專利名稱：接受片的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及熱轉(zhuǎn)印，尤其是涉及與給體片聯(lián)合使用的熱轉(zhuǎn)印接受片。
目前已知的熱轉(zhuǎn)印(TTP)技術(shù)一般包括從相關(guān)給體片上熱轉(zhuǎn)印顯象介質(zhì)從而使圖，產(chǎn)生于接受片上。給體片一般包括覆有轉(zhuǎn)印層的紙、合成紙或聚合薄膜材料形成的支持基片，轉(zhuǎn)印層包括混合在油墨介質(zhì)中的可升華染料，該介質(zhì)通常含蠟和/或聚合樹脂粘合劑。相關(guān)的接受片通常含有由類似材料組成的基片，在其一個表面上有一個染料的聚合物接受層。當(dāng)其上分別有轉(zhuǎn)印層和接受層的給體片和接受片相接觸的系統(tǒng)在圖象區(qū)例如由信息信號、比如電視信號得到的圖象區(qū)選擇加熱時，染料就從給體片轉(zhuǎn)印到接受片的染料接受層并在其上形成給定圖形的單色圖象。通過用不同單色染料重復(fù)這一過程，就可在接受片上得到一全色圖象。
為便于把印好像的片子從加熱系統(tǒng)中分離，至少轉(zhuǎn)印層和接受層之一能與分離介質(zhì)，比如硅油結(jié)合。
在典型TTP操作的印刷或轉(zhuǎn)印階段，轉(zhuǎn)印層和接受層都很可能處于熔融態(tài)，給體片有與接受片熱結(jié)合的趨勢。當(dāng)給體片與已印象的接受片分離時，這種接合會導(dǎo)致給體片起皺甚至破裂。在一定環(huán)境條件下，可能會發(fā)生含染料轉(zhuǎn)印層向接受片完全轉(zhuǎn)印，結(jié)果使給體片完全破壞，并且其中一部分與已處理的接受片緊緊粘接。為避免這種不希望的現(xiàn)象出現(xiàn)，需要用分離介質(zhì)來促進(jìn)給體片和接受片之間的相對運動，使彼此容易分離。然而，給體片相對于印刷頭向前運動，與接受片對準(zhǔn)通常取決于給體片與接受片之間的摩擦，后者安裝于可向前移動的輥或壓印板上。各薄片間接合不夠就會導(dǎo)致對準(zhǔn)得不好，產(chǎn)生的圖象不清楚，因此，分離介質(zhì)也必須促進(jìn)給體片和接受片間的摩擦接合，這樣就要滿足兩個明顯矛盾的要求。
TTP系統(tǒng)在商業(yè)上的成功尤其取決于能產(chǎn)生有足夠亮度、反差和分辯率的圖象。因此圖象的光密度是一個重要的標(biāo)準(zhǔn)。但不幸的是，分離介質(zhì)的存在會阻礙染料向接受層的遷移，因此降低了所得圖象的光密度。如果分離介質(zhì)以任何方式改性的話，它就會成為染料從給體片向接受片遷移的阻擋層。例如，當(dāng)分離介質(zhì)基本上交聯(lián)時，光密度不足的問題就特別嚴(yán)重。同樣，分離介質(zhì)中外來雜質(zhì)很可能進(jìn)一步阻礙染料遷移，這也是不希望的。
盡管需要用來產(chǎn)生清晰圖象的高溫局部加熱可用各種技術(shù)包括激光束印像來實現(xiàn)，但是有一種方便且廣泛應(yīng)用的熱印刷技術(shù)包括用一個熱印刷頭，例如點模式熱印刷頭，其中每個點用一個獨立的熱元件代表(如果需要可用電子控制)。這樣一種接觸印刷頭涉及的問題是由于在加熱軟化的系統(tǒng)中各元件上的壓力而使接受片受形。這種變形表現(xiàn)為降低了接受片表面的光澤。尤其是當(dāng)接受片表面原來是光滑且有光澤的，即用來制造高質(zhì)量藝術(shù)品所需要的那一種時，這個問題影響更大。壓力變形的另一個問題是“壓痕透過”現(xiàn)象，即在接受片的背面，即基片沒有接受層的自由表面上會觀察到圖象的壓痕。
已經(jīng)提到了應(yīng)用于TTP過程的各種接受片。例如，EP-A-0133012公開了一種可熱轉(zhuǎn)印的薄片，它有一個基片并在其上有一圖像接受層，一種染料可透過的分離劑，如硅油，置于圖像接受層中或者作為分離層至少置于部分圖像接受層上。確定用于基片的材料包括具有高施膠度的電容器低、玻璃紙、硫酸紙或者是紙或塑料膜(包括聚對苯二酸亞乙酯)的可彎曲的薄片，雖然例舉的基片材料主要是合成紙-可以認(rèn)為是基于丙烯聚合物的材料。基片的厚度通常在大約3至50μm的范圍。酯、氨基甲酸乙酯、酰胺、脲或高極性鍵合物的樹脂可用在圖象接受層上。
