專利名稱:一種反射裝置及相關(guān)波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置、色輪和光源系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種反射裝置及相關(guān)波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置、色輪和光源系統(tǒng)，其中反射裝置包括陶瓷基板以及位于陶瓷基板的第一表面上的漫反射玻璃層，漫反射玻璃層包括遠(yuǎn)離陶瓷基板的第二表面，陶瓷基板是致密結(jié)構(gòu)陶瓷體；對(duì)于相同的入射光，第一表面形成的反射光的立體發(fā)散角小于第二表面形成的反射光的立體發(fā)散角；漫反射玻璃層的厚度介于0.04mm~0.15mm之間。本實(shí)用新型的反射裝置既解決了漫反射玻璃層較厚時(shí)產(chǎn)生開裂的問題，又不會(huì)改變其漫反射特性。
【專利說明】
-種反射裝置及相關(guān)波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置、色輪和光源系統(tǒng)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本實(shí)用新型設(shè)及照明及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其設(shè)及一種反射裝置及相關(guān)波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝 置、色輪和光源系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002] 在現(xiàn)有的激光顯示技術(shù)下，隨著激光功率的逐漸提高，反射裝置由于吸收激光而 產(chǎn)生的熱量越來越大，嚴(yán)重影響顯示裝置的使用壽命，因此市場(chǎng)上對(duì)反射裝置的反射率要 求越來越高。
[0003] 現(xiàn)有技術(shù)中，存在一種致密結(jié)構(gòu)的高反射陶瓷體，運(yùn)種高反射陶瓷體的反射率較 高，能夠達(dá)到使用要求。然而，由于激光是相干光，經(jīng)該種高反射陶瓷體反射后的光仍然保 持一定的相干性，使得在顯示圖像中容易產(chǎn)生散斑，從而嚴(yán)重影響用戶體驗(yàn)。
[0004] 為此，研發(fā)人員研究出另一種反射裝置結(jié)構(gòu)，如圖1所示，包括由白色顆粒(例如氧 化侶、氧化鐵和氧化錯(cuò)等較高白度的粒子)和玻璃(例如娃酸鹽玻璃、棚酸鹽玻璃等)玻璃體 構(gòu)成的漫反射玻璃層Sl和用于承載漫反射玻璃層Sl并用于散熱的氮化侶陶瓷襯底S2。運(yùn)種 反射裝置結(jié)構(gòu)由于玻璃是透明的，激光能夠進(jìn)入漫反射玻璃層內(nèi)部多次散射反射后出射， 其漫反射特性比致密結(jié)構(gòu)的高反射陶瓷僅發(fā)生在表面層的反射要好很多。在該反射結(jié)構(gòu) 中，氮化侶陶瓷襯底S2的反射率不高，其主要作用是作為漫反射玻璃層Sl的制備和使用過 程中的承載和散熱基板，因此反射率主要由漫反射玻璃層Sl提供。達(dá)到滿足應(yīng)用的反射率， 漫反射玻璃層的厚度需要足夠后。然而，由于漫反射玻璃層與陶瓷承載襯底的熱膨脹系數(shù) 不同，在燒結(jié)過程中過厚的漫反射玻璃層容易開裂，使得該反射結(jié)構(gòu)的良品率很低。因此， 一種新型的反射裝置亟待開發(fā)。 【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005] 本實(shí)用新型提供一種既解決了漫反射玻璃層開裂問題又不會(huì)改變其漫反射特性 的反射裝置，并在此基礎(chǔ)上提供相關(guān)波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置、色輪和光源系統(tǒng)。
[0006] 本實(shí)用新型通過如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)：
