一種分層雕刻系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及鏤空雕刻技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種分層雕刻系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]紅酒雕刻又稱之為瓶雕，是在原有的空白酒瓶上面雕刻出自己心中所想的圖案圖騰或者文字，雕刻痕跡明顯，表面有特制金屬油漆處理，使紅酒更加具有紀念性和保存價值。紅酒雕刻對古代藝術(shù)領(lǐng)域和文學領(lǐng)域都有很重要的探索價值?，F(xiàn)代人們主要運用于禮品和紀念品流通在市場上面。
[0003]目前常用的瓶雕技術(shù)，工藝復(fù)雜，效率低，而且容易使瓶體破裂，故而難以得到推廣，且價格昂貴，使得許多酒品得不到相匹配的包裝，從而明珠蒙塵。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]基于【背景技術(shù)】存在的技術(shù)問題，本發(fā)明提出了一種分層雕刻系統(tǒng)。
[0005]本發(fā)明提出的一種分層雕刻系統(tǒng)，包括:模型建立模塊、路徑分析模塊、控制模塊、驅(qū)動模塊和刀具模塊；
[0006]刀具模塊中包含不少于一個可運動地刀具，刀具用于對胚體進行雕刻；
[0007]驅(qū)動模塊與刀具模塊連接，用于驅(qū)動刀具運動；
[0008]模型建立模塊用于建立雕刻模型；
[0009]路徑分析模塊與模型建立模塊連接，其根據(jù)雕刻模型生成多條雕刻路徑，每一條雕刻路徑上各點相對于預(yù)設(shè)參考模型的進給深度相同；
[0010]控制模塊分別與路徑分析模塊和驅(qū)動模塊連接，其根據(jù)雕刻路徑生成控制指令以控制驅(qū)動模塊驅(qū)動刀具模塊工作。
[0011]本發(fā)明通過設(shè)置多條雕刻路徑，并保證每一條雕刻路徑上各點相對于預(yù)設(shè)參考模型的進給深度相同，可對胚體實現(xiàn)分層雕刻，從而，避免刀具在雕刻過程中因為執(zhí)行的進給深度不同，反應(yīng)不及時，造成的漏雕刻或者雕多了的問題，降低胚體報廢率。
[0012]優(yōu)選地，路徑分析模塊包括坐標分析單元、區(qū)間分析單元和路徑生成單元；
[0013]坐標分析單元用于對雕刻模型的表層進行點分解生成表層點集，并根據(jù)表層點集中的分解點建立坐標，并在所述坐標中預(yù)設(shè)由多個參考點組成的參考模型，且表層點集中的每一個分解點均對應(yīng)參考模型的一個參考點；
[0014]區(qū)間分析單元與坐標分析單元連接，其根據(jù)每一對分解點與參考點的對應(yīng)關(guān)系生成進給值，并根據(jù)進給值對分解點進行區(qū)間劃分，每一區(qū)間中的分解點對應(yīng)的進給值兩兩之間差值為零；
[0015]路徑生成單元與區(qū)間分析單元連接，其針對每一區(qū)間建立雕刻路徑。
[0016]通過設(shè)置坐標和參考點，可以更精確的評估各分解點所對應(yīng)的刀具進給深度，從而保證分層雕刻的精確性，提高雕刻速度與質(zhì)量。
[0017]優(yōu)選地，控制模塊獲得每一區(qū)間中進給值的平均值，根據(jù)平均值從大到小的順序依次選擇雕刻路徑控制驅(qū)動模塊工作。
[0018]如此，可對胚體實現(xiàn)由深到淺的雕刻順序，防止先完成進給深度少的分解點后，在雕刻進給深度較大的分解點時意外對雕刻好的分解點造成損傷卻無法彌補。
[0019]優(yōu)選地，參考模型為可覆蓋于胚體外側(cè)的參考面的集合，當坯體相對于刀具作直線運動，參考面為平行于運動方向的平面；當坯體相對于刀具轉(zhuǎn)動，參考面為以轉(zhuǎn)動軸為軸心的圓柱面。
[0020]優(yōu)選地，參考模型與胚體外表面相重合。
[0021]優(yōu)選地，還包括檢測模塊，其用于獲取雕刻品圖像，并根據(jù)圖像建立實際模型，將實際模型與雕刻模型對比，判斷雕刻品是否合格。