相關(guān)的歐州專利申請EP-A-0133011公開了一種基于類似基片和印像層材料的可熱轉(zhuǎn)印的薄片，不同的是接受層暴露的表面包括第一區(qū)和第二區(qū)，各區(qū)域分別包括(a)具有玻璃化溫度-100至20℃以及具有一個極性基團的合成樹脂，和(b)具有玻璃化溫度為40℃或40℃以上的合成樹脂。接受層厚度當(dāng)與基片層接合使用時為3至50μm，單獨使用時為60至200μm。
如上文所述，市售TTP接受片的問題有所產(chǎn)生的圖象亮度和反差不足、印好像的薄片光澤下降、圖像壓痕透到薄片背面以及在印刷周期中難于保證對準(zhǔn)。此外，順利地將接受片送入印刷頭也有困難。
現(xiàn)在我們發(fā)現(xiàn)了一種能克服或基本消除上述缺陷的用于TTP過程的接受片。
從而，本發(fā)明提供了一種與相容給體片聯(lián)合使用的熱轉(zhuǎn)印接受片，該接受片包括一個支持基片，該基片至少在其一個表面上有一染料接受層以接受從給體片熱轉(zhuǎn)印的染料。此外，接受片還至少在其一個表面上包括(b)一個抗靜電層，該抗靜電層最好是在該基片的第二個表面上。
本發(fā)明也提供了一種制備與相容給體片聯(lián)合使用的熱轉(zhuǎn)印接受片的方法，包括形成一個支持基片，該基片至少在其一個表面上有一染料接受層以接受從給體片熱轉(zhuǎn)印的染料。該接受片還至少在其一個表面上包括(b)一個抗靜電層，該抗靜電層最好是在該基片的第二個表面上。
在本發(fā)明的上下文中，下列術(shù)語的意義定義如下薄片不但包括單一的薄片，也包括能夠進(jìn)一步分成許多單一薄片的連續(xù)的網(wǎng)或絲帶狀結(jié)構(gòu)。
相容的就給體片而言，表示染料能浸透給體片，該染料能夠在熱的作用下遷移進(jìn)入與之接觸的接受片上的接受層并能在其上產(chǎn)生圖像。
不透明指接受片的基片基本上是不能透過可見光的。
有孔隙的指接受片的基片包括含有至少一部分不連續(xù)的、封閉孔的多孔結(jié)構(gòu)。
薄膜是一種在沒有支持基片時能夠獨立存在的自我支持結(jié)構(gòu)。
抗靜電指在接受片上使用抗靜電層，使靜電在處理過的表面上的積累較未處理過的薄片顯出減少的趨勢。
本發(fā)明的接受片的基片可用紙制成，但更好地是用任何合成的、可形成薄膜的聚合物材料制成。合適的熱塑性塑料、合成材料包括1-烯烴的均聚物或共聚物，比如乙烯、丙烯或丁烯-1，一種聚酰胺，一種聚碳酸酯、尤其是一種合成鏈狀聚酯。該聚酯是通過用一種或多種二羧酸或其低級烷基(最多達(dá)6個碳原子)二酯，例如對苯二酸、間苯二酸、鄰苯二甲酸、2，5-、2，6-或2，7-萘二甲酸、丁二酸、癸二酸、己二酸、壬二酸、4，4-聯(lián)苯二羧酸、六氫化對苯二甲酸或1，2-二-對-羧基苯氧基乙烷(任意地帶一單羧酸，比如新戊酸)與一種或多種二元醇，例如乙二醇、1，3-丙二醇、1，4-丁二醇、新戊二醇和1，4-環(huán)己烷二甲醇縮合得到。聚對苯二酸亞乙酯薄膜特別好，尤其是在兩個相互垂直的方向上順次拉伸的具有二軸取向的薄膜，一般是在70-125℃的溫度范圍拉伸，最好一般在150-250℃的溫度范圍內(nèi)熱定形，例如英國專利838708號所描述的。
本發(fā)明的接受片的薄膜基片可以是單軸取向的，但最好是通過在薄膜的平面上在兩個相互垂直的方向拉伸成二軸取向，以達(dá)到機械性能和物理性能的滿意的組合。薄膜的成形可以通過任何已知的制備取向聚合物薄膜的方法來完成，例如管狀的或平直的薄膜方法。
在管狀方法中，通過擠壓熱塑性塑料聚合物管，然后急冷，再加熱，再靠內(nèi)部氣體壓力膨脹產(chǎn)生橫向取向，并且在產(chǎn)生縱向取向的速度下拉伸可以實現(xiàn)同時二軸取向。
在較好的平直薄膜生產(chǎn)過程中，把形成薄膜的聚合物通過一個縫隙式模擠壓并且在一個冷卻的流延鼓上急冷，以保證聚合物急冷至非晶態(tài)。
取向可以通過在高于聚合物的玻璃化溫度的溫度下至少在一個方向上對急冷的壓出物進(jìn)行拉伸來實現(xiàn)。順次的取向可以通過對平直的、急冷的壓出物首先在一個方向，通常是縱向，即通過薄膜拉伸機向前的方向上拉伸，然后在橫向拉伸來實現(xiàn)。壓出物向前的拉伸可以通過一組轉(zhuǎn)輥或在兩對壓料輥之間很容易地完成，然后橫向拉伸可在展幅機中完成。拉伸的程度由形成薄膜的聚合物的性質(zhì)決定，例如聚酯通常拉伸到使取向薄膜的尺寸在拉伸方向或每一拉伸方向上為原尺寸的2.5到4.5倍。
