專利名稱：一種寫字時以平面與手指接觸的筆的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種筆，具體涉及一種寫字時以平面與手指接觸的筆。
背景技術(shù)：
·[0002]現(xiàn)有的筆寫字時以曲面與手指接觸，因此筆與手指的接觸面小，如果寫字的時間太長，則手指被壓出深深的槽，影響血液循環(huán)，手指感覺疲勞甚至疼痛，降低了寫字的效率，也對身體不利。目前，市場上還沒有發(fā)現(xiàn)寫字時以平面與手指接觸的筆。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是克服現(xiàn)有的筆寫字時以曲面與手指接觸的缺點(diǎn)，為市場提供一種寫字時以平面與手指接觸的筆。本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是所述一種寫字時以平面與手指接觸的筆，包括筆頭，其特征是筆頭具有底面、前側(cè)面、后側(cè)面和頂面，所述底面、前側(cè)面和后側(cè)面是平面。下面對以上的技術(shù)方案提出附加的技術(shù)特征I、所述頂面是平面。2、所述前側(cè)面與所述后側(cè)面不平行，所述前側(cè)面和后側(cè)面與所述底面不垂直。3、所述底面、前側(cè)面、后側(cè)面和頂面平行于筆桿主體的軸線且在垂直于所述軸線的平面上的投影是等腰梯形，所述等腰梯形的四個角具有圓弧。有益效果寫字時筆以平面與手指接觸，接觸面大，手指感覺輕松，避免手指疼痛、疲勞，能夠提高寫字效率。

圖I為一種寫字時以平面與手指接觸的主視圖；圖2為圖I中筆頭截面的放大圖。圖中1、筆尖；2、筆頭；3、筆桿與筆筒的接觸部位；4、筆桿主體；21、前側(cè)面；22、頂面；23、后側(cè)面；24、底面。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合圖I和圖2，對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明一種寫字時以平面與手指接觸的筆，包括筆頭，其特征是筆頭2具有底面24、前側(cè)面21、后側(cè)面23和頂面22，所述底面24、前側(cè)面21和后側(cè)面23是平面。所述頂面22是平面。所述前側(cè)面21與所述后側(cè)面23不平行，所述前側(cè)面21和后側(cè)面23與所述底面24不垂直。所述底面24、前側(cè)面21、后側(cè)面23和頂面22平行于筆桿主體4的軸線且在垂直于所述軸線的平面上的投影是等腰梯形，所述等腰梯形的四個角具有圓弧。[0017]這種筆的其他部位采用現(xiàn)有技 術(shù)，在此不再贅述。
權(quán)利要求1.一種寫字時以平面與手指接觸的筆，包括筆頭，其特征是筆頭(2)具有底面(24)、前側(cè)面(21)、后側(cè)面(23)和頂面(22)，所述底面(24)、前側(cè)面(21)和后側(cè)面(23)是平面。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述一種寫字時以平面與手指接觸的筆，其特征是所述頂面(22)是平面。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述一種寫字時以平面與手指接觸的筆，其特征是所述前側(cè)面(21)與所述后側(cè)面(23)不平行，所述前側(cè)面(21)和后側(cè)面(23)與所述底面(24)不垂直。
4.根據(jù)權(quán)利要求I或2或3所述一種寫字時以平面與手指接觸的筆，其特征是所述底面(24)、前側(cè)面(21)、后側(cè)面(23)和頂面(22)平行于筆桿主體(4)的軸線且在垂直于所述軸線的平面上的投影是等腰梯形，所述等腰梯形的四個角具有圓弧。
專利摘要一種寫字時以平面與手指接觸的筆，包括筆頭，其特征是筆頭(2)具有底面(24)、前側(cè)面(21)、后側(cè)面(23)和頂面(22)，所述底面(24)、前側(cè)面(21)和后側(cè)面(23)是平面。寫字時筆以平面與手指接觸，接觸面大，手指感覺輕松，避免手指疼痛、疲勞，能夠提高寫字效率。
文檔編號B43K3/00GK202782292SQ201220353409
公開日2013年3月13日 申請日期2012年7月20日 優(yōu)先權(quán)日2012年7月20日
發(fā)明者袁雨薇 申請人:袁雨薇