濺射鍍膜玻璃基板，濺射時(shí)使用的材料為ITO靶，采用在真空室通入Ar進(jìn)行濺射鍍膜，形成ITO膜層?；宀ＡЬ嚯x耙材表面為60mm—120mm，并采用加熱器保持該玻璃的基板溫度為IO(TC一30(TC，鍍膜機(jī)腔體內(nèi)的工作壓力為0—10mTorr。(4)為實(shí)現(xiàn)連續(xù)濺射的工藝，需要同時(shí)布置多塊靶材料，安布在不同的真空腔室，協(xié)調(diào)多靶同時(shí)工作穩(wěn)定工藝。實(shí)施例2:本發(fā)明之(L/H)2/S/(H/L)"T型抗反射導(dǎo)電膜本發(fā)明之(L/H)2/S/(H/L)2/T型抗反射導(dǎo)電膜具有9層結(jié)構(gòu)，層數(shù)較多，但是這種結(jié)構(gòu)可以實(shí)現(xiàn)多種顏色，從而可以根據(jù)需要調(diào)整到所需要的色彩，具體的膜層特點(diǎn)為髙折射率層(H)選用Ti02，材料在530-570nm的折射率指數(shù)為2.1-2.4;低折射率層(L)選用Si02，材料在530-570nm的折射率指數(shù)為1.4-1.5;基板材料(S)選用玻璃，在可見(jiàn)光范圍內(nèi)折射率指數(shù)為1.51-1.56;透明導(dǎo)電膜(T)選用ITO，在可見(jiàn)光范圍內(nèi)折射率指數(shù)介于1.85-1.95;各層的厚度設(shè)計(jì)如下<table>tableseeoriginaldocumentpage11</column></row><table>參考圖2，此膜層反射顏色為紅色，530nm—570nm波長(zhǎng)處的反射率值可在原基板的反射率上降低8.8%的反射率。由于高折射率材料的厚度較小，工藝較穩(wěn)定，容易實(shí)現(xiàn)大批量連續(xù)生產(chǎn)。當(dāng)各層的厚度設(shè)計(jì)如下表時(shí)，此膜層反射顏色為淺藍(lán)色，530—570nm波長(zhǎng)處的反射率值可在原基板的反射率上降低8.8%的反射率。<table>tableseeoriginaldocumentpage12</column></row><table>抗反射導(dǎo)電膜的基本工藝流程與第一種膜層結(jié)構(gòu)實(shí)例大致相同，都有玻璃切片，磨邊，倒角，玻璃清洗、鍍膜和檢測(cè)等工序。不同點(diǎn)在于真空鍍膜靶材料的布置和真空腔體的布置。實(shí)施例3:本發(fā)明之L/M/H/S/H/M/L/T型抗反射導(dǎo)電膜本發(fā)明之L/M/H/S/H/M/L/T型抗反射導(dǎo)電膜結(jié)構(gòu)中多了一層中折射率層(M)，這種結(jié)構(gòu)可以實(shí)現(xiàn)更加穩(wěn)定的工藝，具體的膜層特點(diǎn)為高折射率層(H)選用Ti02，材料在530nm-570nm的折射率指數(shù)為2.1-2.4;中折射率層(M)，材料在530nm-570nm時(shí)，折射率指數(shù)在1.6-1.7;低折射率層(L)選用Si02，材料在530-570nm的折射率指數(shù)為1.4-1.5;基板材料(S)選用玻璃，在可見(jiàn)光范圍內(nèi)折射率指數(shù)為1.51-1.56;透明導(dǎo)電膜(T)選用ITO，在可見(jiàn)光范圍內(nèi)折射率指數(shù)介于1.85-1.95;各層的厚度設(shè)計(jì)如下<table>tableseeoriginaldocumentpage12</column></row><table>參考圖3，此膜層反射顏色為藍(lán)色，530nm—570nm波長(zhǎng)處的反射率值可在原基板的反射率上降低8.6%的反射率。由于高折射率層和中折射率層的厚度較小，工藝較穩(wěn)定，容易實(shí)現(xiàn)大批量連續(xù)生產(chǎn)。