已拉伸的薄膜可以，而且最好是在對尺寸進(jìn)行限制的條件下熱定形，以便使尺寸確定。熱定形溫度在形成薄膜的聚合物的玻璃化溫度之上但在其熔化溫度之下，以便使聚合物結(jié)晶。
本發(fā)明的一個較佳實施方案是接受片有一個不透明的基片。不透明度尤其取決于薄膜的厚度和填料含量。但是不透明基片薄膜最好具有0.75-1.75，特別是1.2-1.5的透射光密度。(SaKura光密度計，PDA65型，透射型)。
接受片基片可以方便地通過把有效量的不透明劑加入到形成薄膜的合成聚合物中而使其不透明。然而，本發(fā)明的一個更好的實施方案是不透明基片如上所述是有孔隙的。因此，最好是把能夠產(chǎn)生不透明的、有孔隙的基片結(jié)構(gòu)的有效量的試劑加入到聚合物中。合適的孔隙劑也能使其不透明，它包括一種不相容樹脂填料、一種粒狀無機填料或者兩種或多種這些填料的混合物。
“不相容樹脂”是指在薄膜的壓制和制造過程中所遇到的最高溫度下，樹脂既不熔化也基本上與聚合物不互溶。這些樹脂包括聚酰胺和鏈烯烴聚合物，尤其是在分子中含有最多達(dá)6個碳原子的-α-鏈烯烴的均聚物或共聚物，將其加入到聚酯薄膜中，或者將上述種類的聚酯加入到聚鏈烯烴薄膜中。
適于產(chǎn)生不透明的、有孔隙的基片的粒狀無機填料包括一般的無機顏料和填料，尤其是金屬或非金屬氧化物，比如氧化鋁、二氧化硅，和二氧化鈦，以及堿土金屬鹽類，比如鈣和鋇的碳酸鹽和硫酸鹽。硫酸鋇是特別好的填料，它也起孔隙劑的作用。
合適的填料可以是同質(zhì)的，基本上是單一的填料材料或化合物，比如由二氧化鈦或硫酸鋇單獨組成。也可以，至少有一部分填料是異質(zhì)的，是主要的填料材料與附加的改性組分的混合。例如，主要的填料顆粒用表面改性劑，比如顏料、肥皂、表面活性劑、偶合劑或其它改性劑進(jìn)行處理，以提高或改變填料與基片聚合物的相容程度。
生產(chǎn)具有滿意的不透明度、孔隙度和白色的基片要求填料應(yīng)當(dāng)是分散很細(xì)的，其平均粒度希望是0.1到10μm，只要顆粒數(shù)的99.9%的實際粒度不超過30μm。較好的是填料的平均粒度為0.1-1.0μm，0.2-0.75μm最好。粒度的下降可提高基片的光澤。
粒度可以用電子顯微鏡，庫耳特(Coulter顆粒計數(shù)器或沉積分析法測得，平均粒度可以用繪制表示小于選定粒度顆粒的百分?jǐn)?shù)的累積分布曲線確定。
按照本發(fā)明，最好是混入薄膜支持片中的填料顆粒沒有一個其實際粒度超過30μm的。超過這一粒度的顆?？梢杂靡阎暮Y分方法除去。然而，篩分操作在除去全部大于選定粒度的顆粒時并不是完全成功的。因此，實際上占顆粒數(shù)99.9%的顆粒的粒度不應(yīng)超過30μm。最好是占顆粒數(shù)99.9%的顆粒粒度不應(yīng)超過20μm。
可用通常的方法把不透明劑/孔隙劑加入到聚合物基片中去。例如與獲得聚合物的單體反應(yīng)劑混合，或者在形成薄膜之前與呈粒狀或小片狀的聚合物干混合。
混到基片聚合物中填料的量，尤其是硫酸鋇的量希望應(yīng)不少于聚合物重量的5%和大于50%。當(dāng)填料的含量為基片聚合物重量的8-30%，尤其是15-20%時，可得到最滿意的不透明度和光澤。
相對來說是少量的其它添加劑，可以任意地混入到薄膜基片中去。例如，為提高孔隙率可混入最高達(dá)25%的瓷土，為增白可混入最高達(dá)百萬分之1500的熒光增白劑，為改變顏色可混入最高達(dá)百萬分之10的染料，具體的濃度均是以占基片聚合物重量的重量比例計算的。
基片的厚度可以根據(jù)接受片預(yù)計的用途變化，但一般不超過250μm，最好是在50-190μm的范圍內(nèi)。
具有上述種類基片的接受片有許多優(yōu)點，包括(1)具有生產(chǎn)具有高級藝術(shù)品的亮度、反差和感受的印刷品所必需的白色和不透明度，(2)有剛性和韌性用來改善由于與印刷頭接觸而引起的表面變形和抗圖像壓痕透過的能力，以及(3)有熱穩(wěn)定性和化學(xué)穩(wěn)定性，使其有尺寸穩(wěn)定性和抗卷曲性。
