專(zhuān)利名稱(chēng)：具有安全特征的標(biāo)簽和具有標(biāo)簽的容器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用作安全特征的標(biāo)簽，其具有基底層和一微結(jié)構(gòu)可以 引入到其中的可光學(xué)修改部分，可光學(xué)修改部分結(jié)合到基底層。本發(fā)明還 涉及一種具有容器、具有封閉物和具有至少一個(gè)這樣的標(biāo)簽的包。
背景技術(shù)：
在開(kāi)始提及的類(lèi)型的微結(jié)構(gòu)(microstructuring)是現(xiàn)有技術(shù)中已知的，包 括多個(gè)點(diǎn)和/或線(xiàn)，借助其存儲(chǔ)介質(zhì)更具體地標(biāo)簽的表面或者一層或多層的 至少一光學(xué)屬性被改變。在這種情形下，可能進(jìn)行反射、透射、吸收和散 射行為的改變、反射光相位的改變或者這些效果的一些或者全部的組合。 在此，空間分辨率可從小于10pm低至小于lpm的點(diǎn)或線(xiàn)尺度。該類(lèi)型的 微結(jié)構(gòu)用于存儲(chǔ)信息；更具體地，計(jì)算機(jī)產(chǎn)生的全息圖、縮微圖象或者縮 微文字可以通過(guò)其產(chǎn)生。
計(jì)算機(jī)產(chǎn)生全息圖包括一層或多層點(diǎn)陣和/或點(diǎn)分布，其當(dāng)用優(yōu)選的相 干光束照射時(shí)，導(dǎo)致全息圖中的編碼形式引入的信息的重建(reconstmction)。 點(diǎn)分布可以計(jì)算為振幅全息圖、相位全息圖或者作為開(kāi)諾全息圖(kinoform)、 菲涅爾(Fresnell)或者傅里葉全息圖。對(duì)于計(jì)算機(jī)產(chǎn)生全息圖的生產(chǎn)，其首先 被計(jì)算，然后通過(guò)能量的點(diǎn)方式引入，通過(guò)使用適當(dāng)?shù)膶?xiě)入裝置寫(xiě)入到存 儲(chǔ)介質(zhì)，例如參照上面的可光學(xué)修改部分中。如已經(jīng)提及的，生成的點(diǎn)陣 的分辨率可以位于低至lpm以下的范圍內(nèi)。相應(yīng)地，全息圖可以以高分辨 率寫(xiě)入窄的空間中。其包含的信息可以?xún)H通過(guò)用光束照射和衍射圖案的重 建而讀取。這些全息圖的尺寸可以在幾平方毫米和數(shù)平方厘米之間。
計(jì)算機(jī)產(chǎn)生的全息圖的一大優(yōu)點(diǎn)是每個(gè)全息圖可以單獨(dú)計(jì)算，而無(wú)需
大的成本且不復(fù)雜。因此，有可能產(chǎn)生連續(xù)的全息圖，其包括例如序列號(hào) 或者生產(chǎn)參數(shù)。因此，該類(lèi)型的全息圖可以被用作，特別地，安全特征或 者用于包、信用卡、進(jìn)入卡等的產(chǎn)品跟蹤的物流中。通過(guò)使用適當(dāng)?shù)淖x取 裝置，全息圖的安全特征可以被讀取，并且安全特征的真實(shí)性和個(gè)別性以簡(jiǎn)單的方法檢查。
上述計(jì)算機(jī)產(chǎn)生的全息圖可以直接與例如縮微文字和/或縮微圖象形式 的可見(jiàn)信息組合在一起。除此之外，通過(guò)使用先前提及的微結(jié)構(gòu)，對(duì)于前 述縮微圖象和縮微文字同樣可能獨(dú)立于計(jì)算機(jī)產(chǎn)生的全息圖寫(xiě)入到其中。 點(diǎn)分布還可以以點(diǎn)陣全息圖形式產(chǎn)生，其中個(gè)別的小的區(qū)域部分每一個(gè)產(chǎn) 生為不同的點(diǎn)陣全息圖衍射結(jié)構(gòu)。除此之外，還可能使用微結(jié)構(gòu)產(chǎn)生衍射