[0007] 根據(jù)本實(shí)用新型的第一方面，本實(shí)用新型提供一種反射裝置，包括陶瓷基板，還包 括位于上述陶瓷基板的第一表面上的漫反射玻璃層，上述漫反射玻璃層包括遠(yuǎn)離上述陶瓷 基板的第二表面，上述陶瓷基板是致密結(jié)構(gòu)陶瓷體；
[0008] 對(duì)于相同的入射光，上述第一表面形成的反射光的立體發(fā)散角小于上述第二表面 形成的反射光的立體發(fā)散角，其中，一光束的立體發(fā)散角為該光束的光照強(qiáng)度不小于該光 束中屯、光照強(qiáng)度的50 %的區(qū)域圍成的立體角；
[0009] 上述漫反射玻璃層的厚度介于0.04mm~0.15mm之間。
[0010] 作為本實(shí)用新型的優(yōu)選方案，上述漫反射玻璃層的厚度介于0.08mm~0.12mm之 間。
[0011] 作為本實(shí)用新型的優(yōu)選方案，上述漫反射玻璃層為白色顆粒和玻璃組成的漫反射 層。
[0012] 作為本實(shí)用新型的優(yōu)選方案，上述陶瓷基板的孔隙率小于等于15%。
[0013] 作為本實(shí)用新型的優(yōu)選方案，上述陶瓷基板選自氧化侶陶瓷基板、氧化錯(cuò)陶瓷基 板、氮化棚陶瓷基板、氧化錯(cuò)滲雜氧化侶的復(fù)合陶瓷基板中的一種。
[0014] 作為本實(shí)用新型的優(yōu)選方案，上述陶瓷基板是氧化錯(cuò)滲雜氧化侶的復(fù)合陶瓷基 板。
[0015] 作為本實(shí)用新型的優(yōu)選方案，上述陶瓷基板的厚度大于0.5mm。
[0016] 根據(jù)本實(shí)用新型的第二方面，本實(shí)用新型提供一種波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置，包括發(fā)光層和 反射層，其中，上述反射層包括如第一方面的反射裝置，上述發(fā)光層位于上述漫反射玻璃層 的第二表面上，上述發(fā)光層用于將入射于該發(fā)光層的光轉(zhuǎn)換為不同波長(zhǎng)的光。
[0017] 根據(jù)本實(shí)用新型的第=方面，本實(shí)用新型提供一種色輪，包括波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換區(qū)域和反 射區(qū)域，其中上述反射區(qū)域包括如第一方面的反射裝置，上述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換區(qū)域與上述反射區(qū) 域在色輪表面拼接形成圓環(huán)狀。
[0018] 根據(jù)本實(shí)用新型的第四方面，本實(shí)用新型提供一種光源系統(tǒng)，包括如第=方面的 色輪，還包括一激發(fā)光源和驅(qū)動(dòng)裝置，上述激發(fā)光源用于發(fā)射激發(fā)光照射到上述色輪上，上 述驅(qū)動(dòng)裝置用于驅(qū)動(dòng)上述色輪轉(zhuǎn)動(dòng)，W使上述色輪上的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換區(qū)域和反射區(qū)域周期性地 接收激發(fā)光的照射。
[0019] 本實(shí)用新型的反射裝置，將表面反射光的立體發(fā)散角較小的陶瓷基板與表面反射 光的立體發(fā)散角較大的漫反射玻璃層結(jié)合，由于該陶瓷基板的表面反射光立體發(fā)散角小， 其致密度高于漫反射玻璃層中非玻璃部分的致密度，使得該陶瓷基板具有較高的反射率， 用此致密結(jié)構(gòu)陶瓷體代替現(xiàn)有的氮化侶基板，從而即使減薄漫反射玻璃層的厚度也不會(huì)影 響整體的反射率。本實(shí)用新型利用陶瓷基板和漫反射玻璃層的復(fù)合發(fā)射結(jié)構(gòu)既解決了漫反 射玻璃層較厚時(shí)產(chǎn)生開裂的問題，又保證了反射裝置具有良好的漫反射特性。
【附圖說明】

