專利名稱：用于制造液晶顯示器的設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于制造液晶顯示器的設(shè)備，更具體地，涉及用于將曝光處理應(yīng)用于諸如液晶顯示器的顯示器件的基板的曝光結(jié)構(gòu)(layout)。
背景技術(shù)：
通常，提供用于制造液晶顯示器的設(shè)備的曝光單元，來通過在提供具有預(yù)定圖案的光掩模之后將紫外線施加于涂覆有光刻膠的玻璃基板以進行曝光處理。在進行曝光處理之前，從用于涂覆光刻膠的涂覆單元卸載玻璃基板。在這種情況下，在涂覆單元與曝光單元之間存在多個機械手和輸送機，用來運送基板。
圖1是示出根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的曝光結(jié)構(gòu)的框圖。該曝光結(jié)構(gòu)說明了用于將玻璃基板運送到曝光單元的一系列工序。
如圖1所示，現(xiàn)有技術(shù)的曝光結(jié)構(gòu)配備有中轉(zhuǎn)輸送機(thru-conveyor)11和12、溶劑去除單元20、降溫單元(CP)30、轉(zhuǎn)入/轉(zhuǎn)出(in-out turn)單元40、編號機(titler)50、緩沖器60和多個機械手71、72和73。
在這種情況下，提供中轉(zhuǎn)輸送機11來裝載基板，并且設(shè)置中轉(zhuǎn)輸送機12來卸載基板。
然后，將被涂覆機2涂覆有光刻膠的基板從中轉(zhuǎn)輸送機11運送到溶劑去除單元20。溶劑去除單元20從涂覆有光刻膠的基板去除溶劑。溶劑去除單元20由具有軟烤熱板(softbake hot plate(SHP))的烤爐形成。然后，降溫單元30由用于降低從SHP20卸載的基板的溫度的冷卻板(CP)形成。轉(zhuǎn)入/轉(zhuǎn)出單元40改變基板的行進方向，以將基板提供給下一工序。
機械手71、72和73位于各組件之間，用于裝載和卸載基板。在此情況下，機械手由第一機械手71、第二機械手72和第三機械手73形成。
第一機械手71從涂覆機2接收涂覆有光刻膠的基板，然后將基板運送到中轉(zhuǎn)輸送機11。第一機械手71設(shè)置在涂覆機2與中轉(zhuǎn)輸送機11的基板裝載側(cè)之間。
第二機械手72接收從中轉(zhuǎn)輸送機11卸載的基板，然后將基板運送到SHP20。此外，第二機械手72從SHP20接收基板，然后將基板運送到降溫單元30。此外，第二機械手72從降溫單元30接收基板，然后將基板運送到轉(zhuǎn)入/轉(zhuǎn)出單元40。
在這種情況下，SHP20位于中轉(zhuǎn)輸送機11的基板卸載側(cè)。第二機械手72位于SHP20、降溫單元30與轉(zhuǎn)入/轉(zhuǎn)出單元40之間，用于將基板運送到各組件20、30和40。
第二機械手73從轉(zhuǎn)入/轉(zhuǎn)出單元40接收基板，然后將基板運送到曝光單元3。在完成了曝光處理之后，第三機械手73將基板運送到轉(zhuǎn)入/轉(zhuǎn)出單元40。
在這種情況下，第三機械手73位于編號機50、緩沖器60、曝光單元3和轉(zhuǎn)入/轉(zhuǎn)出單元40之間，用于選擇性地將基板運送到各組件50、60、3和40。
在進行曝光處理之前，通過第三機械手73將基板運送到編號機50，以對各基板形成識別碼ID。
緩沖器60由用于臨時存儲要運送到下一工序的盒形成。也就是說，通過第三機械手73將具有識別碼ID的基板運送到緩沖器60，從而在運送到曝光單元3之前臨時存儲該基板。
同時，未說明的標號4是真空干燥VCD，用于在低真空狀態(tài)下對從涂覆機2卸載的基板的涂覆層進行干燥。在這種情況下，將VCD4和SHP20放置為平行于中轉(zhuǎn)輸送機11。
下面，將說明根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的通過曝光結(jié)構(gòu)來對基板進行曝光處理的方法。
首先，在涂覆機2利用光刻膠涂覆基板之后，通過第一機械手71將基板運送到VCD4。當(dāng)在VCD4中完成了基板的固化處理之后，通過第一機械手71將基板運送到中轉(zhuǎn)輸送機11(S1)。
第二機械手72從中轉(zhuǎn)輸送機11接收基板，然后將基板運送到SHP20(S2)。該SHP20從基板去除溶劑。