光學(xué)的元件(DOE)本身。
從現(xiàn)有技術(shù)還知道的是防篡改(tamperproof)的標(biāo)簽，其中，例如，容器 的第一次打開(kāi)，在這種場(chǎng)合同樣適當(dāng)?shù)氖窃谌魏慰赡艿闹匦路忾]之后，可 以從在容器的第一次打開(kāi)時(shí)標(biāo)簽被修改的事實(shí)得以辨別。該修改可以是破 壞性的撕裂，通過(guò)標(biāo)簽材料的適當(dāng)選擇或者通過(guò)材料的削弱而得以支持。 該材料的削弱可以是穿孔(perforation),其完全一段一段地(in sections)切斷 材料。同樣知道的是這樣的實(shí)施例，其中多個(gè)標(biāo)簽被使用，其例如通過(guò)標(biāo) 識(shí)的修改表明容器的再次封閉。
但是，上面已經(jīng)更加詳細(xì)地示出的光學(xué)安全特征的問(wèn)題，更具體地， 那些基于計(jì)算機(jī)產(chǎn)生的全息圖的問(wèn)題是，在可光學(xué)修改部分的區(qū)域中的穿 孔破壞該可光學(xué)修改部分以使得通過(guò)穿孔引入到標(biāo)簽中的凸出部使得更加 難以重建包含在全息圖中的信息，結(jié)果隨后該信息的正確讀取幾乎不可能 或者完全不可能，即使當(dāng)標(biāo)簽是原封不動(dòng)的時(shí)。對(duì)此的解釋是在可光學(xué)修 改部分的表面中與要求的表面形式的偏差，即使是用于讀取微結(jié)構(gòu)的輻射 的數(shù)個(gè)波長(zhǎng)的范圍中，會(huì)使得重建不可能。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明基于的技術(shù)問(wèn)題是筒單可靠地防止上述類(lèi)型的標(biāo)簽的篡 改。該技術(shù)問(wèn)題還涉及將防篡改標(biāo)簽設(shè)置為其標(biāo)簽的容器。
上面強(qiáng)調(diào)的技術(shù)問(wèn)題通過(guò)具有權(quán)利要求1的特征的標(biāo)簽解決。有利的 發(fā)展是從屬權(quán)利要求的主題。
根據(jù)本發(fā)明，基底層設(shè)置有至少一個(gè)凹陷，并且至少一個(gè)凹陷沿著部 分地在可光學(xué)修改部分之下延伸的線(xiàn)路布置。通過(guò)這種意義上的凹陷意味 著用于在標(biāo)簽中產(chǎn)生預(yù)定的斷裂點(diǎn)的方法。沿著上述線(xiàn)路的至少一個(gè)凹陷 的布置保證標(biāo)簽被破壞得以使得不僅基底層而且特別地可光學(xué)修改部分完全斷裂或者撕裂。這保證任何篡改以不再可能讀取其包含的信息的方法損 壞或者^(guò)C壞與安全相關(guān)的特性。
相應(yīng)地，試圖的篡改和/或例如本發(fā)明的標(biāo)簽用作封閉物密封的場(chǎng)合， 容器的第一次打開(kāi)能夠亳無(wú)疑問(wèn)地被辨別。因此，標(biāo)簽不能再使用。
例如，在微結(jié)構(gòu)，更具體地，計(jì)算機(jī)產(chǎn)生的全息圖已經(jīng)被寫(xiě)入可光學(xué) 修改部分，并且如果該部分即佳Z義部分地一皮損壞的場(chǎng)合，那么保i正至少該 部分的表面形式通過(guò)以這樣的方式石皮壞而改變，即不可能例如全息地讀取 存儲(chǔ)的信息，因?yàn)楹?jiǎn)單的原因是偏離要求的表面形式。即使當(dāng)全息圖本身 的個(gè)別部分盡管質(zhì)量較差但仍然足以用于信息讀取時(shí)也是如此。