本發(fā)明提供的三種膜結(jié)構(gòu)可以在權(quán)利要求的厚度范圍內(nèi)進(jìn)行具體調(diào)整，獲得所需要的色彩和特定的抗反射要求。本發(fā)明的三種結(jié)構(gòu)首先突破了現(xiàn)有技術(shù)由于膜層較厚，導(dǎo)致的鍍膜設(shè)備龐大，工藝復(fù)雜的缺點(diǎn)，簡(jiǎn)化了膜層結(jié)構(gòu)；其次，本發(fā)明的膜層結(jié)構(gòu)在考慮視覺(jué)抗反射的效果下，可以根據(jù)不同的需要調(diào)整抗反射膜的膜層結(jié)構(gòu)獲得不同色彩；再者，本發(fā)明使用的材料為通用膜層材料，工藝簡(jiǎn)單，容易實(shí)現(xiàn)大批量連續(xù)生產(chǎn)。應(yīng)該注意，本文中公開(kāi)和說(shuō)明的結(jié)構(gòu)可以用其它效果相同的結(jié)構(gòu)代替，同時(shí)本發(fā)明所介紹的實(shí)施例并非實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的唯一結(jié)構(gòu)。雖然本發(fā)明的優(yōu)先實(shí)施例已在本文中予以介紹和說(shuō)明，但本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員都清楚知道這些實(shí)施例不過(guò)是舉例說(shuō)明而已，本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員可以做出無(wú)數(shù)的變化、改進(jìn)和代替，而不會(huì)脫離本發(fā)明，因此，應(yīng)按照本發(fā)明所附的權(quán)利要求書(shū)的精神和范圍來(lái)的限定本發(fā)明的保護(hù)范圍。權(quán)利要求1.新型抗反射導(dǎo)電膜，其特征在于所述抗反射導(dǎo)電膜附著在透明基材(S)上，所述抗反射導(dǎo)電膜是至少包含有高折射率層(H)、低折射率層(L)和透明導(dǎo)電膜(T)，所述高折射率層(H)指波長(zhǎng)在530nm-570nm時(shí)，折射率指數(shù)在2.1-2.4的膜層材料，所述低折射率層(L)指波長(zhǎng)在530nm-570nm時(shí)，折射率指數(shù)在1.4-1.5膜層材料，所述透明導(dǎo)電膜(T)指波長(zhǎng)在530nm-570nm時(shí)，折射率指數(shù)在1.85-1.95具有弱吸收的膜層材料，而且所述抗反射導(dǎo)電膜的結(jié)構(gòu)是以下三種膜結(jié)構(gòu)中的一種第一種膜結(jié)構(gòu)的特征在于在透明基材(S)的兩面由靠近透明基材(S)向外依次為高折射率層(H)，低折射率層(L)，其中一面的最外層為透明導(dǎo)電膜(T)；高折射率層(H)的厚度在5nm至30nm之間，低折射率層(L)的厚度在60nm至120nm之間，透明導(dǎo)電膜(T)的厚度在5nm至40nm之間，這種排列形式的膜結(jié)構(gòu)記錄為L(zhǎng)/H/S/H/L/T型；第二種膜結(jié)構(gòu)的特征在于在透明基材(S)的兩面由靠近透明基材(S)向外依次為高折射率層(H)，低折射率層(L)，高折射率層(H)，低折射率層(L)，且在透明基材(S)的一面的最外層為透明導(dǎo)電膜(T)，這種排列形式的膜結(jié)構(gòu)記錄為(L/H)2/S/(H/L)2/T型；組成這種9層復(fù)合膜的各膜層的厚度具有以下特征<tablesid="tabl0001"num="0001"></tables>第三種膜的排列結(jié)構(gòu)中還包含中折射率層(M)，所述的中折射率層(M)是指波長(zhǎng)在530nm-570nm時(shí)，折射率指數(shù)在1.6-1.7的膜層材料。