在從基板去除了溶劑之后，將基板從SHP20卸載(S3)，然后通過第二機械手72將基板運送到降溫單元30。在通過降溫單元30降低了基板的溫度之后，將基板從降溫單元30卸載(S4)，然后通過第二機械手72將基板運送到轉(zhuǎn)入/轉(zhuǎn)出單元40(S5)。
此時，轉(zhuǎn)入/轉(zhuǎn)出單元40在所有方向上改變第二機械手72所運送的基板的位置。然后，第三機械手73接收其位置被轉(zhuǎn)入/轉(zhuǎn)出單元40改變了的基板(S6)，然后將該基板運送到編號機50。
編號機50形成各基板的ID。然后，將具有該ID的基板從編號機50卸載(S7)，然后通過第三機械手73將基板運送到曝光單元3(S9)。
如果曝光單元3處于工作模式，則第三機械手73將基板運送到緩沖器60，以將該基板臨時存儲在緩沖器60中。此時，基板被臨時存儲在緩沖器60中，因為曝光處理需要較長時間。
在完成了基板的曝光處理之后，通過第三機械手73將從曝光單元卸載的基板運送到轉(zhuǎn)入/轉(zhuǎn)出單元40(S10)，還運送到中轉(zhuǎn)輸送機12(S11)。
在根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的曝光結(jié)構(gòu)中，即使提供了降溫單元以在將基板裝載到曝光單元3之前調(diào)整基板的溫度，但是難以對于每個基板保持最適合的溫度。
通過附加操作室5針對整個曝光結(jié)構(gòu)進行基板溫度的調(diào)整，或者針對轉(zhuǎn)入/轉(zhuǎn)出單元40、第三機械手73和緩沖器60的部分進行基板溫度的調(diào)整。從而，無法對于每個基板進行精確的溫度調(diào)整。
如果在曝光處理前基板沒有精確的溫度，則基板的尺寸由于溫度差而改變。從而，可能無法校正曝光位置，由此可能導(dǎo)致次品。
此外，第三機械手73每個周期對基板進行8次運送。因此，使每個周期的周期時間增大。
為了減小每個周期的周期時間，已經(jīng)提出了用于提供附加機械手的另一種結(jié)構(gòu)。在這種情況下，需要提供用于該附加機械手的空間，從而具有占用面積增大、整個結(jié)構(gòu)的長度增加的問題。此外，需要增大用于曝光結(jié)構(gòu)的設(shè)備占地。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明旨在提供一種用于制造液晶顯示器的設(shè)備的曝光結(jié)構(gòu)，其基本上消除了由于現(xiàn)有技術(shù)的局限和缺點引起的一個或更多個問題。
本發(fā)明的目的是提供一種用于制造液晶顯示器的設(shè)備的曝光結(jié)構(gòu)，來調(diào)整曝光處理中的基板的適當(dāng)溫度、減少周期時間并使占用面積最小。
本發(fā)明的其它優(yōu)點、目的和特征將部分在以下說明書中提出，并且部分地基于對以下內(nèi)容的研究而對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員變得顯見，或者可以通過對本發(fā)明的實踐而習(xí)得。本發(fā)明的目的和其它優(yōu)點可以通過在所撰寫的說明書及其權(quán)利要求以及附圖中具體指出的結(jié)構(gòu)來實現(xiàn)和獲得。
為了實現(xiàn)這些目的和其它優(yōu)點并且根據(jù)本發(fā)明的目標，如文中具體實施和廣泛描述地，一種用于制造液晶顯示器的設(shè)備包括中轉(zhuǎn)輸送機，用于運送基板；第一機械手，其被布置在所述中轉(zhuǎn)輸送機的基板裝載側(cè)，用于接收涂覆有光刻膠的基板并將該基板運送到所述中轉(zhuǎn)輸送機；軟烤熱板(SHP)，其被布置在所述中轉(zhuǎn)輸送機的卸載側(cè)，用于從所述基板去除溶劑；冷卻板，用于降低去除了溶劑的基板的溫度；緩沖器，用于臨時存儲經(jīng)溫度降低的基板；第二機械手，其被布置在所述中轉(zhuǎn)輸送機、所述SHP、所述冷卻板與所述緩沖器的基板裝載側(cè)之間，用于裝載和/或卸載所述基板；溫度控制單元，用于調(diào)整從所述緩沖器卸載的所述基板的溫度；曝光單元；以及第三機械手，其被布置在所述緩沖器的基板卸載側(cè)、所述溫度控制單元與所述曝光單元之間，用于裝載和/或卸載所述基板。
應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明的以上總體說明和以下詳細說明都是示例性和說明性的，旨在提供對要求保護的本發(fā)明的進一步說明。