當(dāng)將TTP直接應(yīng)用于上述種類的有孔隙的基片表面上時，所產(chǎn)生的圖象有光密度較低的趨向，所得到的印刷品的質(zhì)量一般較差。因此至少在基片的一個表面上需要有接受層并希望接受層有(1)對從給體片熱轉(zhuǎn)印的染料具有很好的接受性，(2)對由于與熱印刷頭接觸而引起的表面變形有抵抗能力以保證生產(chǎn)具有令人滿意的光澤的印刷品，以及(3)有保持穩(wěn)定圖象的能力。
滿足上述標(biāo)準(zhǔn)的接受層包括一種可接受染料的、合成的熱塑性塑料聚合物。接受層的結(jié)構(gòu)可以按所要求的特性而變化。例如，接受聚合物可以基本上是非晶態(tài)的，以提高轉(zhuǎn)印圖象的光密度，可以基本上是晶態(tài)的，以降低表面變形，或者部分非晶態(tài)/晶態(tài)，以提供一個合適的特性平衡。
接受層的厚度可以在一個很大的范圍內(nèi)變化，但一般不超過50μm。接受層的干厚度尤其決定了在一個特定接受聚合物上所產(chǎn)生的圖象的光密度。較佳的厚度在0.5-25μm范圍內(nèi)。特別是，已觀察到通過仔細(xì)地把接受層的厚度控制在0.5-10μm范圍內(nèi)，并結(jié)合使用在此描述的不透明/有孔隙的聚合物基片層，會使抗表面變形性獲得意想不到的、顯著的提高，且不明顯地降低轉(zhuǎn)印圖象的光密度。
用于接受層，能提供與基片層足夠粘合力的可接受染料的聚合物適宜含一種聚酯樹脂，特別是由一種或多種二元芳香羧酸類，比如對苯二甲酸、間苯二酸和六氫化對苯二甲酸，與一種或多種二元醇，尤其是脂族二元醇，比如乙二醇、二甘醇、三甘醇和新戊二醇制得的共聚酯樹脂?？商峁M意的染料接受性和抗變形性的典型的共聚酯類是對苯二酸亞乙酯和間苯二酸亞乙酯，特別是摩爾比為50-90摩爾%對苯二酸亞乙酯和相應(yīng)地50-10摩爾%間苯二酸亞乙酯的共聚酯。較好的共聚酯包括65-85摩爾%對苯二酸亞乙酯和35-15摩爾%間苯二酸亞乙酯的共聚酯，尤其是具有大約82摩爾%對苯二酸亞乙酯和大約18摩爾%間苯二酸亞乙酯的共聚酯。
接受層在基片層上的形成可用普通方法實現(xiàn)，例如把聚合物澆注在預(yù)制基片層上。然而，復(fù)合片(基片和接受層)的形成，方便的方法是用共同擠壓來實現(xiàn)，或者是同時共同擠壓各個薄膜形成層，使之通過多孔模的獨立的孔，然后把仍然是熔融態(tài)的各層粘合起來，也可用更好的辦法，用單管道共同擠壓，其中各個聚合物的熔融流首先在通向模的管道內(nèi)接觸，然后流水線上的液流在無攪拌的條件下從?？坠餐瑪D壓，從而可制得復(fù)合片。
共同擠壓過的片再被拉伸，使基片實現(xiàn)分子取向，如上所述，最好要熱定形。一般地，用于拉伸基片層的條件會使接受聚合物部分結(jié)晶，因此最好是在限制尺寸的條件下選擇可生成所需接受層結(jié)構(gòu)的溫度條件下進(jìn)行熱定形。因此，通過在低于接受聚合物的結(jié)晶熔化溫度的溫度下進(jìn)行熱定形并允許或使得復(fù)合物冷卻，接受聚合物將基本上保持結(jié)晶態(tài)。然而，在高于接受聚合物的結(jié)晶熔化溫度的溫度下進(jìn)行熱定形，接受聚合物將基本上保持非晶態(tài)。對有一個聚酯基片和一個共聚酯接受層的接受片進(jìn)行熱定形時，在175-200℃溫度范圍內(nèi)，能得到基本上為晶態(tài)的接受層，在200-250℃溫度范圍內(nèi)，能得到基本上為非晶態(tài)的接受層。
本發(fā)明的接受片的抗靜電層最好是含有(a)乙氧化羥基胺的多氯代醇醚和(b)聚乙二醇二胺，組分(a)和(b)中堿金屬的總含量不超過(a)和(b)總重量的0.5%。
“堿金屬”在此是指在《化學(xué)和物理手冊》第46版，(TheChcmicalRubberCompany)第B3頁上元素周期表的Ⅰ-A族元素。
用來作抗靜電層組分(a)的乙氧化羥基胺的多氯代醇醚最好是有下列化學(xué)式的化合物
其中n1、n2、n3、n4、和n5分別是整數(shù)，n1、n2、n3、n4和n5之和為5到100，最好是10到50，X1、X2、X3、X4和X5可以相同也可以不同，它們分別是-H或-CH2CH(OH)CH2Cl，其條件是X1、X2、X3、X4和X5、中至少一個，最好是兩個或多個是-CH2CH(OH)CH2Cl。這種化合物可以將三(羥甲基)氨基甲烷乙氧化，然后與表氯醇反應(yīng)來制備，如英國專利GB1487374號所述。
