專利名稱：顯示面板的表面處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型是提供一種表面處理裝置，尤指一種制作一顯示面板的光阻隔離墻的表面處理裝裝置。
已知的制作方法，會先在陽極電極表面上制作復(fù)數(shù)條互相平行但與陽極電極垂直的光阻阻隔墻，用來作為陰影光罩(shadow nask)，然后于光阻阻隔墻的間隔區(qū)域內(nèi)的陽極電極與基板表面上，蒸鍍有機(jī)發(fā)光材料層以及陰極電極。但是當(dāng)光阻阻隔墻的剖面形狀近似矩形時，在蒸鍍陰極電極的過程中，常會因側(cè)向擴(kuò)散機(jī)率提高而導(dǎo)致陰極電極與陽極電極接觸，進(jìn)而產(chǎn)生短路。尤其當(dāng)光阻阻隔墻的厚度低于4μm以下時，更容易發(fā)生上述短路的現(xiàn)象。美國專利US592970揭露一種制作方法，可以將光阻阻隔墻制作成一倒梯形橫切面，使倒梯形的上底較其下底長出許多，可以作為陰影光罩。但是仍有以下所述的若干先天缺點(diǎn)難以克服首先，倒梯形橫切面的平行隔離層的梯形在形成時，其有高度或厚度的限制(大于4μm)，若倒梯形的高度過低，使其陰形突出部分變少，會降低鍍膜時的隔離效果，甚至?xí)斐申帢O線路間的導(dǎo)通；而若欲確保鍍膜的隔離效果，則需要加高倒梯形橫切面的平行隔離層的高度或厚度至約4μm以上，但對于一般線寬約為15μm以上的顯示器而言，如此限制便無法大幅提高顯示器的解析度，隔離層也將因變厚而易于崩落。故以此方法制造的有機(jī)電激發(fā)光顯示器，其厚度無法再有效降低，不符合目前顯示器朝向輕、薄、短、小的需求，而因此其解析度也受到限制無法大幅地提升。另外，由于倒梯形橫切面的平行隔離層經(jīng)光罩圖樣(pattern)曝光、顯影后，通常需要進(jìn)行有機(jī)層及電極層的蒸鍍，倒梯形橫切面斜面于蒸鍍時的側(cè)向擴(kuò)散(1ateral diffusion)機(jī)率很大，容易導(dǎo)致陰極鍍層短路，尤其在厚度低于4μm以下時，鍍層短路更易發(fā)生，因此導(dǎo)致制造良率的降低。
為了解決上述的問題，美國專利US6013538揭露一種多層底切(undercut)的方式，是利用多次鍍膜、顯影或蝕刻的方式來制作具有T形狀頂部的光阻阻隔墻。但是多層底切的方式會產(chǎn)生許多制程瓶頸，例如光阻阻隔墻的厚度控制、線寬限制、圖案準(zhǔn)確性等等，而且整個制程步驟繁瑣，所需耗費(fèi)的材料與時間成本過高，因此并不適用于大量生產(chǎn)作業(yè)，也無法確保光阻阻隔墻的制作品質(zhì)。有鑒于此，目前亟需一種表面處理裝置，可以在兼顧制作成本與制作品質(zhì)的考量下，制作出具有T形狀頂部的光阻阻隔墻，以應(yīng)用于有機(jī)電激發(fā)光顯示器的大量制造，而且可以降低材料浪費(fèi)的成本，避免有機(jī)電光元件顯示器平行隔離層崩落，提高解析度，降低有機(jī)電激發(fā)光顯示器及其平行隔離層間導(dǎo)通的厚度，避免有機(jī)電激發(fā)光顯示器短路以提高制造良率。
創(chuàng)作人爰因于此，本于積極創(chuàng)作的精神，亟思一種可以解決上述問題的“有機(jī)電激發(fā)光顯示面板的光阻隔離墻的表面處理裝置”，幾經(jīng)研究實驗終至完成此項創(chuàng)作。