在具有縮微圖象和/或縮微文字的計(jì)算機(jī)產(chǎn)生的全息圖已經(jīng)寫(xiě)入可光學(xué) 修改部分中的場(chǎng)合，縮微圖象或者縮微文字可以保持可辨別，取決于該部 分的破壞程度，盡管全息結(jié)構(gòu)不能再被讀取。
在一有利的方法中，對(duì)于至少一個(gè)凹陷可能形成為不切斷基底層的吻
式切口(kiss-cut)。那么，吻式切口并不完全切斷基底層，4旦是削弱其到這樣
的程度，即當(dāng)基底層完全撕裂時(shí)，該裂口沿著預(yù)定的線(xiàn)路延伸。吻式切口 相對(duì)于穿孔具有下述優(yōu)點(diǎn)，即基底層的表面沒(méi)被切斷，因此期望的表面形 式，特別地，在可光學(xué)修改部分的區(qū)域中的，得以維持。
相應(yīng)地，例如，對(duì)于至少一個(gè)吻式切口可能在可光學(xué)修改部分之下延 伸。因?yàn)椋鞘角锌诓⒉磺袛嗫晒鈱W(xué)修改部分，其要求的表面形式得以維 持，因此，除非標(biāo)簽被完全撕裂，其可能高質(zhì)量地重建寫(xiě)入的信息。但是， 因?yàn)槲鞘角锌谠诳晒鈱W(xué)修改部分之下延伸，換句話(huà)說(shuō)，在可光學(xué)讀取表面 之下并在基底層中，保證當(dāng)標(biāo)簽被完全撕裂時(shí)，裂口將精確地延伸通過(guò)可 光學(xué)修改部分，是特別可靠的。然而，盡管有吻式切口，必須要非常精確 地保證可光學(xué)讀取部分的表面維持其要求的形式。
凹陷設(shè)計(jì)為吻式切口的替代的可能性是在基底層中至少 一 個(gè)凹陷形成
為激光切口；換句話(huà)說(shuō)，激光用于切割或者至少切入到基底層中。該類(lèi)型 的激光切口可以制造得下至基底層中的某一深度否則會(huì)一段一段地完全將 其切斷。激光切割提供這樣的優(yōu)點(diǎn)，即在切割過(guò)程中，沒(méi)有材料被扔掉， 因此當(dāng)激光切割在基底層的表面上進(jìn)行時(shí)基底層自身的表面形式得以維 持。因此，激光切口不^f又可以在可光學(xué)修改部分之下延伸，還可以完全地 通過(guò)基底層的整個(gè)厚度，即使是在微結(jié)構(gòu)的區(qū)域中。例如，在全息圖已經(jīng)被寫(xiě)為微結(jié)構(gòu)進(jìn)入到可光學(xué)修改區(qū)域中的場(chǎng)合，其仍然保持易讀，因?yàn)椋?盡管去除了全息圖的一小部分，但是可光學(xué)修改部分中的表面實(shí)質(zhì)上沒(méi)有 變化。
而且，至少一個(gè)凹陷可以形成為穿孔，其至少部分地切斷基底層。這 具有這樣的優(yōu)點(diǎn)，即當(dāng)基底層完全撕裂時(shí)，作為穿孔的結(jié)果呈現(xiàn)的部分的 完全切斷已經(jīng)大大地預(yù)定了裂口的線(xiàn)路。但是，在這種情形中，必須保證 部分切斷并不實(shí)質(zhì)上改變基底層的表面，至少在可光學(xué)修改部分中的區(qū)域 中。
在該設(shè)計(jì)的情形下，至少一個(gè)穿孔布置在可光學(xué)修改部分外面，并且 穿孔點(diǎn)，在其對(duì)準(zhǔn)中，在可光學(xué)修改部分的方向中。這保證所述表面在可 光學(xué)修改和讀取部分中保持不受石皮壞，從而可能接受的事實(shí)是，在可光學(xué)
修改部分的區(qū)域中，裂口不是100%預(yù)定的。對(duì)于穿孔的上述布置，當(dāng)基底