附圖被包含來提供對本發(fā)明的進一步理解，并且附圖被并入并構(gòu)成本申請的一部分，附圖示出了本發(fā)明的實施例并與說明書一起用于說明本發(fā)明的原理。在這些附圖中圖1是示出根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的曝光結(jié)構(gòu)的框圖；圖2是示出根據(jù)本發(fā)明第一實施例的曝光結(jié)構(gòu)的框圖；以及圖3是示出根據(jù)本發(fā)明第二實施例的曝光結(jié)構(gòu)的框圖。
具體實施例方式
下面詳細參照本發(fā)明的優(yōu)選實施例，其示例在附圖中示出。只要可能，將在全部附圖中使用相同的標號來指代相同或相似的部分。
下面，將參照附圖來說明根據(jù)本發(fā)明的制造液晶顯示器的設(shè)備。
圖2是示出根據(jù)本發(fā)明第一實施例的曝光結(jié)構(gòu)的框圖。
如圖2所示，根據(jù)本發(fā)明第一實施例的曝光結(jié)構(gòu)具有中轉(zhuǎn)輸送機100、第一機械手710、第二機械手720、第三機械手730、軟烤熱板(SHP)(溶劑去除單元)200、冷卻板300、緩沖器600、溫度控制單元800和曝光單元3。
中轉(zhuǎn)輸送機100運送涂覆有光刻膠的基板。此外，第一機械手710、第二機械手720和第三機械手730裝載和/或卸載基板。SHP200從涂覆有光刻膠的基板上去除溶劑。然后，冷卻板300接收去除了溶劑的基板，然后降低基板的溫度。隨后，在對基板進行曝光處理之前，緩沖器600臨時存儲經(jīng)溫度降低的基板。
在現(xiàn)有技術(shù)的情況下，緩沖器用同一側(cè)來裝載和卸載基板。然而，在本發(fā)明的情況下，緩沖器600具有分立布置的基板裝載側(cè)610和基板卸載側(cè)620。具體地，將緩沖器600的基板裝載側(cè)610布置為垂直于緩沖器600的基板卸載側(cè)620。
溫度控制單元800從緩沖器600接收基板，并針對曝光處理調(diào)整基板的溫度。在即將對基板進行曝光處理之前，溫度控制單元800控制基板的溫度。因此，能夠進行精確的曝光處理，并且能夠防止由于基板的變形引起的缺陷曝光。
在涂覆有光刻膠的基板上方提供具有預(yù)定圖案的光掩模之后，曝光單元3將紫外線施加于基板。
除了緩沖器600以外，根據(jù)本發(fā)明第一實施例的上述曝光結(jié)構(gòu)在組件和結(jié)構(gòu)方面類似于現(xiàn)有技術(shù)的曝光結(jié)構(gòu)。此外，根據(jù)本發(fā)明第一實施例的曝光結(jié)構(gòu)具有附加的溫度控制單元800，但沒有轉(zhuǎn)入/轉(zhuǎn)出單元。
具體地，根據(jù)本發(fā)明第一實施例的曝光設(shè)備的組件的排布不同于根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的曝光設(shè)備中的組件的排布。
下面，將詳細說明根據(jù)本發(fā)明第一實施例的曝光結(jié)構(gòu)的組件的排布。
首先，在中轉(zhuǎn)輸送機100的基板裝載側(cè)處設(shè)置第一機械手710。在中轉(zhuǎn)輸送機100的基板卸載側(cè)處設(shè)置SHP200。
從平面上觀察，將SHP200和中轉(zhuǎn)輸送機100布置成相平行的兩列。即，如圖2所示，從該平面觀察，將SHP200布置在中轉(zhuǎn)輸送機100的基板卸載側(cè)上。此外，沿前進方向?qū)⒄婵崭稍飭卧猇CD(固化單元)4布置在SHP200的前面。
在涂覆機2中在基板上形成了涂覆層之后，VCD4在低真空狀態(tài)下對從涂覆機2卸載的基板的涂覆層進行干燥和固化。
第二機械手720位于中轉(zhuǎn)輸送機100和SHP200之后。此外，從該平面觀察，將CP300布置在第二機械手720的上方。
將溫度控制單元800和CP300布置成相平行的兩列。
第三機械手730位于緩沖器600的基板卸載側(cè)620、溫度控制單元800與曝光單元3之間。
具體地，從該平面觀察，第一機械手710、中轉(zhuǎn)輸送機100、第二機械手720以及緩沖器600沿著同一直線依次布置。此外，溫度控制單元800、第三機械手730以及曝光單元3沿著同一垂直線依次布置。從平面上觀察，第三機械手730位于緩沖器600的上方。此時，緩沖器600的基板裝載側(cè)610與第二機械手720相對，緩沖器600的基板卸載側(cè)620與第三機械手730相對。