本實用新型的次要目的是在提供一種顯示面板的表面處理裝置，可以提高光阻隔離墻的制作良率。
本實用新型的又一目的是在提供一種顯示面板的表面處理裝置，可以降低光阻隔離墻的制作成本。
本實用新型的另一目的是在提供一種顯示面板的表面處理裝置，可以大幅提升有機(jī)電激發(fā)光顯示面板的解析度。
本實用新型表面處理裝置包含有一光阻涂布模組，是用以涂布一光阻層于該有機(jī)電激發(fā)光顯示面板的表面上；一加熱板預(yù)烤單元，是連接該光阻涂布模組的一端，以預(yù)烤該有機(jī)電散發(fā)先顯示面板的表面上的光阻層；一曝光單元，是連接該加熱板預(yù)烤單元的一端，以對該解過預(yù)烤的光阻層進(jìn)行一曝光制程；一加熱板曝光后烘烤堿性氣氛表丙處理模組，是連接該曝光單元的一端，以往烘烤該進(jìn)行曝光制程的光阻；一顯影模組，是連接該加熱板曝光后烘烤堿性氣氛表面處理橫組的一端，以對該經(jīng)過后烘烤的光阻層進(jìn)行一顯影制程，以形成該復(fù)數(shù)條光阻隔離墻；以及一加熱板硬烤單元，是連接該顯影模組的一端，以烘烤該復(fù)數(shù)條光阻隔離墻，以進(jìn)一步降低該復(fù)數(shù)條光阻隔離墻內(nèi)所殘留的溶劑含量。其中，加熱板曝光后烘烤堿性氣氛表面處理模組中會導(dǎo)入堿性物質(zhì)氣氛，可以終止光阻層表層的酸性離子的自催化反應(yīng)，使該光阻隔離墻的頂部成為T形狀。
其中該加熱板曝光后烘烤堿性氣氛表面處理模組包含有一堿性物質(zhì)氣氛源，安裝于加熱板曝光后烘烤堿性氣氛表面處理模組一側(cè)，是用來提供該堿性物質(zhì)氣氛；一濃度控制器，連接于堿性物質(zhì)氣氛源，是用來控制該堿性物質(zhì)氣氛的濃度；以及一時間控制器，與濃度控制器電性連接，是用來控制該堿性物質(zhì)氣氛的作用時間。
其中該堿性物質(zhì)氣氛是為氫氧化四甲基胺。
其中該堿性物質(zhì)氣氛是為氫氧化鉀。
其中該堿性物質(zhì)氣氛是為回收該顯影模組內(nèi)所排放出的堿性氣體。
其中該光阻層是為一化學(xué)增幅型光阻組合物。
其中該化學(xué)增幅型光阻組合物包含有光酸產(chǎn)生劑。
其中該表面處理裝置令包含有至少一離子產(chǎn)生槍，用來去除該有機(jī)電激發(fā)光顯示面板表面上的靜電。
其中該有機(jī)電激發(fā)光顯示面板包含有一基板，以及復(fù)數(shù)條互相平行的第一電極。
其中該復(fù)數(shù)條光阻隔離墻是互相平行地形成于該復(fù)數(shù)條第一電極上，且該光阻隔離墻是與該第一電極互相垂直。
由于本實用新型具有新穎性，能提供產(chǎn)業(yè)上利用，且確有增進(jìn)功效，故依法申請專利。
圖2是


圖1所示的加熱板曝光后烘烤堿性氣氛表面處理模組的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3至圖5是使用
圖1所示的表面處理裝置制作光阻隔離墻的示意圖。
圖6是本實用新型有機(jī)電激發(fā)光顯示面板的示意圖。
請參考圖2，圖2是