層相對(duì)薄時(shí)，并且當(dāng)吻式切口導(dǎo)致可光學(xué)修改部分的讀取質(zhì)量的削弱時(shí)， 在可光學(xué)修改部分外面，同樣優(yōu)選吻式切口的布置，盡管吻式切口沒(méi)有切 斷基底層和可光學(xué)修改部分。
在進(jìn)一步優(yōu)選的方法中，可以為待設(shè)置的兩凹陷提供規(guī)范，其沿著可 光學(xué)修改部分的兩側(cè)面上的線(xiàn)路布置。結(jié)果，當(dāng)標(biāo)簽被完全撕裂時(shí)，兩凹 陷導(dǎo)引裂口從兩側(cè)面通過(guò)可光學(xué)修改部分。
進(jìn)一步優(yōu)選設(shè)置多個(gè)凹陷，其沿著所述線(xiàn)路一段一段地布置。通過(guò)這 種方法，特別是在相對(duì)長(zhǎng)的穿孔線(xiàn)路或者吻式切口線(xiàn)路的情形下，對(duì)于待 形成線(xiàn)路的兩個(gè)或更多凹陷，可能不需要基底層沿著整個(gè)線(xiàn)路變?nèi)酢?br> 而且，可以為待設(shè)置的多個(gè)凹陷提供規(guī)范，其布置在至少兩個(gè)不同的 線(xiàn)路上，所述線(xiàn)路的至少之一在可光學(xué)修改部分之下部分地延伸。因此， 例如，可能預(yù)定一線(xiàn)路，沿著該線(xiàn)路標(biāo)簽被撕裂通過(guò)可光學(xué)修改部分，同 時(shí)標(biāo)簽另外沿著另一線(xiàn)路被撕裂。但是在一優(yōu)選的實(shí)施例中，兩個(gè)或更多 的線(xiàn)路被預(yù)定，其延伸通過(guò)可光學(xué)修改部分，/人而保證標(biāo)簽從不同方向可 靠地破壞性地撕裂通過(guò)可光學(xué)修改部分。
用于保證標(biāo)簽的擲裂沿著通過(guò)可光學(xué)修改部分的線(xiàn)路的另一方法可以
是在可光學(xué)修改的部分區(qū)域中逐漸變小基底層的寬度。在此，逐漸變小
(tapered)是指標(biāo)簽在可光學(xué)修改部分的平面中的寬度小于在沒(méi)有由可光學(xué) 修改部分占據(jù)的區(qū)域中。因此，在標(biāo)簽的逐漸變小的區(qū)域中，存在一薄弱域中的標(biāo)簽沿著至少一個(gè)凹陷的撕裂。
當(dāng)然，標(biāo)簽的形狀可以適于特定的應(yīng)用。例如，在防篡改標(biāo)簽將被提 供用于容器的封閉的場(chǎng)合，基底層能夠具有實(shí)質(zhì)上圓形的截面，并且結(jié)合 到一長(zhǎng)型部分，可光學(xué)修改部分布置在長(zhǎng)型部分中。該實(shí)質(zhì)上圓形截面然 后安裝在蓋子上，而長(zhǎng)型部分結(jié)合到容器。如果蓋子被啟動(dòng)，換句話(huà)說(shuō)， 被旋轉(zhuǎn)或者向上折疊或者轉(zhuǎn)動(dòng)，標(biāo)簽在長(zhǎng)型部分中被撕裂，從而破壞布置 在那點(diǎn)上的可光學(xué)修改和可讀取部分。
對(duì)于可光學(xué)修改部分如何結(jié)合到基底層存在兩種可能。第一，可光學(xué) 修改部分可以與基底層分別地形成。所述部分然后粘性地或者粘接地結(jié)合 到基底層。再者，可光學(xué)修改部分可以與基底層整體形成，意味著基底層 自身全部可光學(xué)修改，但是待修改部分固定在基底層上的特定位置。
上面強(qiáng)調(diào)的技術(shù)問(wèn)題同樣通過(guò)包，更具體地，用于液體的包解決，其 具有容器、封閉物和至少一個(gè)標(biāo)簽，并且根據(jù)本發(fā)明其特征在于至少一個(gè) 標(biāo)簽結(jié)合到容器和封閉物，并且至少 一個(gè)凹陷布置在容器和封閉物之間的 區(qū)域中的標(biāo)簽中。
