專利名稱：反射鏡面上的傾斜凸塊結(jié)構(gòu)及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于一種反射鏡面上的傾斜凸塊結(jié)構(gòu)及其制造方法，特別是關(guān)于一種利用光學(xué)繞射法形成反射式液晶顯示屏的反射鏡面上的傾斜凸塊結(jié)構(gòu)及其制造方法。
背景技術(shù)：
對(duì)反射式液晶顯示屏(reflective Liquid Crystal Display)而言，除了必須注意液晶顯示屏(LCD)反射的亮度，還必須注意視角是否寬廣。因此，如何設(shè)計(jì)出使液晶顯示屏兼具反射亮度與廣視角的反射鏡面(reflector)，是目前重要的研究方向。
參照?qǐng)D1，該圖是表示傳統(tǒng)的反射鏡面的光線反射率與測(cè)量角度的關(guān)系圖。其中，反射鏡面是水平放置且表面平滑。假設(shè)入射光以20度入射角射到液晶顯示屏的反射鏡面時(shí)，會(huì)以-20度反射角射出液晶顯示屏，因此，在角度為-20度時(shí)會(huì)測(cè)量到最大反射率R1，且反射率的分布曲線十分狹窄，大都集中在-20度附近。
然而，理想的液晶顯示屏應(yīng)在角度約0度時(shí)呈現(xiàn)最大反射率，并且在其他角度亦能呈現(xiàn)部分反射率。因此為使圖1中的反射率曲線向左移動(dòng)，使約為0度時(shí)出現(xiàn)最大反射率，且曲線分布更為寬廣，以達(dá)到兼具反射亮度與廣視角的效果，另一種傳統(tǒng)做法是將反射鏡面傾斜(slant)，改變光的行進(jìn)路徑，例如反射鏡面相對(duì)于水平面傾斜約10度，使原本以20度入射角入射光能以約0度的反射角射出。參照?qǐng)D2，其表示另一傳統(tǒng)的反射鏡面其光線反射率與測(cè)量角度的關(guān)系圖。其中，反射鏡面是傾斜放置且表面平滑。角度為0度時(shí)會(huì)測(cè)量到最大反射率R1。但是，圖2的反射率分布曲線仍然十分狹窄，大都集中在0度附近，無法使液晶屏達(dá)到廣視角的效果。
為了解決反射率過于集中于某一角度的問題，另一種傳統(tǒng)做法是在傾斜的反射鏡面上還形成凸塊。參照?qǐng)D3，該圖是表示又一傳統(tǒng)的反射鏡面其光線反射率與測(cè)量角度的關(guān)系圖。其中，反射鏡面是傾斜放置且表面形成凸塊。由于反射鏡面傾斜，使0度附近的角度可量測(cè)到高反射率，而凸塊表面上每一點(diǎn)的法線角度均不同，還使光線能以在更廣的角度內(nèi)反射。在圖3中的最大反射率R2與圖2相較，由于圖2中大部分的光線均集中在0度，因此最大反射率R1會(huì)大于最大反射率R2，但是，圖3中的反射率分布曲線卻變得更寬廣。因此，這種具凸塊結(jié)構(gòu)的反射鏡面可使液晶顯示屏達(dá)到兼具有反射亮度與廣視角的效果。至于上述的工藝，則可利用一具有單一開口的光掩模，進(jìn)行多次曝光(multi-step exposure)過程而達(dá)成。例如，以曝光強(qiáng)度L1、曝光時(shí)間t1對(duì)襯底上的光致抗蝕劑進(jìn)行曝光，形成曝光區(qū)域A；接著移動(dòng)光掩模，再以曝光強(qiáng)度L2和曝光時(shí)間t2對(duì)光致抗蝕劑進(jìn)行曝光，形成曝光區(qū)域B；然后再移動(dòng)光掩模，進(jìn)行曝光，如此重復(fù)下去。其中，利用曝光時(shí)間相等但曝光強(qiáng)度L1＞L2＞..，或是利用曝光強(qiáng)度相等但曝光時(shí)間t1＞t2＞..，而使形成的曝光區(qū)域A＞B＞..。接著，進(jìn)行顯影(develop)使光致抗蝕劑呈自高至低的階梯狀。然后，加熱使階梯狀光致抗蝕劑再流動(dòng)(reflow)，而形成具有圓滑表面的光致抗蝕劑。