第三種膜結(jié)構(gòu)的特征在于在透明基材(S)的兩面由靠近透明基材(S)向外依次為高折射率層(H)，中折射率層(M)，低折射率層(L)，其中一面的最外層為透明導(dǎo)電膜(T)；高折射率層(H)的厚度在5nm至30nm之間，低折射率層(L)的厚度在60nm至120nm之間，中折射率層(M)的厚度在5nm至40nm之間，透明導(dǎo)電膜(T)的厚度在5nm至40nm之間，這種排列形式的膜結(jié)構(gòu)記錄為L(zhǎng)/M/H/S/H/M/L/T型。2、根據(jù)權(quán)利要求1所述抗反射導(dǎo)電膜，其特征在于所述透明基材(S)為玻璃或光學(xué)塑料，特別是光學(xué)玻璃，或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、或聚碳酸酯(PC)、或聚對(duì)苯二甲酸乙醇酯(PET)，在波長(zhǎng)380nm-780nm范圍內(nèi)為透明，其折射率要求為1.40-1.70。3、根據(jù)權(quán)利要求1所述抗反射導(dǎo)電膜，其特征在于所述高折射率層(H)在波長(zhǎng)380nm-780nm范圍內(nèi)透明無(wú)吸收，其材料是二氧化鈦(Ti02)、或五氧化二鉭(Ta205)、或五氧化二鈮(Nb205)、或鈮鉅(NbTa)混合鍍膜后形成的氧化物、或者鈦鈮(TiNb)混合后鍍膜形成的氧化物。4、根據(jù)權(quán)利要求1所述抗反射導(dǎo)電膜，其特征在于所述低折射率層(L)在波長(zhǎng)380nm-780nm范圍內(nèi)透明無(wú)吸收，其材料可以為氧化硅(Si02)、硅鋁(SiAl)混合后鍍膜形成的氧化物。5、根據(jù)權(quán)利要求l所述抗反射導(dǎo)電膜膜，其特征在于所述中折射率層(M)其在波長(zhǎng)380nm-780nm范圍內(nèi)透明無(wú)吸收，其材料為氧化鋁(A1203)、或鈮硅(NbSi)混合鍍膜后形成的氧化物。6、根據(jù)權(quán)利要求1所述抗反射導(dǎo)電膜，其特征在于透明導(dǎo)電膜(T)是下列氧化物中的一種或者是它們之間的混合物，所述氧化物是指氧化銦錫(ITO)、氧化錫(Sn02)、氧化鋅(ZnO)、氧化銦(ln203)、摻氟氧化錫(Sn02:F)、摻砷氧化錫(Sn02:Sb)、摻鋁氧化鋅(ZnO:Al)、氧化銦鋅(In203:ZnO)、氧化錫鋅(Sn02:ZnO)以及氧化銦鎂(In203:MgO)。7、根據(jù)權(quán)利要求1所述抗反射導(dǎo)電膜，其特征在于所述抗反射導(dǎo)電膜是采用批次生產(chǎn)或者連續(xù)式生產(chǎn)的蒸發(fā)鍍膜或者濺射鍍膜系統(tǒng)制造的多層膜結(jié)構(gòu)的復(fù)合膜。全文摘要新型抗反射導(dǎo)電膜，有三種不同的具體結(jié)構(gòu)，包含有高折射率層(H)、低折射率層(L)、和透明導(dǎo)電膜(T)、或/和中折射率層(M)；各層膜按照L/H/S/H/L/T型、或(L/H)²/S/(H/L)²/T型、或L/M/H/S/H/M/L/T型的規(guī)律排列，形成多層復(fù)合膜。本發(fā)明之新型抗反射導(dǎo)電膜的各膜層的厚度較小，可以簡(jiǎn)化生產(chǎn)工藝，適合連續(xù)批量的生產(chǎn)，特別是適合于生產(chǎn)大面積的抗反射導(dǎo)電膜。本發(fā)明可以廣泛用做光學(xué)玻璃或透明塑料基材料上的抗反射導(dǎo)電膜，在液晶顯示、陰極射線(xiàn)管、建筑玻璃、觸摸屏面板、屏幕濾波器等得到廣泛的應(yīng)用。文檔編號(hào)G02B1/10GK101276005SQ20071002734公開(kāi)日2008年10月1日申請(qǐng)日期2007年3月29日優(yōu)先權(quán)日2007年3月29日發(fā)明者郭愛(ài)軍申請(qǐng)人:郭愛(ài)軍