[0020] 圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的反射裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021 ]圖2為本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例的反射裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022] 圖3為本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023] 圖4為本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例的色輪的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0024] 附圖標(biāo)記說明：
[0025] SI:漫反射玻璃層；
[0026] S2:陶瓷襯底；
[0027] S3:陶瓷基板；
[002引S4:發(fā)光層；
[00巧]S5:波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換區(qū)域；
[0030] S6:反射區(qū)域。
【具體實(shí)施方式】
[0031] 下面通過【具體實(shí)施方式】結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明。
[0032] 圖I示出了現(xiàn)有技術(shù)中的一種反射裝置的結(jié)構(gòu)，包括燒結(jié)在高反射基板上的漫反 射玻璃層Sl和用于燒結(jié)漫反射玻璃層Sl的陶瓷襯底S2。其中，漫反射玻璃層Sl-般由白色 顆粒(例如氧化侶、氧化鐵和氧化錯(cuò)等較高白度的粒子)和玻璃(例如娃酸鹽玻璃、棚酸鹽玻 璃等)構(gòu)成；陶瓷襯底S2-般是氮化侶陶瓷。漫反射玻璃層Sl的厚度在0.15mmW上，在燒結(jié) 過程中由于Sl太厚，會(huì)導(dǎo)致漫反射玻璃層開裂。
[0033] 針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中漫反射玻璃層過厚而容易開裂的問題，本實(shí)用新型提供了一種新 型的反射裝置。圖2示出了本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例的反射裝置的結(jié)構(gòu)，其包括陶瓷基板S3和 陶瓷基板S3上的漫反射玻璃層SI,其中陶瓷基板S3是致密結(jié)構(gòu)陶瓷體。漫反射玻璃層Sl位 于陶瓷基板S3的第一表面上，漫反射玻璃層Sl還包括遠(yuǎn)離陶瓷基板S3的第二表面，該第二 表面即為反射裝置的光入射面。對(duì)于相同的入射光，上述第一表面形成的反射光的立體發(fā) 散角小于上述第二表面形成的反射光的立體發(fā)散角，其中，光束的立體發(fā)散角為該光束的 光照強(qiáng)度不小于該光束中屯、光照強(qiáng)度的50%的區(qū)域圍成的立體角，第一表面的立體發(fā)散角 較小，意味著第一表面的漫反射性能較差，同時(shí)也意味著陶瓷基板的致密度高。
[0034] 本實(shí)用新型中，用作陶瓷基板的致密結(jié)構(gòu)陶瓷體的孔隙率一般優(yōu)選在15% W下， 運(yùn)樣的孔隙率能夠保證較高的反射率。同時(shí)，陶瓷基板的致密度高，也意味著其導(dǎo)熱性能相 比同材料的低致密度陶瓷更好，彌補(bǔ)了因替換掉高熱導(dǎo)率的氮化侶陶瓷而帶來的導(dǎo)熱性能 下降的問題。一般而言，在陶瓷基板的材料一定的情況下，陶瓷基板的反射率與其致密度成 正相關(guān)，而與孔隙率成負(fù)相關(guān)，而孔隙率與漫反射性能呈正相關(guān)，因此陶瓷基板的反射率與 漫反射性能呈反比。因此，孔隙率越低越有利于反射率的提高，本實(shí)用新型的優(yōu)選方案選用 孔隙率在15% W下的陶瓷基板，保證反射率足夠高，因此不需要增加漫反射玻璃層的厚度， 并且厚度介于0.04mm~0.15mm之間的漫反射玻璃層足W提供所需要的漫反射性能。本實(shí)用 新型中，孔隙率按照本領(lǐng)域中的通常定義，即指塊狀材料中孔隙體積與材料在自然狀態(tài)下 總體積的百分比。
[0035] 本實(shí)用新型采用致密結(jié)構(gòu)的高反射率陶瓷基板（反射率高于氮化侶陶瓷的反射 率)替代現(xiàn)有的氮化侶陶瓷，從而提高反射率。然后將漫反射玻璃層Sl的厚度減薄，解決漫 反射玻璃層開裂問題，由于陶瓷基板的反射率提高，即使減薄漫反射玻璃層，但整體反射率 不受影響，而且散射角度也滿足要求。