此外，從平面上觀察，編號機500位于第三機械手730的上方。即，編號機500、第三機械手730和緩沖器600沿著同一垂直線依次布置。
在根據(jù)本發(fā)明第一實施例的曝光結(jié)構(gòu)中，在適于在完成曝光處理之后將基板運送到下一工序的部分中設(shè)置有編號機500。
下面將說明在根據(jù)本發(fā)明第一實施例的曝光結(jié)構(gòu)中進行曝光處理的方法。
在第二涂覆機2中對基板涂覆光刻膠之后，將基板運送到第一機械手710。第一機械手710將涂覆有光刻膠的基板運送到VCD4。在完成了基板固化之后，通過第一機械手710將基板運送到中轉(zhuǎn)輸送機100(S21)。
然后，通過第二機械手720將從中轉(zhuǎn)輸送機100卸載的基板運送到SHP200(S22)。SHP200從基板去除溶劑。然后，將基板從SHP200卸載(S23)，并通過第二機械手720將基板運送到CP300。當(dāng)在CP300中降低了基板的溫度之后，將基板從CP300卸載(S24)，并且通過第二機械手720將基板運送到緩沖器600(S25)。
然后，將基板臨時存儲在緩沖器600中，并從緩沖器600卸載(S26)，然后通過第三機械手730運送到溫度控制單元800(S27)。此時，溫度控制單元800針對曝光處理適當(dāng)調(diào)整基板的溫度。從而，將基板的溫度調(diào)整為適于曝光處理。
當(dāng)在溫度控制單元800中調(diào)整了基板的溫度之后，通過第三機械手730將基板從溫度控制單元800卸載，然后通過第三機械手730將基板運送到曝光單元3(S28)。在完成了曝光處理之后，將基板裝載到編號機500。然后，在從編號機500卸載了基板(S29)之后，將基板運送到下一工序。
如果曝光單元3處于工作模式，則第三機械手730停止基板的卸載。如果曝光處理完成，則第三機械手730恢復(fù)從緩沖器600卸載基板。
同時，可以按照不同的方式來布置用于曝光結(jié)構(gòu)的組件。
即，可以提供以不同方式排布緩沖器700、CP300和溫度控制單元800的另一種曝光結(jié)構(gòu)。
圖3是示出根據(jù)本發(fā)明第二實施例的曝光結(jié)構(gòu)的框圖。
如圖3所示，在根據(jù)本發(fā)明第二實施例的曝光結(jié)構(gòu)中，從平面上觀察，沿著一條直線依次布置第一機械手710、中轉(zhuǎn)輸送機100、第二機械手720和CP300。此外，將溫度控制單元800和CP300設(shè)置為相平行的兩列。此外，沿著一條直線依次布置緩沖器600、第三機械手730和曝光單元3。從平面上觀察，將溫度控制單元800和第三機械手730布置在同一垂直線上。即，從平面上觀察，第三機械手730位于溫度控制單元800的上方。在這種情況下，將緩沖器600和第二機械手720布置在同一垂直線上。即，從平面上觀察，緩沖器600位于第二機械手720的上方。
在工序方面，在根據(jù)本發(fā)明第二實施例的曝光結(jié)構(gòu)中進行曝光處理的方法與在根據(jù)本發(fā)明第一實施例的曝光結(jié)構(gòu)中進行曝光處理的方法相同。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的曝光結(jié)構(gòu)具有以下優(yōu)點。
在根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的曝光結(jié)構(gòu)中，在將基板裝載到曝光單元之前調(diào)整基板的溫度。因此，能夠使基板的缺陷曝光最小。
具體地，第三機械手每個周期對基板進行6次運送。即，能夠在不增加附加機械手的情況下減小每個周期的周期時間。
此外，緩沖器具有位于不同方向上的基板裝載側(cè)和基板卸載側(cè)。從而，能夠使占用面積和整個結(jié)構(gòu)的長度最小。
本領(lǐng)域技術(shù)人員將理解，能夠在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下對本發(fā)明進行各種改進和變型。因此，本發(fā)明旨在覆蓋落入所附權(quán)利要求及其等同物范圍內(nèi)的對本發(fā)明的所有改進和變型。
本申請要求于2004年12月22日提交的韓國專利申請No.P2004-110197的權(quán)益，在此通過引用并入該文，如同在本文中進行了充分闡述一樣。
權(quán)利要求
