拱花饾版的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種拱花饾版，包括底版和凸出于底版上表面的圖案，所述圖案為具有不規(guī)則外形的刻痕，所述圖案的外側(cè)邊界到其鄰近底版的外側(cè)邊的距離小于1.5cm，所述圖案各段刻痕頂端邊棱處均設(shè)為圓弧過(guò)渡。拱花饾版上設(shè)有的凸起的圖案，在印刷工程通過(guò)將宣紙?jiān)趬涸陴澃嫔?，饾版上的圖案即刻印紙宣紙上，形成凸起的拱痕，達(dá)到較佳的立體感效果；在印刷過(guò)程實(shí)行對(duì)各個(gè)饾版循序拱花操作，拼合成一張全圖，層次感較為鮮明。
【專利說(shuō)明】拱花館版
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及拱花恒版。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的印刷技術(shù)中，受限底版結(jié)構(gòu)及印刷工藝，為單色印刷，或者是多種顏色一次上色后印刷，存在色彩不夠豐富或者色彩豐富但圖案層次感不強(qiáng)，顯現(xiàn)不出復(fù)雜圖案的立體感效果來(lái)，沒(méi)有切實(shí)的空間感。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種拱花恒版，可以有效提高圖案的空間層次清晰性，實(shí)現(xiàn)較佳的立體視覺(jué)效果。
[0004]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種拱花恒版，包括底版和凸出于底版上表面的圖案，所述圖案為具有不規(guī)則外形的刻痕，所述圖案的外側(cè)邊界到其鄰近底版的外側(cè)邊的距離小于1.5cm，所述圖案各段刻痕頂端邊棱處均設(shè)為圓弧過(guò)渡。對(duì)圖案到材料板邊緣的距離進(jìn)行尺寸限制，無(wú)論圖案是否規(guī)則，均可以保證恒版的表面積得到最優(yōu)利用，整體面積盡可能小，以便于排版。
[0005]作為一種改進(jìn)，所述圖案的上表面和底版上對(duì)應(yīng)圖案的下凹的刻痕面之間的位差大于0.2cm小于0.5cm。保證刻痕強(qiáng)度。
[0006]作為一種改進(jìn)，所述圖案的上表面和底版上對(duì)應(yīng)圖案的下凹的刻痕面之間的位差為 0.4cm。
[0007]作為一種改進(jìn)，所述圖案的各邊緣處均設(shè)有半徑為0.3cm的圓角。防止拱花操作過(guò)程將宣紙劃破。
[0008]作為一種改進(jìn)，所述底版的厚度大于3cm且小于5cm。
[0009]作為一種改進(jìn),所述底版的厚度為3.5cm。
[0010]本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案，其有益效果在于:拱花恒版上設(shè)有的凸起的圖案，在印刷工程通過(guò)將宣紙?jiān)趬涸诤惆嫔?，使恒版上的圖案刻印紙宣紙上，形成凸起的拱痕，達(dá)到較佳的立體感效果；在印刷過(guò)程實(shí)行對(duì)各個(gè)恒版循序拱花操作，拼合成一張全圖，層次感較為鮮明。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0011]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步說(shuō)明:
[0012]圖1是本實(shí)用新型一種實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0013]如圖1所示本實(shí)用新型一種實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖，一種拱花恒版，包括底版I和凸出于底版上表面的圖案11，所述圖案為具有不規(guī)則外形的刻痕，所述圖案的外側(cè)邊界到其鄰近底版的外側(cè)邊的距離小于1.5cm，所述圖案各段刻痕頂端邊棱處均設(shè)為圓弧過(guò)渡3。對(duì)圖案到材料板邊緣的距離進(jìn)行尺寸限制，無(wú)論圖案是否規(guī)則，均可以保證恒版的表面積得到最優(yōu)利用，整體面積盡可能小，以便于排版。
[0014]本實(shí)施例中，所述圖案的上表面和底版上對(duì)應(yīng)圖案的下凹的刻痕面之間的位差為
0.4cm。保證了刻痕具有較佳的強(qiáng)度，以增加其使用壽命。
[0015]所述圖案的各邊緣處均設(shè)有半徑為0.3cm的圓角。防止拱花操作過(guò)程將宣紙劃破。
[0016]所述底版的厚度為3.5cm。
[0017]除上述優(yōu)選實(shí)施例外，本實(shí)用新型還有其他的實(shí)施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)本實(shí)用新型作出各種改變和變形，只要不脫離本實(shí)用新型的精神，均應(yīng)屬于本實(shí)用新型所附權(quán)利要求所定義的范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種拱花恒版，其特征在于:包括底版(I)和凸出于底版上表面的圖案(11)，所述圖案為具有不規(guī)則外形的刻痕，所述圖案的外側(cè)邊界到其鄰近底版的外側(cè)邊的距離小于1.5cm,所述圖案各段刻痕頂端邊棱處均設(shè)為圓弧過(guò)渡(3)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拱花恒版，其特征在于:所述圖案的上表面和底版上對(duì)應(yīng)圖案的下凹的刻痕面之間的位差大于0.2cm小于0.5cm。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的拱花恒版，其特征在于:所述圖案的上表面和底版上對(duì)應(yīng)圖案的下凹的刻痕面之間的位差為0.4cm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拱花恒版，其特征在于:所述圖案的各邊緣處均設(shè)有半徑為0.3cm的圓角。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拱花恒版，其特征在于:所述底版的厚度大于3cm且小于5cm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拱花恒版，其特征在于:所述底版的厚度為3.5cm。
【文檔編號(hào)】B41N1/24GK203543409SQ201320534638
【公開(kāi)日】2014年4月16日 申請(qǐng)日期:2013年8月29日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月29日
【發(fā)明者】魏立中 申請(qǐng)人:杭州十竹齋版畫藝術(shù)品有限公司