因此，根據(jù)本發(fā)明，保證當(dāng)封閉物打開(kāi)時(shí)，標(biāo)簽沿著線(xiàn)路分開(kāi)，并且 可光學(xué)修改部分至少部分地被破壞。在此，封閉物可以是可轉(zhuǎn)動(dòng)的蓋子或 者可旋轉(zhuǎn)的蓋子。


下面參照附圖以及示例性實(shí)施例更加詳細(xì)地闡述本發(fā)明，在所述附圖
中
圖1示出本發(fā)明的標(biāo)簽的第一示例性實(shí)施例，
圖2示出本發(fā)明的標(biāo)簽的第二示例性實(shí)施例，
圖3以橫截面的形式示出圖2所示的示例性實(shí)施例，
圖4示出本發(fā)明的標(biāo)簽的第三示例性實(shí)施例，
圖5以橫截面的形式示出圖4所示的示例性實(shí)施例，
圖6示出本發(fā)明的標(biāo)簽的第三示例性實(shí)施例，
圖7示出本發(fā)明的標(biāo)簽的第四示例性實(shí)施例，
圖8示出圖7所示的示例性實(shí)施例，其一方面緊固在瓶子的螺紋封閉 物上，另一方面緊固在瓶子自身上，以及
8圖9示出圖6所示的示例性實(shí)施例，其緊固到具有可旋轉(zhuǎn)蓋的容器。
具體實(shí)施例方式
在下面給出的各示例性實(shí)施例的描述的過(guò)程中，相同/類(lèi)似的部件用相 同的參考標(biāo)記表示，即使它們具有稍微不同的尺度或者設(shè)計(jì)。
圖1示出本發(fā)明的可用作包的安全特征的標(biāo)簽的第一示例性實(shí)施例。 該標(biāo)簽具有基底層1,并結(jié)合到其上的可能寫(xiě)微結(jié)構(gòu)到其中的可光學(xué)修改部分3。
該微結(jié)構(gòu)可以設(shè)計(jì)為計(jì)算機(jī)產(chǎn)生全息圖、縮微文字和/或縮微圖象。為 了寫(xiě)微結(jié)構(gòu)，可能使用許多現(xiàn)有技術(shù)中已知的寫(xiě)入裝置。對(duì)于該目的，可
以參照例如公開(kāi)物WO02/079881、 WO02/079883、 WO02/084404、 WO02/084405和WO03/012549。這些寫(xiě)入裝置使用激光束，其連續(xù)地以4冊(cè) 格形式掃描點(diǎn)陣的各個(gè)點(diǎn)，并且作為定位的功能，其以定義的強(qiáng)度引入光 能到標(biāo)簽中。該強(qiáng)度可以設(shè)置的以使得為點(diǎn)特定的(dot-specific),并因此在 以柵格形式掃描的區(qū)域中，可以選擇為模擬(連續(xù)變化)或者數(shù)字的(開(kāi)或者 關(guān))。
并且，基底層1具有凹陷5,其沿著在可光學(xué)修改部分3之下延伸的線(xiàn) 路布置。在本示例性實(shí)施例中，凹陷5從頂部邊緣，如圖1所示，延伸直 接通過(guò)基底層1直到底部邊緣，換句話(huà)說(shuō)，同樣在可光學(xué)修改部分3之下 直接通過(guò)。在這種情況中，凹陷5并不完全切斷基底層1的材料，而是例 如形成為切口 ，其從基底層1的不面對(duì)可光學(xué)修改部分3的側(cè)面穿孔直到 最大深度。這樣的切口可以例如通過(guò)激光在基底層1中產(chǎn)生為激光切口。
以及凹陷5，許多其它凹陷6被設(shè)置，其進(jìn)一步改善標(biāo)簽用作安全標(biāo)簽 的防篡改的水平，額外的凹陷6有效地防止標(biāo)簽從包分開(kāi)而沒(méi)有纟皮石皮壞。