然而，上述工藝是需要不斷移動(dòng)光掩模以對(duì)不同區(qū)域的光致抗蝕劑分別進(jìn)行曝光，還需調(diào)整光掩模的位置和曝光強(qiáng)度或時(shí)間，具有耗時(shí)和增加制造成本的缺點(diǎn)。另外，為形成單個(gè)具有一傾斜角的凸塊需要多次移動(dòng)此單一開口的光掩模并曝光，再經(jīng)顯影和加熱后才能完成，若要在反射鏡面上增加凸塊的數(shù)目，亦即增加反射鏡面上的凹凸程度使光線散射更為良好，則工藝會(huì)更為繁雜耗時(shí)，非常不適于批生產(chǎn)。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的就是在提供一種反射鏡面上的傾斜凸塊結(jié)構(gòu)及其制造方法，利用光學(xué)繞射法完成傾斜凸塊結(jié)構(gòu)，不但工藝簡(jiǎn)單，且光線散射效果更為良好，可使反射式液晶屏達(dá)到兼具反射亮度與廣視角的目的。
根據(jù)本發(fā)明的目的，提出一種反射鏡面上的傾斜凸塊結(jié)構(gòu)的制造方法，至少包括以下步驟提供一襯底；在襯底上形成一感光性材料層；分區(qū)規(guī)劃感光性材料層以形成多個(gè)具有不同底面積的凸塊，且這些凸塊的底部是相互連接；以及平滑(smoothing)這些凸塊，以形成具有一傾斜角的多組凸塊(bump)結(jié)構(gòu)。
其中，分區(qū)規(guī)劃感光性材料層的步驟還包括曝光(expose)及顯影(develop)，并提供一光掩模(photomask)以對(duì)感光性材料層進(jìn)行曝光。其中，光掩模上包括m組圖案(m為≥1的正整數(shù))，每一組圖案是由具不同寬度的多個(gè)長(zhǎng)條狀遮光區(qū)所組成，且在相鄰的該兩兩長(zhǎng)條狀遮光區(qū)之間的一可透光間隙內(nèi)更具有一狹長(zhǎng)狀遮光區(qū)。使曝光顯影后形成的多個(gè)梯形體是依底面積大至小排列，且底部相連。而平滑步驟則通過烘烤方式(baking)使這些梯形體再流動(dòng)(reflow)而完成。每一組凸塊結(jié)構(gòu)是由多個(gè)自高到低、自大到小的凸塊連接而成，且多組凸塊結(jié)構(gòu)是規(guī)則的、或無規(guī)地形成于襯底上。


圖1是表示傳統(tǒng)一反射鏡面其光線反射率與測(cè)量角度的關(guān)系圖；圖2是表示另一傳統(tǒng)的反射鏡面其光線反射率與測(cè)量角度的關(guān)系圖；圖3是表示又一傳統(tǒng)的反射鏡面其光線反射率與測(cè)量角度的關(guān)系圖；圖4是表示依照本發(fā)明實(shí)施例的光掩模的部分俯視圖；圖5A～5C表示依照本發(fā)明實(shí)施例一的反射鏡面上傾斜凸塊結(jié)構(gòu)的制造方法；圖6是表示依照本發(fā)明實(shí)施例一的反射鏡面上的傾斜凸塊結(jié)構(gòu)的立體剖面圖；圖7是表示依照本發(fā)明實(shí)施例二的光掩模的部分俯視圖；圖8是表示以圖7的光掩模形成的反射鏡面上傾斜凸塊結(jié)構(gòu)的立體剖面圖。
圖9A是表示依照本發(fā)明另一光掩模的部分俯視圖；圖9B是表示依照本發(fā)明又一光掩模的部分俯視圖；圖10是表示依照本發(fā)明另一光掩模的部分俯視圖。
圖式標(biāo)號(hào)說明
R1、R2最大反射率L1、L2曝光強(qiáng)度t1、t2曝光時(shí)間400、700光掩模(401)1、(401)2、(401)3、(401)4、...(401)n、(901)1、(901)2、(901)3長(zhǎng)條W1、W2、W3、W4、...Wn長(zhǎng)條寬度d1、d2、d3、...dn、(902)1、(902)2間隙s1、s2、s3、...sn狹長(zhǎng)條寬度405、S11、S12、S21、S22、S狹窄長(zhǎng)條W狹縫寬度θ傾斜角d1′、d2′、d3′、d4′、d5′每組圖案之間的距離502襯底504、505、506、507、508、505′、506′、507′、508′光致抗蝕劑具體實(shí)施方式