[0022]優(yōu)選地，檢測模塊根據(jù)實際模型生成實際表層點集，根據(jù)實際表層點集與表層點集計算實際誤差，并將實際誤差與預(yù)設(shè)的誤差允許值比較，根據(jù)比較結(jié)果判斷雕刻品是否合格。
[0023]檢測模塊的設(shè)置，可實時檢測雕刻品的品質(zhì)，判斷其是否合格，從而實時區(qū)分合格品與不合格品，提高工作效率。
[0024]本發(fā)明提供的分層雕刻系統(tǒng)實現(xiàn)了對胚體的分層雕刻和實時檢測，前者有利于提高雕刻效率和質(zhì)量，降低胚體報廢率和不合格品率，后者有利于省去獨立的產(chǎn)品檢測時間，提高整個生產(chǎn)線的生產(chǎn)效率。
【附圖說明】
[0025]圖1為本發(fā)明提出的一種分層雕刻系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0026]參照圖1，本發(fā)明提出的一種分層雕刻系統(tǒng)，包括:模型建立模塊、路徑分析模塊、控制模塊、驅(qū)動模塊和刀具模塊。
[0027]刀具模塊中包含不少于一個可運動地刀具，刀具用于對胚體進行雕刻。
[0028]驅(qū)動模塊與刀具模塊連接，用于驅(qū)動刀具運動。
[0029]模型建立模塊用于建立雕刻模型。
[0030]路徑分析模塊與模型建立模塊連接，其根據(jù)雕刻模型生成多條雕刻路徑，每一條雕刻路徑上各點相對于預(yù)設(shè)參考模型的進給深度相同。路徑分析模塊包括坐標分析單元、區(qū)間分析單元和路徑生成單元。
[0031]坐標分析單元用于對雕刻模型的表層進行點分解生成表層點集，并根據(jù)表層點集中的分解點建立坐標，即坐標分析單元根據(jù)雕刻模型建立坐標，并標明雕刻模型表層上每一點的坐標位置。坐標分析單元還在建立的坐標中預(yù)設(shè)由多個參考點組成的參考模型，且表層點集中的每一個分解點均對應(yīng)參考模型的一個參考點，即分解點和參考點為一一對應(yīng)的關(guān)系。
[0032]本實施方式中，參考模型為可覆蓋于胚體外側(cè)的參考面的集合，當坯體相對于刀具作直線運動，參考面為平行于運動方向的平面；當坯體相對于刀具轉(zhuǎn)動，參考面為以轉(zhuǎn)動軸為軸心的圓柱面；或者，參考模型與胚體外表面相重合。即每一條雕刻路徑上每一點在雕刻過程中驅(qū)動模塊驅(qū)動刀具相對于參考面的進給深度相同。
[0033]區(qū)間分析單元與坐標分析單元連接，其根據(jù)每一對分解點與參考點的對應(yīng)關(guān)系生成進給值，并根據(jù)進給值對分解點進行區(qū)間劃分，每一區(qū)間中的分解點對應(yīng)的進給值兩兩之間差值為零。進給值即為對應(yīng)的分解點與參考點之間的距離值，從而，可保證同一區(qū)間中的分解點與相對應(yīng)的參考點的進給值均相同。
[0034]路徑生成單元與區(qū)間分析單元連接，其針對每一區(qū)間建立雕刻路徑。由于區(qū)間內(nèi)的分解點與相對應(yīng)的參考點的進給值均相同，故而根據(jù)雕刻路徑可實現(xiàn)對胚體的分層雕刻。
[0035]控制模塊分別與路徑分析模塊和驅(qū)動模塊連接，其根據(jù)雕刻路徑生成控制指令以控制驅(qū)動模塊驅(qū)動刀具模塊工作，以對胚體進行分層雕刻。具體地，控制模塊獲得每一區(qū)間中進給值的平均值，根據(jù)平均值從大到小的順序依次選擇雕刻路徑并通過驅(qū)動模塊控制刀具模塊執(zhí)行雕刻路徑，從而以由深到淺的方式對胚體進行雕刻。
[0036]具體地，當?shù)窨搪窂缴系狞c連續(xù)時，控制刀具模塊連續(xù)雕刻分解點；當?shù)窨搪窂缴系狞c斷開時，控制刀具模塊回到下一個待雕刻的分解點的參考點位置，根據(jù)進給值進給進行雕刻。
[0037]本發(fā)明提出的一種分層雕刻系統(tǒng)還包括檢測模塊，其用于獲取雕刻品圖像，并根據(jù)圖像建立實際模型，將實際模型與雕刻模型對比，判斷雕刻品是否合格。具體地，檢測模塊根據(jù)實際模型生成實際表層點集，根據(jù)實際表層點集與表層點集計算實際誤差，并將實際誤差與預(yù)設(shè)的誤差允許值比較，根據(jù)比較結(jié)果判斷雕刻品是否合格。