圖2示出一示例性實(shí)施例，其中多個(gè)相對(duì)短的吻式切口 7沿著4皮此平 行布置的總共三條線(xiàn)路設(shè)置。因?yàn)槲鞘角锌?7每一個(gè)沿著線(xiàn)路彼此間隔開(kāi) 一定距離布置，其與圖1的示例性實(shí)施例相反，基底層l的損壞較少，因 此獲得的表面精度更好。至于在如圖1所示的示例性實(shí)施例的情形中，吻 式切口7沿著該線(xiàn)路延伸，其不僅在旁邊(alongside),并且在可光學(xué)修改部 分3之下。
這在橫截面的情形中也是可分辨的，如圖3所示，沿著吻式切口 7的線(xiàn)路之一通過(guò)基底層1。每一個(gè)彼此間隔開(kāi)一定距離的吻式切口 7通過(guò)虛線(xiàn) 示出。在此，顯然，吻式切口 7從下面穿過(guò)進(jìn)入到基底層1中，例如僅到
該層厚度的大約一半，因此基底層1的頂部一半沒(méi)有受損壞。如圖3所示， 可光學(xué)修改部分3布置在基底層1的頂部一半中，并示出為陰影區(qū)域。吻 式切口 7的深度可以變化并還可以大于或者小于基底層1的厚度的約一半。
圖4示出本發(fā)明的標(biāo)簽1的另一示例性實(shí)施例，光學(xué)可修改部分3接 合到其上。沿著多條線(xiàn)路，穿孔9產(chǎn)生在基底層1中，穿孔9至少部分地 切斷基底層1?；讓?的該部分地切斷的結(jié)果是，撕裂可實(shí)現(xiàn)裂口非常精 確的導(dǎo)引通過(guò)基底層1。
但是，因?yàn)榧词够讓?的部分的切斷將改變可光學(xué)修改部分3的表 面到這樣的程度，即將不可能讀取產(chǎn)生在那里的微結(jié)構(gòu)，穿孔9僅布置在 可光學(xué)修改部分3的外面。然而，穿孔9沿著其布置的線(xiàn)^^在可光學(xué)^f'務(wù)改 部分3的兩側(cè)面上延伸以使得虛線(xiàn)或者對(duì)準(zhǔn)線(xiàn)在可光學(xué)修改部分3之下延 伸，或者延伸通過(guò)其。如果標(biāo)簽沿著穿孔9被撕裂，那么保證在任何情況 下可光學(xué)修改部分3改變從而不可使用。
如圖4所示，穿孔9沿著總共五條線(xiàn)路布置，所述線(xiàn)路關(guān)于可光學(xué)修 改部分3以不同角度延伸。對(duì)于每一線(xiàn)路，事實(shí)是這樣的，穿孔9在每種 情形下布置在可光學(xué)修改部分3的兩側(cè)面上。根據(jù)本發(fā)明，穿孔僅沿著圖4 所示的線(xiàn)^各之一延伸。
圖5示出通過(guò)基底層1沿著在圖4中橫向延伸的穿孔9的線(xiàn)路的橫截 面。再一次地，可能辨別可光學(xué)修改部分3。穿孔9由虛線(xiàn)表示，其每一個(gè) 在頂部側(cè)面和底部側(cè)面之間延伸，/人而一^殳一段地切斷基底層1 。
圖6示出本發(fā)明的具有基底層1和可光學(xué)修改部分3的標(biāo)簽的另一示 例性實(shí)施例。與上述示例性實(shí)施例相反，基底層12具有外面部分11，其具 有相對(duì)大的寬度，在其之間具有錐形部分13?？晒鈱W(xué)修改部分3以及多個(gè) 吻式切口 7布置在錐形部分13中。這些吻式切口 7沿著線(xiàn)路布置，但是吻 式切口 7在每種情形中僅位于外面而不是在可光學(xué)修改部分3的下面。
錐形部分13和多個(gè)吻式切口 7的組合以特定的方式保證如果標(biāo)簽受到 機(jī)械應(yīng)力，基底層1在其中具有可光學(xué)修改部分3的區(qū)域中精確地撕裂。 對(duì)于該示例性實(shí)施例，可能看作具有另一優(yōu)點(diǎn)，具有相對(duì)大的寬度的外面 部分11允許標(biāo)簽的改善的粘接結(jié)合到物品或者包的表面。圖7示出本發(fā)明的標(biāo)簽的另 一示例性實(shí)施例，其中基底層1具有實(shí)質(zhì)上