用來作抗靜電層組分(b)的聚乙二醇二胺最好是有下列化學(xué)式的化合物H2NCH2CH(OH)CH2〔OCH2CH2〕n6OCH2CH(OH)CH2NH2其中n6是4至80的整數(shù)，最好是6至14的整數(shù)。這種化合物可容易地用表氯醇處理聚乙二醇，然后在有堿，比如有氫氧化鈉存在條件下與氨反應(yīng)來制備。
抗靜電涂層干燥后，為了避免不希望的粉末狀表面沾污的形成，抗靜電介質(zhì)中堿金屬的含量應(yīng)保持在特性范圍。粉末狀表面沾污不但損害了所得到薄片的光清晰度，在薄片的后序處理中也會被擦掉，同時還會干擾后序處理。
合乎要求的是，抗靜電介質(zhì)中堿金屬的含量不應(yīng)超過組分(a)和(b)總重量的0.5%，較好不超過0.3%，最好不超過0.16%。這樣的含量很容易得到，例如在一種合適的溶劑中溶解抗靜電介質(zhì)，然后用過濾法除去一部分堿金屬，之后在一個合適的離子交換柱中進(jìn)行去離子處理。
組分(a)和(b)在抗靜電層中最好以氯化氫的鹽的形式存在，可以是簡單的混合物，也可以是水溶性的部分縮合物，例如把組分溶解在水或水-有機介質(zhì)中，并在低于大約100℃的溫度下，最好是在室溫下攪拌得到部分縮合，直到達(dá)到要求的縮合程度。當(dāng)反應(yīng)混合物的粘度增加到指示出滿意的縮合程度時，部分縮合反應(yīng)可以用水，或者最好是用酸，比如鹽酸，稀釋反應(yīng)混合物來中止?；旌衔锖筒糠挚s合物均可被交聯(lián)，例如通過加熱，以提高抗靜電層的壽命。
抗靜電層中各個組分的相對比例可在很大范圍內(nèi)變化，可期望通過簡單試驗來選擇，得到的抗靜電層使接受片的表面電阻率在50%相對濕度和23℃下不超過12，最好是11.5lg歐姆100平方英尺。希望組分(a)和(b)的重量比為大約0.5∶1至5∶1。
抗靜電層可以在至少一個接受層和/或在基片表面形成。此外，抗靜電層可以混入接受層中。
可以用一般方法在基片的第二面(即不是有接受層的表面)上形成抗靜電層，例如，最好是，尤其含在比較高的擠壓和/或處理溫度下形成的聚酯薄膜基片的情況下，從適當(dāng)?shù)膿]發(fā)介質(zhì)，從經(jīng)濟和易于應(yīng)用考慮，最好是從水介質(zhì)的溶液或分散體中直接把抗靜電層沉積在預(yù)制薄膜基片的至少一個表面上。特別是把抗靜電介質(zhì)用在二軸薄膜拉伸操作的兩個拉伸階段(縱向和橫向)之間做為拉伸中間覆層最好。
抗靜電組分在液態(tài)涂覆介質(zhì)中的濃度尤其取決于所處理薄膜需要的抗靜電性的水平和所用覆層的濕厚度，但有效量適宜從大約0.5至大約10%，最好是從1至5%(重量/體積)。
如果需要，可以加入少量改性劑鹽來提高本發(fā)明接受片的光學(xué)特性和加工性能。如上文所述，最好的改性劑鹽包括選自元素周期表Ⅰ-A、Ⅱ-A、Ⅲ-A和Ⅳ-B族元素的陽離子。一種改性劑，如果使用的話，可以方便地加入到抗靜電覆層介質(zhì)中，其含量可以使陽離子的濃度最高達(dá)組分(a)和(b)重量的0.3%，特別是大約0.05-0.25%。典型的改性劑包括鹽類，比如鈉、鈣、鋁和鋯的氫氧化物和鹵化物，特別是氯化物。
如果需要，覆層介質(zhì)可含少量的，例如占組分(a)和(b)重量的0.5-4.0%的表面活性劑，如乙氧化烷基酚，以助于抗靜電覆層組合物在薄膜表面潤濕。
如果需要，并最好是在覆層介質(zhì)中摻入粒狀物質(zhì)以提高薄片的滑動性、抗阻塞性和一般操作性能?；瑒觿┛砂魏卧谕扛埠蟮谋∧ぜ庸み^程中不形成膜的粒狀材料，例如無機材料，比如二氧化硅、瓷土和碳酸鈣，以及具有高玻璃化溫度的有機聚合物，例如聚甲基丙烯酸甲酯和聚苯乙烯的水分散體。最好的滑動劑是二氧化硅，最好是使用它含有平均直徑12-125nm的顆粒的溶膠?；瑒犹砑觿┑牧孔詈谜几矊痈芍氐?0-40%。
滑動劑最好是包含平均直徑10-50nm的小顆粒和平均直徑為70-150nm的大顆粒的混合物。小顆粒與大顆粒的重量比為2∶1-4∶1為宜。
抗靜電覆層介質(zhì)可以用一般覆層方法覆于基片表面。把使用的覆層介質(zhì)隨后干燥以除去揮發(fā)性介質(zhì)并且也使抗靜電組分交聯(lián)?？梢杂靡话惴椒ǜ稍?，例如讓覆層薄膜基片通過熱空氣烘箱。當(dāng)然，干燥可以在正常的最后成膜處理時完成，比如熱定形。干覆層宜于重大約0.1至大約3.0，最好是0.2至1.0mg/dm2。因此，抗靜電層的厚度一般在0.01-0.3μm，最好在0.02-0.1μm范圍內(nèi)。