為使本發(fā)明的上述目的、特征、和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉較佳實(shí)施例，并參照附圖詳細(xì)說明如下本發(fā)明的技術(shù)特點(diǎn)在于，利用光學(xué)繞射法及一具有狹縫(slit)圖形的光掩模，使經(jīng)過單次曝光顯影后的感光性材料(photosensitivity material)，例如是光致抗蝕劑(photo resist)，形成多組圖案，每一組圖案包括多個(gè)底部相連接的凸塊(bump)，其中，上述凸塊是從大到小、從高到低排列。之后，再對(duì)凸塊進(jìn)行平滑化步驟(smoothing process)，例如以烘烤方式(baking)使凸塊熔融化(melting)而再流動(dòng)(reflow)，以形成一連續(xù)圓滑且具有一預(yù)設(shè)傾斜角的凸塊，且每一組的每一凸塊是自大到小、自高到低連接。
應(yīng)用本發(fā)明的反射鏡面上的傾斜凸塊結(jié)構(gòu)于反射式液晶顯示屏(reflective liquid crystal display)時(shí)，是將一金屬薄膜覆蓋于襯底上，并覆蓋傾斜凸塊結(jié)構(gòu)，以形成一金屬反射層以反射光線。由于此金屬反射層具有與傾斜凸塊結(jié)構(gòu)同樣凹凸且具傾斜角的表面，使進(jìn)入液晶顯示屏的光線抵達(dá)金屬反射層表面時(shí)得以由多個(gè)不同的角度反射，而使液晶屏達(dá)到兼具反射亮度與廣視角的目的。
以下即針對(duì)本發(fā)明反射鏡面上的傾斜凸塊結(jié)構(gòu)及其制造方法做舉例說明。然而并不因此限制本發(fā)明。實(shí)施例一在此實(shí)施例中，是利用一具有狹縫的光掩模以形成本發(fā)明的反射鏡面上的傾斜凸塊結(jié)構(gòu)。其中，光掩模上包括m組圖形，每一組圖形是均由不同寬度的n條長(zhǎng)條，自寬到窄隔一間隙排列而成，并且還在每一間隙之間增加至少一狹窄長(zhǎng)條，使光掩模上形成多狹縫(multi-slits)。其中，m為≥1的正整數(shù)，n為≥2的正整數(shù)。
參照?qǐng)D4，該圖表示依照本發(fā)明實(shí)施例一的光掩模的部分俯視圖。光掩模400上包括m組圖形，每一組圖形均由n條長(zhǎng)條(401)1、(401)2、(401)3、...(401)n組成，且其寬度分別為W1、W2、W3、...、Wn。長(zhǎng)條之間的間隙依序?yàn)閐1、d2、d3、...、dn，且間隙內(nèi)以一狹窄長(zhǎng)條為例，狹窄長(zhǎng)條的寬度分別為s1、s2、s3、...、sn，每一組圖形后接著排列另一組圖形，如此重復(fù)下去直至完成m組排列。
接著，利用圖4的光掩模400，進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)移。在以下工藝中，為方便說明，是假設(shè)n＝4，且d1＝d2＝d3＝...＝dn＝d，s1＝s2＝s3＝...＝sn＝s。