圓形的截面15,和結(jié)合到其上的長(zhǎng)型部分17,可光學(xué)修改部分3布置在長(zhǎng) 型部分17中。在此，再一次地，設(shè)置有吻式切口 7,其沿著基底層中的多 條線(xiàn)路布置，每一線(xiàn)路定向得以使得其延伸通過(guò)可光學(xué)修改部分3。
在上述的示例性實(shí)施例中，可光學(xué)修改部分3在每一情形下示出為基 底層l中的單獨(dú)的部分。該描述的主要目的是示出可光學(xué)修改部分3在基 底層l中的安置。 一方面，可光學(xué)修改部分3可以由不同于基底層1的材 料的材料制成。另一方面，可光學(xué)修改部分3可以由與基底層l相同的材 料制成，因此，可光學(xué)修改部分3與基底層1整體形成。
圖8示出本發(fā)明的標(biāo)簽的應(yīng)用，如圖7所示，作為用于包的安全特征。
在本示例性實(shí)施例中，包是瓶子19的形式，其用可轉(zhuǎn)動(dòng)的封閉物21 封閉。如圖7所示的標(biāo)簽1結(jié)合到瓶子19和封閉物21 二者。為此，實(shí)質(zhì) 上圓形的截面15和長(zhǎng)型部分17的邊緣部分結(jié)合到封閉物21,而長(zhǎng)型部分 17的其它部分結(jié)合到瓶子19。
如圖8額外地所示，吻式切口 7布置在并瓦子19和封閉物21之間的區(qū) 域中，因此，當(dāng)封閉物21打開(kāi)時(shí)，標(biāo)簽沿著吻式切口 7的至少一條線(xiàn)路分 離，可光學(xué)修改部分3至少部分地被破壞。因此，當(dāng)封閉物21打開(kāi)時(shí)，發(fā) 生標(biāo)簽的完全撕裂，作為相對(duì)于瓶子19的相關(guān)的轉(zhuǎn)動(dòng)運(yùn)動(dòng)的結(jié)果，結(jié)果在 轉(zhuǎn)動(dòng)運(yùn)動(dòng)過(guò)程中產(chǎn)生的剪切力以使得基底層1撕裂，從而破壞可光學(xué)修改 部分3。
圖9示出包的另一個(gè)例子，其在該情形下采用具有可旋轉(zhuǎn)蓋子25的紙 板包23的形式。為了打開(kāi)包，在可旋轉(zhuǎn)蓋子25能夠被升高之前，第一必 須在穿孔29的幫助下壓入開(kāi)口部分27中。實(shí)質(zhì)上對(duì)應(yīng)圖6所示的示例性 實(shí)施例的標(biāo)簽結(jié)合到紙板包23和蓋25 二者。在這種情況中，錐形部分13 布置在穿孔29的區(qū)域中，因此不^5l可光學(xué)修改部分3而且吻式切口 7都布 置在有必要壓入開(kāi)口部分27中以便打開(kāi)包的點(diǎn)上。吻式切口 7從而保證當(dāng) 包23打開(kāi)時(shí)不僅基底層1而且可光學(xué)修改部分3以及由此的微結(jié)構(gòu)的安全 特征被破壞。
ii
權(quán)利要求
1. 一種用作安全特征的標(biāo)簽，具有基底層(1)，并具有微結(jié)構(gòu)可以引入到其中的可光學(xué)修改部分(3)，所述可光學(xué)修改部分(3)結(jié)合到所述基底層(1)，其特征在于，所述基底層(1)設(shè)置有至少一個(gè)凹陷(5，7，9)，并且所述至少一個(gè)凹陷(5，7，9)沿著部分地在所述可光學(xué)修改部分(3)之下延伸的線(xiàn)路布置。
2. 如權(quán)利要求l所述的標(biāo)簽，其特征在于，所述至少一個(gè)凹陷形成為 吻式切口(5， 7),其并不切斷所述基底層(l)，優(yōu)選地，所述至少一個(gè)吻式切 口(5， 7)在所述可光學(xué)修改部分(3)之下延伸。