[0036] 本實(shí)用新型中，漫反射玻璃層Sl在致密結(jié)構(gòu)陶瓷體基板上，與現(xiàn)有技術(shù)相同，漫反 射玻璃層Sl也是由白色顆粒(例如氧化侶、氧化鐵和氧化錯(cuò)等較高白度的粒子)和玻璃(例 如娃酸鹽玻璃、棚酸鹽玻璃等)構(gòu)成，所不同的是本實(shí)用新型中漫反射玻璃層Sl的厚度小于 0.15mm，具體地介于0.04mm~0.15mm之間。當(dāng)漫反射玻璃層的厚度大于0.15mm時(shí)，由于漫反 射玻璃層的熱膨脹系數(shù)與陶瓷基板的熱膨脹系數(shù)差異較大，在熱應(yīng)力的作用下，漫反射玻 璃層容易在是不過程中發(fā)生開裂現(xiàn)象。
[0037] -般而言，本實(shí)用新型中的漫反射玻璃層Sl的厚度至少應(yīng)該是0.04mm，如果厚度 小于0.04mm，可能會(huì)影響其漫反射特性。更優(yōu)選地，漫反射玻璃層Sl的厚度介于0.08mm~ 0.12mm之間，例如0.09mm、0.10mm、0.11mm、0.082~0.112mm、0.093~0.108mm等。在本實(shí)用 新型中，漫反射玻璃層Sl為白色顆粒與玻璃粉的混合層，由于玻璃層是透明的，可W看作為 折射率大于1的空隙，光在白色顆粒與玻璃的界面發(fā)生散射/反射。因此，在白色顆粒與玻璃 的體積比相同的情況下，漫反射玻璃層Sl的厚度越大，光在漫反射玻璃層Sl中經(jīng)歷的散射/ 反射的次數(shù)越多，激光被消相干的程度越大。當(dāng)漫反射玻璃層SI的厚度太小的時(shí)候，有可能 有激光不經(jīng)過散射而直接穿透漫反射玻璃層SI,使得出射光仍具有一定的相干性。
[0038] 基于本實(shí)用新型的原理，任何反射率大體上高于氮化侶陶瓷(氮化侶的藍(lán)光反射 率差，其對(duì)白光的反射光偏紅)的反射率的陶瓷基板均可作為本實(shí)用新型的陶瓷基板S3。運(yùn) 樣的陶瓷基板，例如氧化侶陶瓷基板、氧化錯(cuò)陶瓷基板、氮化棚陶瓷基板、氧化錯(cuò)滲雜氧化 侶的復(fù)合陶瓷基板中的一種。更優(yōu)選，氧化侶陶瓷基板和氧化錯(cuò)滲雜氧化侶的復(fù)合陶瓷基 板中的一種。最優(yōu)選，氧化錯(cuò)滲雜氧化侶的復(fù)合陶瓷基板。在本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例中， W氧化錯(cuò)滲雜氧化侶的復(fù)合陶瓷作為陶瓷基板S3。
[0039] 一般而言，陶瓷基板的厚度沒有特別限制，但是為了提供足夠的機(jī)械強(qiáng)度，陶瓷基 板的厚度優(yōu)選大于0.5mm，例如0.6mm、0.8mm、1.0mm、2.0mm、5.0mm、0.7~3mm等。如果陶瓷基 板的厚度小于0.5mm，其機(jī)械強(qiáng)度較差，容易損壞。
[0040] W下通過實(shí)施例和對(duì)比例，比較本實(shí)用新型的反射裝置和現(xiàn)有技術(shù)中的反射裝置 的藍(lán)光反射性能和漫反射玻璃層燒結(jié)狀態(tài)。結(jié)果顯示，本實(shí)用新型的反射裝置既解決了漫 反射玻璃層較厚時(shí)產(chǎn)生開裂的問題，又不會(huì)改變其漫反射特性。
[0041] W下實(shí)施例和對(duì)比例中，漫反射玻璃層Sl是由氧化侶(粒徑0.1~1微米)作為白色 顆粒，娃酸鹽玻璃作為玻璃粘接粒子構(gòu)成的，其中實(shí)施例和對(duì)比例中的漫反射玻璃層Sl均 采用相同的材料，所不同的是漫反射玻璃層Sl的厚度不同。陶瓷襯底S2選用氮化侶陶瓷;陶 瓷基板S3選用氧化錯(cuò)滲雜氧化侶的復(fù)合陶瓷?，F(xiàn)有裝置是漫反射玻璃層Sl+氮化侶陶瓷組 么 n O
[0042] 表1示出了實(shí)施例和對(duì)比例的反射裝置在Sl厚度、藍(lán)光功率、功率比值（W現(xiàn)有裝 置作為計(jì)算基礎(chǔ)）W及漫反射玻璃層燒結(jié)狀態(tài)方面的數(shù)據(jù)。利用相同功率的藍(lán)光照射反射 裝置，然后收集反射光，列表中的藍(lán)光功率即為反射光的功率，列表中的比值為反射裝置的 反射光藍(lán)光功率相對(duì)于現(xiàn)有裝置的藍(lán)光功率的比值。