本發(fā)明的最佳實施方案是，把UV穩(wěn)定劑加入接受片中使之能抵抗紫外線(UV)輻射。雖然穩(wěn)定劑可用在接受片的任一層中，但最好是用在接受層中。穩(wěn)定劑可包含一種單獨的添加劑，或者最好是在接受聚合物鏈中的共聚物的基。特別是，當(dāng)接受聚合物是聚酯時，聚合物鏈適于包含芳族羰基穩(wěn)定劑的共聚酯化基。相應(yīng)地，這些酯化基包括在歐洲專利公開EP-A-31202公開的二(羥基烷氧基)香豆素的基，EP-A-31203公開的2-羥基-二(羥基烷氧基)二苯甲酮的基、EP-A-66816公開的二(羥基烷氧基)-呫噸-9-酮的基以及EP-A-76582中公開的特別好的羥基-二(羥基烷氧基)-呫噸-9-酮的基。上述穩(wěn)定劑中的烷氧基適宜含有1-10個，最好是2-4個碳原子，例如乙氧基。酯化基的含量宜于為接受聚合物總重量的0.01-30%，最好是0.05-10%。特別好的基是1-羥基-3，6-二(羥基烷氧基)-呫噸-9-酮的基。
如果需要，本發(fā)明的接受片可含一種分離介質(zhì)，它即可在接受層內(nèi)，也可并最好是作為獨立的層置于接受層遠(yuǎn)離基的那一面的至少一部分暴露的表面上。
如果使用分離介質(zhì)的話，應(yīng)能讓從給體片轉(zhuǎn)印的染料滲透，并且含一種分離劑，例如在TTP方法中一般所使用的那種，以提高接受片與給體片的分離特性。合適的分離劑包括固體蠟類、氟化聚合物類，硅油類(最好是固化的)比如環(huán)氧-和/或氨-改性硅油類，尤其是有機多分子硅醚樹脂類。有機多分子硅醚樹脂特別適用于作接受層上至少一部分暴露表面上的獨立層。
如果需要，分離介質(zhì)中還可含粒狀輔助劑。適當(dāng)?shù)?，輔助劑含一種有機的或無機的、平均粒度不超過0.75μm并在TTP操作中所能遇到的溫度下有熱穩(wěn)定性的粒度材料。例如，接受層在轉(zhuǎn)印操作過程中所遇到的溫度最高達(dá)大約290℃并持續(xù)大約幾毫秒(ms)。因此，要求輔助劑在溫度290℃能保持50ms的熱穩(wěn)定。由于在升高溫度下暴露時間短，輔助劑可含標(biāo)定熔化溫度或軟化溫度低于290℃的材料。例如，輔助劑可包括粒狀有機材料，尤其是聚合物材料，比如聚烯烴，聚酰胺，丙烯酸或甲基丙烯酸聚合物。聚甲基丙烯酸甲酯(結(jié)晶體熔化溫度160℃)是合適的。然而，輔助劑最好是含一種無機粒狀材料，尤其是金屬或非金屬氧化物，比如氧化鋁、二氧化鈦和二氧化硅。
分離介質(zhì)中需要的輔助劑的量隨需要的表面特性而變化，一般是使輔助劑與分離劑的重量比在0.25∶1至2.0∶1的范圍內(nèi)。輔助劑含量過高會有損于接受片的光學(xué)特性并阻礙染料透過分離介質(zhì)，而含量過低，通常不能得到所需的表面摩擦性能。輔助劑與分離劑的重量比最好是在0.5∶1至1.5∶1范圍，尤其是在0.75∶1至1.25∶1的范圍，例如1∶1。
為使表面摩擦性能得到所需的控制，輔助劑的平均粒度不應(yīng)超過0.75μm。粒度過大也有損于接受片的光學(xué)性能，比如呈霧狀。輔助劑的平均粒度希望是0.001-0.5μm，最好是0.005-0.2μm。
要求的分離介質(zhì)的摩擦性能特別取決于TTP操作過程使用的相容給體片的性質(zhì)，但一般已看到，當(dāng)接受片使用可使表面靜摩擦系數(shù)為0.075-0.75，最好是0.1-0.5的分離介質(zhì)時可得到滿意的性能。
分離介質(zhì)可以以最高達(dá)大約接受層重量50%的量混入接受層中，或者以放入適當(dāng)?shù)娜軇┗蚍稚┲性俑稍锏姆绞街糜谄浔┞兜谋砻嫔希缭?00-160℃溫度下干燥，或最好是100-120℃，以得到固化了的，干厚度最高達(dá)大約5μm，最好是0.025-2.0μm的分離層。分離介質(zhì)可以在接受片生產(chǎn)過程中的任何適當(dāng)?shù)碾A段使用。因此，如果接受片的基片包含二軸取向的聚合物薄膜，分離介質(zhì)在接受層表面使用可以在脫機后形成拉制后的薄膜，或者在向前和橫向薄膜拉制階段之間作為在線拉伸的中間覆層。