圖1所示的加熱板吸光后烘烤堿性氣氛表面處理模組26的結(jié)構(gòu)示意圖。加熱板曝光后烘烤堿性氣氛表面處理模組26包含有一腔體36，其內(nèi)設(shè)置有一加熱板(未顯示)用來后烘烤光阻層，一堿性物質(zhì)氣氛源37，是用來提供一堿性物質(zhì)氣氛，一濃度控制器38，其內(nèi)部設(shè)置有不同濃度過濾規(guī)格的濾材如活性炭等，是用來控制堿性物質(zhì)氣氛的濃度，以及一時間控制器39，是用來控制堿性物質(zhì)氣氛的作用時間以及曝后烘烤時間。本實用新型所使用的光阻層是為一化學(xué)增幅型光阻組合物，其包含有一光酸產(chǎn)生劑，至少一聚合物，以及至少一添加劑，其中聚合物可為第三級丁氧基保護(hù)基的聚合物，而添加劑可為光酸捕捉劑或溶劑等。而堿性物質(zhì)氣氛是為氫氧氣化四甲基胺或是氫氧化鉀。此外，也可以直接回收顯影模組內(nèi)的TMAH的廢氣，經(jīng)由過濾水氣與雜質(zhì)后導(dǎo)入堿性物質(zhì)氣氛源，用來作為堿性物質(zhì)氣氛。由于曝光制程會使光阻層的光酸產(chǎn)生劑產(chǎn)生酸性離子，因此后續(xù)所進(jìn)行的曝光后烘烤，會使酸性離子具有足夠的能量而使聚合物產(chǎn)生去保護(hù)基(deprotection)反應(yīng)，進(jìn)而提高酸性離予的自催化反應(yīng)。然而，本實用新型是于進(jìn)行曝光后烘烤的同時，將堿性物質(zhì)氣氛導(dǎo)入腔體36內(nèi)，可以中和光阻層表層的酸性離子，進(jìn)而終止光阻層表層的酸性離子的自催化反應(yīng)。所以，經(jīng)過后續(xù)的顯形制程后，形成的光阻隔離墻的頂部會成為T形狀，而T形狀的懸空突出的部分便可以用來作為一陰影光罩。
請參考圖3至圖5，圖3至圖5是使用
圖1所示的表面處理裝置10來制作有機(jī)電激發(fā)光顯示面板40的光阻隔離墻50的示意圖。本實用新型表面處理裝置10是用來制作一有機(jī)電激發(fā)光顯示面板40的復(fù)數(shù)條光阻隔離墻50。如圖3所示，有機(jī)電激發(fā)光顯示面板40包含有一基板42，以及復(fù)數(shù)條互相平行的第一電極44，是應(yīng)對于有機(jī)電激發(fā)光顯示面板40的發(fā)光區(qū)域。表面處理裝置10的進(jìn)行方式，是先于清洗模組12與烘干裝置14中，將有機(jī)電激發(fā)光顯示面板40的表面清洗干凈并烘干，然后利用第一離子產(chǎn)生槍16將有機(jī)電激發(fā)光顯示面板40表面上的靜電中和移除。接著，于光阻涂布模組18中，將化學(xué)增幅型光阻組合物涂布于有機(jī)電激發(fā)光顯示面板40的表面上，用來作為一光阻層46，如圖4所示，是為沿圖3的切線4-4的剖面示意圖。跟著，于加熱板預(yù)烤單元20中烘烤光阻層46，使光阻層46內(nèi)的溶劑排出，再利用第二離子產(chǎn)生槍22將有機(jī)電激發(fā)光顯示面板40的表面上的靜電移除。隨后，于曝光單元24中，以一預(yù)定光罩圖案對經(jīng)過預(yù)烤的光阻層46進(jìn)行深紫外光254nm的曝光制程，并使光阻層46的光酸產(chǎn)生劑產(chǎn)生酸性離子。然后，于加熱板曝光后烘烤堿性氣氛表面處理模組26中烘烤光阻層46，以提升光阻層46的酸性離子的自催化反應(yīng)，并同時導(dǎo)入堿性物質(zhì)氣氛，以終止光阻層46表層的酸性離子的自催北反應(yīng)。