[0043] 表 1
[0044]
[0045]
[0046] 結(jié)果表明：現(xiàn)有裝置的SI厚度較大，雖然藍(lán)光功率較高，但是漫反射玻璃層燒結(jié)容 易開裂;對(duì)比例1-3的Sl厚度較小，雖然漫反射玻璃層燒結(jié)不會(huì)開裂，但是藍(lán)光功率偏低，不 能滿足性能需求;而實(shí)施例1-3的Sl厚度雖然較小，但是漫反射玻璃層燒結(jié)不會(huì)開裂，并且 藍(lán)光功率較高，能夠滿足性能需求。此外，由實(shí)施例1-3能夠看出，隨著Sl厚度增加，藍(lán)光功 率有明顯提高，可見在漫反射玻璃層燒結(jié)時(shí)不開裂的前提下，提高Sl厚度，有利于改善藍(lán)光 功率性能。
[0047] 本實(shí)用新型還提供了一種包括上述反射裝置的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置，如圖3所示，包括發(fā) 光層S4和反射層，其中反射層包括上述實(shí)施例的反射裝置，反射層由漫反射玻璃層Sl和陶 瓷基板S3組成。發(fā)光層包括波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換材料，用于將入射于該發(fā)光層的光轉(zhuǎn)換為不同波長(zhǎng)的 光。發(fā)光層可W是巧光粉和玻璃粉燒結(jié)而成的巧光玻璃，也可W是巧光陶瓷。在一些入射光 強(qiáng)度不高的應(yīng)用場(chǎng)景，發(fā)光層還可W是量子點(diǎn)發(fā)光層或者巧光粉和硅膠組成的有機(jī)巧光粉 層。
[004引本實(shí)用新型還提供了一種色輪，如圖4所示，包括波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換區(qū)域S5和反射區(qū)域S6， 該兩個(gè)區(qū)域在色輪表面拼接形成圓環(huán)形。其中，反射區(qū)域包括上述實(shí)施例中的反射裝置，即 為漫反射玻璃層與陶瓷基板組成的二層結(jié)構(gòu)，波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換區(qū)域包括發(fā)光層和反射層。其中，波 長(zhǎng)轉(zhuǎn)換區(qū)域的反射層既可W為上述實(shí)施例中的反射裝置(漫反射玻璃層與陶瓷基板組成的 二層結(jié)構(gòu)），也可W為其它的反射裝置。例如，本實(shí)施例色輪中，波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換區(qū)域的反射層可W 為單獨(dú)的陶瓷基板S3單層結(jié)構(gòu)，運(yùn)是由于波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換區(qū)域的發(fā)光層本身具有散射功能，無需 進(jìn)一步增加漫反射玻璃層Sl來增強(qiáng)散射效果，運(yùn)樣也可W使得波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換區(qū)域的發(fā)光層表面 與反射區(qū)域的漫反射玻璃層表面相平齊。
[0049] 本實(shí)用新型還提高了一種光源系統(tǒng)，包括上述色輪，還包括一激發(fā)光源和驅(qū)動(dòng)裝 置，激發(fā)光源發(fā)出激發(fā)光照射在色輪上，驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)色輪轉(zhuǎn)動(dòng)，使得色輪上的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換區(qū) 域和反射區(qū)域周期性地處于激發(fā)光的照射中，從而發(fā)出不同波長(zhǎng)的光。