如果需要，分離介質(zhì)還可包含一種表面活性劑，以促使介質(zhì)散開并提高分離介質(zhì)對從給體片轉(zhuǎn)印的染料的可透性。
所述的這種分離介質(zhì)可獲得具有極好光學(xué)性能、表面無缺陷和理想的接收片。它可使各種染料透過并隨后得到多次分離性能，從而接受片可以成功地用不同的單色染料印像以得到全色圖像。尤其是在TTP操作過程中給體片和接受片很容易保持對準(zhǔn)，各個薄片沒有起皺、斷裂或其它損壞的危險。
參考附圖對本發(fā)明說明如下

圖1是TTP接受片1的一部分的縱剖示意圖(不按比例)，接受片1包括聚合物的支持基片2，基片2在其第一表面上有一染料接受層3，在其第二表面上有一抗靜電層4，圖2是一個類似的、局部縱剖示意圖，其中接受片包含一個單獨的分離層5。
圖3是相容TTP給體片6的局部縱剖示意圖(不按比例)，給體片6包含聚合基片7，基片7在其一個表面(正面)上有一在樹脂粘合劑中含有可升華染料的轉(zhuǎn)印層8，在其另一個表面(背面)上有一聚合物保護層9，圖4是TTP方法的縱剖示意圖，以及圖5是已印像的接受片的縱剖示意圖。
參照附圖，尤其是圖4，TTP方法可以通過把給體片和接受片的轉(zhuǎn)印層8和分離層5相接觸，以這種方式使兩片組合來完成。把有許多印刷元件11(圖中只給出一個)的用電驅(qū)動的熱印刷頭10與給體片保護層接觸放置。印刷頭通電使選定的單個印刷元件11變熱，從而使染料從所在的轉(zhuǎn)印層升華通過染料可透過的分離層5進(jìn)入接受層3，在那形成被加熱元件的圖像12。所得到的已印像的接受片與給體片分離后的情況如附圖4所示。
通過使給體片和對于接受片方向推進(jìn)并重復(fù)這一過程，就可以在接受層上產(chǎn)生一個所需形式的多色圖像。
參考下列實施例對本發(fā)明作進(jìn)一步描述，其中材料確定為“ELFUGIN PF”(由Sandoz Products Ltd提供)，分析表明在乙二醇中有(a)型化合物和(b)型化合物的混合物。(a)型化合物中n1+n2+n3+n4+n5＝大約13并有35-50%的X1+X2+X3+X4+X5是-CH2CH(OH)CH2Cl(分子量大約800)，并有分子量為1600-6500的低聚物。(b)型化合物中n6為6-14。活性有機物質(zhì)的總量大約為50%(重量)。
實施例1為制備接受片，把含有聚對苯二酸亞乙酯聚合物及占聚合物重量的18%(重量)的、平均粒度0.5μm的細(xì)分散的粒狀硫酸鋇填料的第一種聚合物的分流與無填料的共聚酯其中含82摩爾%對苯二酸亞乙酯和18摩爾%間苯二酸亞乙酯共聚酯的第二種聚合物的分流從各自擠壓機送入單管道共同擠壓裝置，并擠壓使之通過薄膜形成模到水冷卻的旋轉(zhuǎn)急冷鼓上以得到非晶態(tài)澆注復(fù)合壓出物。把澆注的壓出物加熱到大約80℃的溫度，然后縱向拉伸，向前拉伸比為3.2∶1。
填料的聚酯層的自由表面然后用含下列組分的覆層介質(zhì)水溶液涂覆
‘Elfugin’PF(50%重量/重量150ml乙二醇溶液;
在固體上堿金屬含量＜0.2%重量/重量，由SandozProductsLtd提供)‘Ludox’TM(50%重量/重量，平均24ml粒度為22nm的膠態(tài)二氧化硅水溶液，由Dupont提供)‘Syton’W30(30%重量/重量，平均15.5ml粒度125nm的膠態(tài)二氧化硅水溶液，由Monsanto提供)‘Synperonic’N(乙氧化壬基酚10ml25%重量/重量水溶液，由ICI提供)軟化水達(dá)2，500ml混合物的PH用氨水調(diào)節(jié)到9.0然后把覆層了的縱向拉伸了的薄膜加熱到大約96℃的溫度，并在展幅機烘箱中橫向拉伸，拉伸比3.4∶1。拉伸了的薄膜最后在對尺寸進(jìn)行限制的情況下在大約225℃的溫度下在展幅機烘箱中進(jìn)行熱定形。
所得到的薄片包括一個不透明的、有孔隙的、并有厚度大約150μm的聚對苯二酸亞乙酯填料的主基片層，在其一個表面上有一厚度大約4μm的間苯二酸酯-對苯二酸酯共聚物接受層，在其另一個表面上有一厚度大約35nm的抗靜電層。由于熱定形所使用的溫度，接受層基本上是非晶態(tài)的。
接受片的抗靜電層在50%相對濕度和23℃(IEC93測量電位500V)下表面電阻率大約11.5lg歐姆/100平方英尺。印刷機的進(jìn)料能力是極好的，一疊薄片可以一張張很容易地、順序地而不間斷地送入熱轉(zhuǎn)印機的印刷頭。