接著利用第三離子產(chǎn)生槍28將有機(jī)電激發(fā)光顯示面板40的表面上的靜電移除后，于顯影模組30中對光阻層46進(jìn)行一顯影制程，便初步形成接數(shù)條互相平行但是與第一電極44垂直的光阻隔離墻50，而且每一光阻隔離墻50包含有一T形狀頂部48，如圖5所示。最后，于光阻加熱板硬烤單元32中烘烤光阻隔離墻50，以進(jìn)一步降低光阻隔離墻50內(nèi)所殘留的溶劑含量，再使用第四離子產(chǎn)生槍34來去除有機(jī)電激發(fā)光顯示面板40表面上的靜電，便制作完成具有T形狀頂部48的光阻隔離墻50。
請參考圖6，圖6是本實用新型有機(jī)電激發(fā)光顯示面板40的示意圖。當(dāng)光阻隔離墻50制作完成后，便可以于兩光組隔離墻50所定義的第一電極44與基板42上，依序蒸鍍一有機(jī)發(fā)光層52心及一第二電極54，使復(fù)數(shù)條互相平的第二電極54垂直排列于第一電極44上方。而第一電極44、有機(jī)發(fā)光層52與第二電極54所構(gòu)成的三明治結(jié)構(gòu)，是以陣列的型式排列于有機(jī)電激發(fā)光顯示面板40上，用來作為紅色、綠色或藍(lán)色發(fā)光像素(pixel)。由于光阻阻隔墻50的頂部為T形狀，可以作為陰影光罩，因此部分的蒸鍍材質(zhì)會涂覆于T形狀頂部48的懸空突出部位，有效降低第二電極54因側(cè)向擴(kuò)散而導(dǎo)致短路的機(jī)會，這對于提升制造良率有很大的幫助。也因此，光阻阻隔墻50的厚度可以盡量減少(可達(dá)0.8μm以下)，光阻阻隔墻50的底部寬度也可以縮短，相較于現(xiàn)有技術(shù)，可以大幅提升有機(jī)電激發(fā)光顯示面板40的解析度以及降低短路的機(jī)率。此外，表面處理段置10是于堿性物質(zhì)氣氛下，對光阻層46進(jìn)行曝光后烘烤，相較于已知多層底切的方式，本實用新型可以節(jié)省大量的制作成本與時間，相當(dāng)適用于大量生產(chǎn)作業(yè)。
綜上所陳，本實用新型無論就目的、手段及功效，在在均顯示其迥異于已知技術(shù)的特征，惟應(yīng)注意的是，上述諸多實施例僅是為了便于說明而舉例而已，本實用新型所主張的權(quán)利范圍自應(yīng)以申請專利范圍所述為準(zhǔn)，而非僅限于上述實施例。
權(quán)利要求1.一種顯示面板的表面處理裝置，是用來制作一有機(jī)電激發(fā)光顯示器的復(fù)數(shù)條光阻隔離墻，其特征在于，該表面處理裝置包含有一光阻涂布模組，是用以涂布一光阻層于該有機(jī)電激發(fā)光顯示面板的表面上；一加熱板預(yù)烤單元，是連接該光阻涂布模組的一端，以預(yù)烤該有機(jī)電散發(fā)先顯示面板的表面上的光阻層；一曝光單元，是連接該加熱板預(yù)烤單元的一端，以對該解過預(yù)烤的光阻層進(jìn)行一曝光制程；一加熱板曝光后烘烤堿性氣氛表丙處理模組，是連接該曝光單元的一端，以往烘烤該進(jìn)行曝光制程的光阻；一顯影模組，是連接該加熱板曝光后烘烤堿性氣氛表面處理橫組的一端，以對該經(jīng)過后烘烤的光阻層進(jìn)行一顯影制程，以形成該復(fù)數(shù)條光阻隔離墻；以及一加熱板硬烤單元，是連接該顯影模組的一端，以烘烤該復(fù)數(shù)條光阻隔離墻，以進(jìn)一步降低該復(fù)數(shù)條光阻隔離墻內(nèi)所殘留的溶劑含量；其中，加熱板曝光后烘烤堿性氣氛表面處理模組中會導(dǎo)入堿性物質(zhì)氣氛，可以終止光阻層表層的酸性離子的自催化反應(yīng)，使該光阻隔離墻的頂部成為T形狀。