[0038]以上所述，僅為本發(fā)明較佳的【具體實施方式】，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案及其發(fā)明構(gòu)思加以等同替換或改變，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種分層雕刻系統(tǒng)，其特征在于，包括:模型建立模塊、路徑分析模塊、控制模塊、驅(qū)動模塊和刀具模塊； 刀具模塊中包含不少于一個可運動地刀具，刀具用于對胚體進行雕刻； 驅(qū)動模塊與刀具模塊連接，用于驅(qū)動刀具運動； 模型建立模塊用于建立雕刻模型； 路徑分析模塊與模型建立模塊連接，其根據(jù)雕刻模型生成多條雕刻路徑，每一條雕刻路徑上各點相對于預(yù)設(shè)參考模型的進給深度相同； 控制模塊分別與路徑分析模塊和驅(qū)動模塊連接，其根據(jù)雕刻路徑生成控制指令以控制驅(qū)動模塊驅(qū)動刀具模塊工作。
2.如權(quán)利要求1所述的分層雕刻系統(tǒng)，其特征在于，路徑分析模塊包括坐標分析單元、區(qū)間分析單元和路徑生成單元； 坐標分析單元用于對雕刻模型的表層進行點分解生成表層點集，并根據(jù)表層點集中的分解點建立坐標，并在所述坐標中預(yù)設(shè)由多個參考點組成的參考模型，且表層點集中的每一個分解點均對應(yīng)參考模型的一個參考點； 區(qū)間分析單元與坐標分析單元連接，其根據(jù)每一對分解點與參考點的對應(yīng)關(guān)系生成進給值，并根據(jù)進給值對分解點進行區(qū)間劃分，每一區(qū)間中的分解點對應(yīng)的進給值兩兩之間差值為零； 路徑生成單元與區(qū)間分析單元連接，其針對每一區(qū)間建立雕刻路徑。
3.如權(quán)利要求2所述的分層雕刻系統(tǒng)，其特征在于，控制模塊獲得每一區(qū)間中進給值的平均值，根據(jù)平均值從大到小的順序依次選擇雕刻路徑控制驅(qū)動模塊工作。
4.如權(quán)利要求2所述的分層雕刻系統(tǒng)，其特征在于，參考模型為可覆蓋于胚體外側(cè)的參考面的集合，當坯體相對于刀具作直線運動，參考面為平行于運動方向的平面；當坯體相對于刀具轉(zhuǎn)動，參考面為以轉(zhuǎn)動軸為軸心的圓柱面。
5.如權(quán)利要求2所述的分層雕刻系統(tǒng)，其特征在于，參考模型與胚體外表面相重合。
6.如權(quán)利要求1所述的分層雕刻系統(tǒng)，其特征在于，還包括檢測模塊，其用于獲取雕刻品圖像，并根據(jù)圖像建立實際模型，將實際模型與雕刻模型對比，判斷雕刻品是否合格。
7.如權(quán)利要求6所述的分層雕刻系統(tǒng)，其特征在于，檢測模塊根據(jù)實際模型生成實際表層點集，根據(jù)實際表層點集與表層點集計算實際誤差，并將實際誤差與預(yù)設(shè)的誤差允許值比較，根據(jù)比較結(jié)果判斷雕刻品是否合格。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種分層雕刻系統(tǒng)，包括：模型建立模塊、路徑分析模塊、控制模塊、驅(qū)動模塊和刀具模塊；刀具模塊中包含不少于一個可運動地刀具，刀具用于對胚體進行雕刻；驅(qū)動模塊與刀具模塊連接，用于驅(qū)動刀具運動；模型建立模塊用于建立雕刻模型；路徑分析模塊與模型建立模塊連接，其根據(jù)雕刻模型生成多條雕刻路徑，每一條雕刻路徑上各點相對于預(yù)設(shè)參考模型的進給深度相同；控制模塊分別與路徑分析模塊和驅(qū)動模塊連接，其根據(jù)雕刻路徑生成控制指令以控制驅(qū)動模塊驅(qū)動刀具模塊工作。本發(fā)明可對胚體實現(xiàn)分層雕刻，從而，避免刀具在雕刻過程中因為執(zhí)行的進給深度不同，反應(yīng)不及時，造成的漏雕刻或者雕多了的問題，降低胚體報廢率。
【IPC分類】B44C1-22, G06F17-50
【公開號】CN104842699
【申請?zhí)枴緾N201510260552
【發(fā)明人】單威
【申請人】安徽一威貿(mào)易有限公司
【公開日】2015年8月19日
【申請日】2015年5月20日