實施例2除了覆層介質(zhì)中每一組分的濃度增加一倍外重復(fù)實施例1的程序。
所得到的抗靜電層厚度大約70nm，表面電阻率大約11.3lg歐姆/100平方英尺(IEC93)。
印刷機的進(jìn)料能力還是極好的。
實施例3本例不是本發(fā)明的實施例而是對比例。
除了填料聚酯層的自由表面沒有抗靜電層之外重復(fù)實施例1的程序。未覆層的聚酯層在50%相對濕度和23℃(IEC93測量電位500伏)下表面電阻率＞106lg歐姆/100平方英尺。印刷機的給料性能差，當(dāng)把一疊薄片順序地給入熱轉(zhuǎn)印機的印刷頭時發(fā)生阻塞。
權(quán)利要求
1.一種與相容的給體片聯(lián)合使用的熱轉(zhuǎn)印接受片，該接受片包括一個支持基片，該基片至少在其表面上有(a)一染料接受層以接受從給體片熱轉(zhuǎn)印的染料，其特征在于接受片還包括至少在其一個表面上有(b)一個抗靜電層，該抗靜電層最好是在該基片的第二表面上。
2.權(quán)利要求1的接受片，其中抗靜電層包括(a)乙氧化羥基胺的多氯代醇醚和(b)聚乙二醇二胺，組分(a)和(b)中堿金屬的總含量不超過(a)和(b)的總重量的0.5%。
3.權(quán)利要求2的接受片，其中抗靜電層的組分(a)含有一化學(xué)式如下的化合物
其中n1、n2、n3、n4和n5中每一個均是整數(shù)，n1、n2、n3、n4和n5之和為5到100，X1、X2、X3、X4和X5中每一個可以相同也可不同，它們是-H或-CH2CH(OH)CH2Cl，其條件是X1、X2、X3、X4和X5中至少一個，最好是兩個或更多個是-CH2CH(OH)CH2Cl。
4.權(quán)利要求2和3中任一個所述的接受片，其中抗靜電層的組分(b)包括化學(xué)式如下的化合物H2NCH2CH(OH)CH2〔OCH2CH2〕n6OCH2CH(OH)CH2NH2，其中n6為4到80的整數(shù)。
5.權(quán)利要求2至4中任一個所述的接受片，其中在抗靜電層中，組分(a)和(b)的重量比為(a)∶(b)為0.5∶1至5.0∶1。
6.上述權(quán)利要求中任一個所述的接受片，其中抗靜電層包括一種粒狀滑動劑。
7.上述權(quán)利要求中任一個所述的接受片，其中基片含有有效量的孔隙劑，該孔隙劑中包括一種不相容樹脂填料或一種粒狀無機填料。
8.權(quán)利要求7的接受片，其中填料包括硫酸鋇。
9.上述權(quán)利要求書中任一個所述的接受片，其中基片包括一個取向的熱塑性塑料的聚合物薄膜。
10.上述權(quán)利要求中任一個所述的接受片，其中可接受染料的聚合物包括一種共聚酯。
11.上述權(quán)利要求中任一個所述的接受片，至少在接受層的遠(yuǎn)離基片一面的一部分表面上包括一個分離層。
12.權(quán)利要求11的接受片，其中分離層包括平均粒度不超過0.75μm的輔助劑顆粒。
13.一種制備與相容給體片聯(lián)合使用的熱轉(zhuǎn)印接受片的方法，包括形成一個支持基片，該基片至少在其一個表面上含有(a)一個染料接受層以接受從給體片熱轉(zhuǎn)印的染料，該接受片還至少在其一個表面上包括(b)一個抗靜電層，該抗靜電層最好是在該基片的第二表面上。
14.權(quán)利要求13的方法，其中抗靜電層包括(a)乙氧化羥基胺的多氯代醇醚和(b)聚乙二醇二胺，組分(a)和(b)中堿金屬的總含量不超過(a)和(b)的總重量的0.5%。
全文摘要
一種與相容給體片聯(lián)合使用的熱轉(zhuǎn)印(TTP)接受片，包括一個支持基片，該基片至少在其一個表面上含有(a)一個染料接受層以接受從給體片熱轉(zhuǎn)印的染料，該接受片還至少在其一個表面上含有(b)一個抗靜電層，該抗靜電層最好是在該基片的第二表面上?？轨o電層最好是包括(a)一種乙氧化羥基胺的多氯代醇醚和(b)聚乙二醇胺，組分(a)和(b)中堿金屬的總含量不超過(a)和(b)的總重量的0.5％。
文檔編號B41M5/40GK1038973SQ89106279
公開日1990年1月24日 申請日期1989年6月30日 優(yōu)先權(quán)日1988年6月30日
發(fā)明者查爾斯·理查德·哈特, 約翰·弗朗西斯, 羅杰·沃爾德倫 申請人:帝國化學(xué)工業(yè)公司