參照?qǐng)D5A～5C，其表示依照本發(fā)明實(shí)施例一反射鏡面上的傾斜凸塊結(jié)構(gòu)的制造方法。如圖5A所示，襯底502上涂布有高度h的感光性材料，例如是光致抗蝕劑504，并以紫外線光(UV)進(jìn)行曝光(exposure)、顯影(develop)。假設(shè)光致抗蝕劑504為遇光后會(huì)溶于顯影液的正性光致抗蝕劑(positive photoresist)，而光掩模400上的斜線部分為不透光區(qū)(opaqueregion)。其中，光掩模400上除了分別具有寬度W1、W2、W3、及W4的長(zhǎng)條(401)1、(401)2、(401)3、(401)4外，長(zhǎng)條之間的間隙中更各有一狹窄長(zhǎng)條405。間隙的寬度d例如約4μm，狹長(zhǎng)條405的寬度s例如約1μm，因此自狹窄長(zhǎng)條405到相鄰長(zhǎng)條的距離約為(4-1)/2＝1.5μm。由于光掩模400上不透光區(qū)的長(zhǎng)條(401)1、(401)2、(401)3、(401)4下方的光致抗蝕劑504沒有經(jīng)過紫外線光的照射，因此顯影后不會(huì)溶于顯影液。而光掩模400上的間隙由于可透光，使下方相對(duì)應(yīng)的光致抗蝕劑504溶于顯影液。
值得注意的是，狹窄長(zhǎng)條405(圖5A)的存在使原本就小的間隙更被區(qū)隔成兩個(gè)更小的狹縫(slit)。當(dāng)紫外線光向下照射而通過間隙時(shí)，會(huì)產(chǎn)生雙狹縫繞射(diffraction)，使通過光掩模400的光量減少，進(jìn)而使下方對(duì)應(yīng)光掩模上間隙的光致抗蝕劑在曝光時(shí)，同時(shí)造成曝光不足(under exposure)的情形。因此，圖5A的光致抗蝕劑504經(jīng)過顯影后，會(huì)形成如圖5B所示的梯形體光致抗蝕劑505、506、507、及508，且梯形體光致抗蝕劑的底部是相互連接。
另外，底面積越大的光致抗蝕劑，在曝光顯影后光致抗蝕劑的高度越高，反之則越低。例如，寬度14μm光致抗蝕劑曝光顯影后的高度是大于寬度7μm光致抗蝕劑的高度。因此，在本發(fā)明中，由于W1＞W(wǎng)2＞W(wǎng)3＞W(wǎng)4，因此，顯影后圖5B所示的梯形體光致抗蝕劑的底面積比為505＞506＞507＞508，而其高度比為h1＞h2＞h3＞h4。
接著，熔融(melting)梯形體光致抗蝕劑505、506、507、及508，以進(jìn)行平滑化(smooth)步驟。由于光致抗蝕劑主要是由樹脂(resin)和具光活性(photoactivity)的感光劑溶于溶劑中所組成，因此顯影后的光致抗蝕劑經(jīng)過加熱程序，例如是烘烤(baking)，會(huì)進(jìn)一步將光致抗蝕劑內(nèi)殘留的溶劑含量，因蒸發(fā)而降到最低。光致抗蝕劑內(nèi)的溶劑含量降低，可加強(qiáng)光致抗蝕劑對(duì)襯底表面的附著性。當(dāng)加熱溫度升高至玻璃轉(zhuǎn)變溫度(glass transition temperature)時(shí)，光致抗蝕劑則軟化成為類似玻璃在高溫下的熔融化狀態(tài)，而表面可再流動(dòng)(reflow)而平滑化。又由于圖5B中的梯形體光致抗蝕劑505、506、507、及508底部相連，因此，進(jìn)行平滑步驟時(shí)，多個(gè)梯形體光致抗蝕劑可形成多個(gè)連續(xù)的凸塊(contiguous bumps)，如圖5C所示。由于圖5B中的梯形體光致抗蝕劑505、506、507、及508的高度是由高至低排列，因此平滑步驟中再流動(dòng)的光致抗蝕劑505′、506′、507′、及508′會(huì)形成一傾斜角θ。其中，使多個(gè)梯形體光致抗蝕劑熔融化的加熱溫度范圍較佳的約在200～230℃之間，加熱時(shí)間較佳的約為1小時(shí)，但并不因而限定本發(fā)明，實(shí)際應(yīng)用時(shí)，加熱溫度和時(shí)間是視選用的光致抗蝕劑材料特性而定。