3. 如權(quán)利要求l所述的標(biāo)簽，其特征在于，所述至少一個(gè)凹陷形成為 激光切口 。
4. 如權(quán)利要求l所述的標(biāo)簽，其特征在于，所述至少一個(gè)凹陷形成為 穿孔(9),其至少部分地切斷所述基底層(l)。
5. 如權(quán)利要求l-4之任一所述的標(biāo)簽，其特征在于，所述至少一個(gè)凹 陷(5， 7, 9)布置在所述可光學(xué)修改部分(3)的外面。
6. 如權(quán)利要求l-5之任一所述的標(biāo)簽，其特征在于，兩凹陷(5, 7， 9)多個(gè)凹陷(7, 9)被設(shè)置，其沿著所述線(xiàn)路一段一段地布置。
7. 如權(quán)利要求l-6之任一所述的標(biāo)簽，其特征在于，多個(gè)凹陷(7, 9) 被:沒(méi)置，其布置在至少兩條不同線(xiàn)路上，所述線(xiàn)路的至少之一部分地在所 述可光學(xué)修改部分(3)之下延伸。
8. 如權(quán)利要求l-7之任一所述的標(biāo)簽，其特征在于，所述基底層(l)具具有實(shí)質(zhì)上圓形的截面(15)和結(jié)合到其上的長(zhǎng)型部分(17),所述可光學(xué)修改 部分(3)布置在所述長(zhǎng)型部分(17)中。
9. 如權(quán)利要求1-8之任一所述的標(biāo)簽，其特征在于，所述可光學(xué)修改 部分(3)與所述基底層(1)單獨(dú)形成，或者所述可光學(xué)修改部分(3)與所述基底 層(l)整體形成。
10. —種包，更具體地用于液體的包，具有容器(19， 23),具有封閉物 (21， 25),并具有至少一個(gè)權(quán)利要求l-9之任一所述的標(biāo)簽，其特征在于，至少一個(gè)標(biāo)簽結(jié)合到所述容器(19， 23)和所述封閉物(21， 25)，并且至 少一個(gè)凹陷(5, 7， 9)布置在所述容器(19, 23)和所述封閉物(21， 25)之間的 所述區(qū)域中的所述標(biāo)簽中。
11.如權(quán)利要求10所述的包，其特征在于，所述封閉物是可旋轉(zhuǎn)的蓋 子(21)或者可轉(zhuǎn)動(dòng)的蓋子(25)。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用作安全特征的標(biāo)簽，其具有基底層(1)和可以被微結(jié)構(gòu)化的可光學(xué)修改部分(3)，其中，可光學(xué)修改部分(3)連接到基底層(1)。因此，生產(chǎn)一種前述類(lèi)型的簡(jiǎn)單可靠并且防篡改的標(biāo)簽的技術(shù)問(wèn)題得以解決。所述標(biāo)簽的基底層(1)設(shè)置有至少一個(gè)凹陷(5，7，9)，其沿著一線(xiàn)路安置，該線(xiàn)路稍微低于可光學(xué)修改部分(3)。本發(fā)明還涉及一種包，其中至少一個(gè)標(biāo)簽連接到封閉物(21，25)和容器(19，23)，其具有至少一個(gè)安置在容器(19，23)和封閉物(21，25)之間的區(qū)域中的凹陷(5，7，9)。
文檔編號(hào)G09F3/02GK101449307SQ200780018412
公開(kāi)日2009年6月3日 申請(qǐng)日期2007年5月25日 優(yōu)先權(quán)日2006年5月31日
發(fā)明者克里斯托夫·于爾根斯, 克里斯托夫·迪特里希, 斯蒂芬·斯塔德勒 申請(qǐng)人:蒂薩斯克里博斯有限責(zé)任公司