2.如權(quán)利要求1所述的顯示面板的表面處理裝置，其特征在于，其中該加熱板曝光后烘烤堿性氣氛表面處理模組包含有一堿性物質(zhì)氣氛源，安裝于加熱板曝光后烘烤堿性氣氛表面處理模組一側(cè)，是用來提供該堿性物質(zhì)氣氛；一濃度控制器，連接于堿性物質(zhì)氣氛源，是用來控制該堿性物質(zhì)氣氛的濃度；以及一時間控制器，與濃度控制器電性連接，是用來控制該堿性物質(zhì)氣氛的作用時間。
3.如權(quán)利要求2所述的顯示面板的表面處理裝置，其特征在于，其中該堿性物質(zhì)氣氛是為氫氧化四甲基胺。
4.如權(quán)利要求2所述的顯示面板的表面處理裝置，其特征在于，其中該堿性物質(zhì)氣氛是為氫氧化鉀。
5.如權(quán)利要求1所述的顯示面板的表面處理裝置，其特征在于，其中該堿性物質(zhì)氣氛是為回收該顯影模組內(nèi)所排放出的堿性氣體。
6.如權(quán)利要求1所述的顯示面板的表面處理裝置，其特征在于，其中該光阻層是為一化學(xué)增幅型光阻組合物。
7.如權(quán)利要求6所述的顯示面板的表面處理裝置，其特征在于，其中該化學(xué)增幅型光阻組合物包含有光酸產(chǎn)生劑。
8.如權(quán)利要求1所述的顯示面板的表面處理裝置，其特征在于，其中該表面處理裝置令包含有至少一離子產(chǎn)生槍，用來去除該有機(jī)電激發(fā)光顯示面板表面上的靜電。
9.如權(quán)利要求1所述的顯示面板的表面處理裝置，其特征在于，其中該有機(jī)電激發(fā)光顯示面板包含有一基板，以及復(fù)數(shù)條互相平行的第一電極。
10.如權(quán)利要求9所述的顯示面板的表面處理裝置，其特征在于，其中該復(fù)數(shù)條光阻隔離墻是互相平行地形成于該復(fù)數(shù)條第一電極上，且該光阻隔離墻是與該第一電極互相垂直。
專利摘要一種顯示面板的表面處理裝置,包含有一光阻涂布模組;一加熱板預(yù)烤單元,是連接該光阻涂布模組的一端,以預(yù)烤該有機(jī)電激發(fā)光顯示面板的表面上的光阻層;一曝光單元,是連接該加熱板預(yù)烤單元的一端;一加熱板,是連接該曝光單元的一端,以后烘烤進(jìn)行曝光制程的光阻層;一顯影模組,是連接該加熱板曝光后烘烤堿性氣氛表面處理橫組的一端,以形成該復(fù)數(shù)條光阻隔離墻;以及一加熱板硬烤單元,是連接顯影模組的一端;其中,加熱板曝光后烘烤堿性氣氛表面處理模組中會導(dǎo)入堿性物質(zhì)氣氛,可以終止光阻層表層的酸性離子的自催化反應(yīng),使該光阻隔離墻的頂部成為T形狀。
文檔編號G09G3/30GK2496100SQ0125897
公開日2002年6月19日 申請日期2001年8月31日 優(yōu)先權(quán)日2001年8月31日
發(fā)明者盧添榮 申請人:錸寶科技股份有限公司