1.一種制造液晶顯示器的設(shè)備，其包括中轉(zhuǎn)輸送機，用于運送基板；第一機械手，被布置在所述中轉(zhuǎn)輸送機的基板裝載側(cè)，用于接收涂覆有光刻膠的基板并將該基板運送到所述中轉(zhuǎn)輸送機；軟烤熱板，被布置在所述中轉(zhuǎn)輸送機的卸載側(cè)，用于從所述基板去除溶劑；冷卻板，用于降低去除了溶劑的基板的溫度；緩沖器，用于臨時存儲經(jīng)溫度降低的基板；第二機械手，被布置在所述中轉(zhuǎn)輸送機、所述軟烤熱板、所述冷卻板與所述緩沖器的基板裝載側(cè)之間，用于裝載和/或卸載所述基板；溫度控制單元，用于調(diào)整從所述緩沖器卸載的所述基板的溫度；曝光單元；以及第三機械手，被布置在所述緩沖器的基板卸載側(cè)、所述溫度控制單元與所述曝光單元之間，用于裝載和/或卸載所述基板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中從平面上觀察，所述軟烤熱板和所述中轉(zhuǎn)輸送機被布置成相平行的兩列。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中從平面上觀察，所述第一機械手、所述中轉(zhuǎn)輸送機、所述第二機械手以及所述緩沖器沿一條直線依次布置；從平面觀察，所述溫度控制單元、所述第三機械手以及所述曝光單元沿一條直線依次布置；并且所述第三機械手和所述緩沖器被布置在同一垂直線上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中所述冷卻板和所述第二機械手被布置在同一垂直線上。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中所述冷卻板和所述第二機械手被布置在同一垂直線上，并且從平面上觀察，所述溫度控制單元和所述冷卻板被布置成相平行的兩列。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備，還包括以與所述緩沖器相對的方式被布置在與所述第三機械手相同的垂直線上的編號機。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中從平面上觀察，所述第一機械手、所述中轉(zhuǎn)輸送機、所述第二機械手和所述冷卻板沿一條線依次布置；所述溫度控制單元和所述冷卻板被布置成相平行的兩列；從平面上觀察，所述緩沖器、所述第三機械手和所述曝光單元沿一條直線依次布置；所述溫度控制單元和所述第三機械手被布置在同一垂直線上。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的設(shè)備，其中所述緩沖器和所述第二機械手被布置在同一垂直線上。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述緩沖器具有分立布置的所述基板裝載側(cè)和所述基板卸載側(cè)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，其中所述緩沖器的基板裝載側(cè)被布置為垂直于所述緩沖器的基板卸載側(cè)。
全文摘要
用于制造液晶顯示器的設(shè)備。公開了一種用于制造液晶顯示器的設(shè)備的曝光結(jié)構(gòu)，以在調(diào)整曝光處理中將基板調(diào)整到適當(dāng)溫度、減少周期時間并使占用面積最小，其包括中轉(zhuǎn)輸送機，用于運送基板；第一機械手，被布置在所述中轉(zhuǎn)輸送機的基板裝載側(cè)，用于接收涂覆有光刻膠的基板并將該基板運送到所述中轉(zhuǎn)輸送機；軟烤熱板(SHP)，被布置在所述中轉(zhuǎn)輸送機的基板卸載側(cè)，用于從所述基板去除溶劑；冷卻板，用于降低去除了溶劑的基板的溫度；緩沖器，用于臨時存儲經(jīng)溫度降低的基板；第二機械手，被布置在所述中轉(zhuǎn)輸送機、所述SHP、所述冷卻板與所述緩沖器的基板裝載側(cè)之間，用于裝載和/或卸載所述基板；溫度控制單元，用于調(diào)整從所述緩沖器卸載的所述基板的溫度；曝光單元；以及第三機械手，被布置在所述緩沖器的基板卸載側(cè)、所述溫度控制單元與所述曝光單元之間，用于裝載和/或卸載所述基板。
文檔編號G02F1/133GK1794094SQ20051013218
公開日2006年6月28日 申請日期2005年12月22日 優(yōu)先權(quán)日2004年12月22日
發(fā)明者金龍勛, 郭相旻, 徐真愚 申請人:Lg.菲利浦Lcd株式會社