[0050] W上內(nèi)容是結(jié)合具體的實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型所作的進(jìn)一步詳細(xì)說明，不能認(rèn)定 本實(shí)用新型的具體實(shí)施只局限于運(yùn)些說明。對(duì)于本實(shí)用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員 來說，在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下，還可W做出若干簡(jiǎn)單推演或替換，都應(yīng)當(dāng)視為屬 于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種反射裝置，包括陶瓷基板(S3)，其特征在于，還包括位于所述陶瓷基板(S3)的第 一表面上的漫反射玻璃層(S1)，所述漫反射玻璃層(S1)包括遠(yuǎn)離所述陶瓷基板(S3)的第二 表面，所述陶瓷基板(S3)是致密結(jié)構(gòu)陶瓷體； 對(duì)于相同的入射光，所述第一表面形成的反射光的立體發(fā)散角小于所述第二表面形成 的反射光的立體發(fā)散角，其中，一光束的立體發(fā)散角為該光束的光照強(qiáng)度不小于該光束中 心光照強(qiáng)度的50%的區(qū)域圍成的立體角； 所述漫反射玻璃層(S1)的厚度介于0.04mm~0.15mm之間。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射裝置，其特征在于，所述漫反射玻璃層（S1)的厚度介于 0.08mm~0.12mm之間。3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的反射裝置，其特征在于，所述漫反射玻璃層為白色顆粒和 玻璃組成的漫反射層。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射裝置，其特征在于，所述陶瓷基板(S3)的孔隙率小于等于 15%〇5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射裝置，其特征在于，所述陶瓷基板(S3)選自氧化鋁陶瓷基 板、氧化鋯陶瓷基板、氮化硼陶瓷基板、氧化鋯摻雜氧化鋁的復(fù)合陶瓷基板中的一種。6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的反射裝置，其特征在于，所述陶瓷基板(S3)是氧化鋯摻雜氧化 鋁的復(fù)合陶瓷基板。7. 根據(jù)權(quán)利要求4-6任一項(xiàng)所述的反射裝置，其特征在于，所述陶瓷基板(S3)的厚度大 于0·5mm〇8. -種波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置，包括發(fā)光層和反射層，其中，所述反射層包括如權(quán)利要求1~7中 任一項(xiàng)所述的反射裝置，所述發(fā)光層位于所述漫反射玻璃層(S1)的第二表面上，所述發(fā)光 層用于將入射于該發(fā)光層的光轉(zhuǎn)換為不同波長(zhǎng)的光。9. 一種色輪，包括波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換區(qū)域和反射區(qū)域，其中所述反射區(qū)域包括如權(quán)利要求1~7中 任一項(xiàng)所述的反射裝置，所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換區(qū)域與所述反射區(qū)域在色輪表面拼接形成圓環(huán)狀。10. -種光源系統(tǒng)，包括如權(quán)利要求9所述的色輪，還包括一激發(fā)光源和驅(qū)動(dòng)裝置，所述 激發(fā)光源用于發(fā)射激發(fā)光照射到所述色輪上，所述驅(qū)動(dòng)裝置用于驅(qū)動(dòng)所述色輪轉(zhuǎn)動(dòng)，以使 所述色輪上的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換區(qū)域和反射區(qū)域周期性地接收激發(fā)光的照射。
【文檔編號(hào)】F21V9/10GK205720746SQ201620350104
【公開日】2016年11月23日
【申請(qǐng)日】2016年4月22日
【發(fā)明人】田梓峰, 徐虎, 許顏正
【申請(qǐng)人】深圳市繹立銳光科技開發(fā)有限公司