參照?qǐng)D6，其表示依照本發(fā)明實(shí)施例一反射鏡面上的傾斜凸塊結(jié)構(gòu)的立體剖面圖。假設(shè)光掩模400上的圖案包括2組圖形(m＝2)，則依照?qǐng)D5A～5C工藝所形成的光致抗蝕劑，可產(chǎn)生2組具一傾斜角(inclined angle)θ的凸塊結(jié)構(gòu)，且每一組由4個(gè)(n＝4)凸塊(bump)自高到低、自大到小連接而成。
當(dāng)應(yīng)用本發(fā)明于一液晶顯示屏(LCD)的反射鏡面時(shí)，則在圖5C的過程后，在襯底502上鍍上一層金屬薄膜，并覆蓋光致抗蝕劑505′、506′、507′、508′表面(圖5C、圖6)，使金屬薄膜的表面如同凹凸起伏的光致抗蝕劑表面一般。此反射鏡面的傾斜凸塊結(jié)構(gòu)可將光線自多個(gè)角度反射，而使LCD達(dá)到廣視角的效果。
由上述可知，傾斜凸塊結(jié)構(gòu)代表由多個(gè)凸塊(m×n)所形成的多組(m)凸塊結(jié)構(gòu)，而每一組凸塊結(jié)構(gòu)是由n個(gè)凸塊所形成，且n個(gè)凸塊由大到小、由高到低連接而形成具一傾斜角的凸塊結(jié)構(gòu)。
當(dāng)然，在上述實(shí)施例中，雖以每一組凸塊結(jié)構(gòu)均由n個(gè)凸塊所組成做說明，然本發(fā)明并不因此而受到限制。每一組與每一組之間也可各自包含不同數(shù)目的凸塊，例如第一組有5個(gè)凸塊，第二組有6個(gè)凸塊，第三組有4個(gè)凸塊，只要改變光掩模上的圖案，使曝光、顯影、融化后的光致抗蝕劑可產(chǎn)生具一傾斜角凸塊結(jié)構(gòu)，即為本發(fā)明的技術(shù)保護(hù)范圍。實(shí)施例二在實(shí)施例二中，是提供另一具有狹縫的光掩模圖形，以進(jìn)行本發(fā)明制造而得到傾斜凸塊結(jié)構(gòu)。制造后，實(shí)施例二的光致抗蝕劑其凸塊聚集度比實(shí)施例一更多，即，反射鏡面上的凹凸程度提高，光線散射效果更為良好。
實(shí)施例二的光掩模上包括有m組圖形(m為≥1的正整數(shù))，每一組圖形由多條長(zhǎng)條，自寬到窄排列而成，長(zhǎng)條之間的間隙內(nèi)亦以一狹窄長(zhǎng)條為例。m組圖形可以隨機(jī)(random)排列于光掩模上，也可以如同矩陣般整齊排列，例如長(zhǎng)邊m′組寬邊n′組(m＝m′×n′)。在本實(shí)施例中，為方便敘述，即以m組圖形無規(guī)排列，且每一組圖形均包括n條長(zhǎng)條(n為≥2的正整數(shù))做說明。其中，m＝4，n＝3。
參照?qǐng)D7，其表示依照本發(fā)明實(shí)施例二的光掩模的部分俯視圖。其中，共有4組圖形(即m＝4)隨機(jī)排列于光掩模700上，每一組圖形均由3條長(zhǎng)條(即n＝3)自寬到窄排列而組成，且長(zhǎng)條之間更有一狹窄長(zhǎng)條。
接著，進(jìn)行光掩模700的圖案轉(zhuǎn)移。其制造如圖5A～5C所示，將圖5A的光掩模400置換成光掩模700，然后進(jìn)行如實(shí)施例一所述的曝光(exposure)、顯影(develop)、及平滑化(smooth)三步驟。其中，光致抗蝕劑為正性光致抗蝕劑，而光掩模700上的斜線部分為不透光區(qū)。在此實(shí)施例中，還需控制每一組與每一組之間的距離，如圖7中所示的d1′、d2′、d3′、d4′、d5′，使熔融化后的各組光致抗蝕劑也能相互連接，使傾斜凸塊結(jié)構(gòu)連續(xù)的形成于襯底上。
參照?qǐng)D8，該圖是表示以圖7的光掩模形成的反射鏡面上的凸塊結(jié)構(gòu)的立體剖面圖。利用光掩模700經(jīng)制造后所形成的光致抗蝕劑(圖8)，可產(chǎn)生較圖6多的凸塊，使光致抗蝕劑表面更為凹凸。當(dāng)然，光掩模上的m組圖形圖案若是如同矩陣般整齊排列，如長(zhǎng)邊m′組寬邊n′組的圖形(m＝m′×n′)，也可形成本發(fā)明的凸塊結(jié)構(gòu)。
在上述實(shí)施例中，雖然是以圖4和圖7的光掩模圖案做說明，但是并不用以限制本發(fā)明的范圍。例如，可以是m組無規(guī)的圖案散布于光掩模上，每一組由多個(gè)自寬至窄排列的不透光區(qū)所組成，也可以是m組圖案如矩陣般的排列，至于每一組的不透光區(qū)數(shù)目可相等于別組的不透光區(qū)數(shù)目，或不相等，均可使光掩模圖案轉(zhuǎn)移后的光致抗蝕劑層產(chǎn)生反射鏡面上的傾斜凸塊結(jié)構(gòu)。此外，光掩模圖案的狹縫亦不僅限于圖4所示的雙狹縫，另可以如圖9A所示，在長(zhǎng)條(901)1與長(zhǎng)條(901)2的間隙(902)1中提供二狹窄長(zhǎng)條S11、S12；而長(zhǎng)條(901)1與狹窄長(zhǎng)條S11、狹窄長(zhǎng)條S11與狹窄長(zhǎng)條S12、以及狹窄長(zhǎng)條S12與長(zhǎng)條(901)2，除了可設(shè)計(jì)為圖9A的平行線排列外，更可繪制成如圖9B所示，狹縫寬度W維持一定的鋸齒狀設(shè)計(jì)等?；蚴侨鐖D10所示，在長(zhǎng)條(101)1與長(zhǎng)條(101)2的間隙(102)1、(102)2中提供不連續(xù)的狹窄長(zhǎng)條S。此些具有多狹縫(multi-slits)的光掩模設(shè)計(jì)也可制成本發(fā)明所需的凸塊。
另外，在進(jìn)行一般TFT液晶面板的制造時(shí)，除了凸塊結(jié)構(gòu)的部分，襯底上還有一些部分需要裸露出來例如用以與電路接觸(contact)之用的接觸窗，因此其上方的光致抗蝕劑需要完全去除，以免電阻值過大而造成接觸不良。而本發(fā)明的光掩模在不透光區(qū)之間更形成狹長(zhǎng)條，其優(yōu)點(diǎn)就在于使用一般強(qiáng)度的紫外光進(jìn)行曝光時(shí)，紫外光通過狹長(zhǎng)條兩側(cè)的狹縫而產(chǎn)生雙狹縫繞射，使到達(dá)光致抗蝕劑的光量減少，類似曝光不足(under exposure)的情形，因此經(jīng)過顯影后，光致抗蝕劑的底部可相互連接，使熔融化后的光致抗蝕劑可以很順利的形成連續(xù)且具一傾斜角的凸塊結(jié)構(gòu)。至于光掩模上相對(duì)于需要使襯底裸露的部分，則形成開口使紫外光可完全通過，以便曝光，再經(jīng)由顯影將其上的光致抗蝕劑完全去除。簡(jiǎn)單的說，本發(fā)明可在一般紫外線光量的曝光工藝下，同時(shí)完成反射鏡面上的傾斜凸塊結(jié)構(gòu)，及去除襯底接觸窗上的光致抗蝕劑。
因此，從另一角度觀察，本發(fā)明的反射鏡面上的傾斜凸塊結(jié)構(gòu)的制造方法，是利用一包括第一區(qū)域和第二區(qū)域的光掩模對(duì)襯底上的感光性材料層進(jìn)行曝光。其中，第一區(qū)域是為一具多狹縫結(jié)構(gòu)的透光區(qū)，使感光性材料層的第一部分以曝光不足(under-exposed)方式形成凹部(concave portion)，而第二區(qū)域則為不透光區(qū)，使感光性材料層的第二部分不曝光。接著，進(jìn)行顯影，使感光性材料層的該第二部分經(jīng)由第一部分而相互接合，而形成多數(shù)個(gè)底部相連的凸塊。然后，平滑化(smooth)感光性材料層，以形成一具有一預(yù)設(shè)傾斜角(predetermined inclined angle)的連續(xù)的凹凸結(jié)構(gòu)(contiguous deformitystructure)。
綜上所述，本發(fā)明利用一具有多狹縫光掩模和簡(jiǎn)單的工藝，經(jīng)過單次曝光、顯影、及平滑化步驟，即可在反射鏡面上形成多組傾斜凸塊結(jié)構(gòu)，使光線散射的效果更為良好，而使應(yīng)用的反射式液晶屏(reflective LCD)達(dá)到兼具反射亮度與廣視角的目的。此外，當(dāng)光掩模上組成圖案的m與n的數(shù)目越多，制成后每單位面積所形成的凸塊數(shù)目就越多，亦即凸塊的聚集度越高，光線散射的效果更為良好。
本發(fā)明上述實(shí)施例所揭露的反射鏡面上的傾斜凸塊結(jié)構(gòu)及其制造方法，具有以下優(yōu)點(diǎn)1.本發(fā)明的鏡面上的凸塊聚集度較傳統(tǒng)工藝更為增加，使光線散射效果更良好，進(jìn)而使應(yīng)用的反射式液晶屏兼具反射亮度與廣視角的優(yōu)點(diǎn)。
2.只需使用一次曝光的過程即可形成本發(fā)明的傾斜凸塊結(jié)構(gòu)，使工藝簡(jiǎn)化，而制造成本和時(shí)間因而降低，十分適合批量生產(chǎn)。
3.只需在一般曝光量下完成本發(fā)明的反射鏡面上的傾斜凸塊結(jié)構(gòu)，并且同時(shí)完全去除襯底接觸窗上的光致抗蝕劑，因此本發(fā)明工藝十分省時(shí)，且具有經(jīng)濟(jì)效益。
綜上所述，雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例公開如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作各種的改變和改型，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以權(quán)利要求書的范圍所界定的為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種反射鏡面上的傾斜凸塊結(jié)構(gòu)的制造方法，至少包括以下步驟提供一襯底；在該襯底上形成一感光性材料層；分區(qū)規(guī)劃該感光性材料層以形成多個(gè)具有不同底面積的凸塊，其中，這些凸塊的底部相互連接；以及平滑這些凸塊，以形成具有一傾斜角的凸塊結(jié)構(gòu)。
2.如權(quán)利要求1所述的制造方法，其中是利用烘烤步驟使這些梯形體熔融化而再流動(dòng)，以平滑這些梯形體。
3.如權(quán)利要求1所述的制造方法，其中這些凸塊具有不同的高度。
4.一種反射鏡面上的傾斜凸塊結(jié)構(gòu)的制造方法，至少包括以下步驟提供一襯底；在該襯底上覆蓋一感光性材料層；分區(qū)規(guī)劃該感光性材料層以形成m組圖案(m為≥1的正整數(shù))，且每一組圖案由具有不同底面積，且底部相連的多個(gè)凸塊所組成；以及平滑這些凸塊，以形成具一傾斜角的凸塊結(jié)構(gòu)。
5.如權(quán)利要求4所述的制造方法，其中，分區(qū)規(guī)劃該感光性材料層的步驟還包括曝光和顯影。
6.如權(quán)利要求5所述的制造方法，其中，提供一光掩模以對(duì)該感光性材料層進(jìn)行曝光步驟。
7.如權(quán)利要求6所述的制造方法，其中，該光掩模上包括m組圖案(m為≥1的正整數(shù))，每一組圖案是由具有不同寬度的多個(gè)長(zhǎng)條狀遮光區(qū)所組成，且在相鄰的所述每?jī)砷L(zhǎng)條狀遮光區(qū)之間的一可透光間隙內(nèi)還具有一狹長(zhǎng)狀遮光區(qū)。
8.如權(quán)利要求4所述的制造方法，其中這些凸塊具有不同的高度。
9.如權(quán)利要求8所述的制造方法，其中，底部相連的這些凸塊是依底面積大至小排列，使平滑后的這些凸塊形成m組具有一傾斜角的凸塊結(jié)構(gòu)，且每一組凸塊結(jié)構(gòu)是由多個(gè)自高到低、自大到小的凸塊連接而成。
10.如權(quán)利要求4所述的制造方法，其中，該m組圖案是規(guī)則地配置于該感光性材料層上。
11.如權(quán)利要求4所述的制造方法，其中，該m組圖案是隨機(jī)地配置于該感光性材料層上。
12.如權(quán)利要求4所述的制造方法，其中，每一組圖案是均由n個(gè)具有不同底面積且底部相連的凸塊所組成(n為≥2的正整數(shù))。
13.如權(quán)利要求12所述的制造方法，其中，平滑后的這些凸塊形成m組具一傾斜角的凸塊結(jié)構(gòu)，且每一組凸塊結(jié)構(gòu)由n個(gè)凸塊連接而成。
14.一種反射鏡面的制造方法，包括下列步驟提供一襯底；在該襯底上形成一感光性材料層；分區(qū)規(guī)劃該感光性材料層，以形成具不同底面積且底部相連的多個(gè)凸塊；平滑這些凸塊，以形成一傾斜凸塊結(jié)構(gòu)；以及形成一金屬反射層于該襯底上，該金屬反射層并覆蓋該傾斜凸塊結(jié)構(gòu)。
15.如權(quán)利要求14所述的制造方法，其中，分區(qū)規(guī)劃該感光材料層的步驟還包括曝光和顯影。
16.如權(quán)利要求14所述的制造方法，其中是利用烘烤步驟使這些梯形體熔融化，以平滑這些梯形體。
17.如權(quán)利要求14所述的制造方法，其中，該反射鏡面是使用于一反射式液晶顯示面板。
18.一種反射鏡面上的傾斜凸塊結(jié)構(gòu)的制造方法，至少包括以下步驟在一襯底上形成一感光性材料層；曝光該感光性材料層，同時(shí)使該感光性材料層的一第一部分曝光不足；顯影該感光性材料層，以使該感光性材料層的該第一部分形成一凹部；以及平滑該感光性材料層，以形成一具有一預(yù)設(shè)傾斜角的連續(xù)的凹凸結(jié)構(gòu)。
19.如權(quán)利要求18所述的制造方法，其中，提供一光掩模以對(duì)該感光性材料層進(jìn)行曝光。
20.如權(quán)利要求18所述的制造方法，其中，該光掩模包括對(duì)應(yīng)該感光性材料層的該第一部分的一第一區(qū)域，以及對(duì)應(yīng)該感光性材料層的一第二部分的第二區(qū)域，且該光掩模上的該第一區(qū)域包括一具多狹縫結(jié)構(gòu)的透光區(qū)，而該光掩模上的該第二區(qū)域則包括一不透光區(qū)。
21.一種反射鏡面上的傾斜凸塊結(jié)構(gòu)的制造方法，至少包括以下步驟在一襯底上形成一感光性材料層，其中，該感光性材料層包括一第一區(qū)域和一第二區(qū)域；曝光該感光性材料層，同時(shí)使該感光性材料層的一第一部分曝光不足；顯影該感光性材料層，使該感光性材料層的該第二部分經(jīng)由該第一部分而相互接合；以及熔融該感光性材料層，以形成一具有一預(yù)設(shè)傾斜角的連續(xù)凹凸結(jié)構(gòu)。
全文摘要
一種反射鏡面上的傾斜凸塊結(jié)構(gòu)的制造方法，至少包括以下步驟提供一襯底；在襯底上形成一感光性材料層；分區(qū)規(guī)劃感光性材料層以形成多個(gè)具有不同底面積的梯形體，且這些梯形體的底部是相互連接；以及平滑這些梯形體，以形成具有一傾斜角的多組凸塊結(jié)構(gòu)。本發(fā)明是以光學(xué)繞射法和一特殊光掩模，通過單次曝光的簡(jiǎn)單工藝，可使應(yīng)用的反射式液晶顯示屏達(dá)到兼具反射亮度與廣視角的目的。
文檔編號(hào)G02F1/1335GK1416016SQ0113757
公開日2003年5月7日 申請(qǐng)日期2001年10月30日 優(yōu)先權(quán)日2001年10月30日
發(fā)明者簡(jiǎn)錦誠(chéng), 朱正仁 申請(qǐng)人:奇美電子股份有限公司