專利名稱：遮光部件、行頭及使用該行頭的圖像形成裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及應(yīng)用于行頭(line head)的遮光部件，對潛像載體的被掃描面 進(jìn)行光的掃描的行頭及圖像形成裝置。
背景技術(shù)：
行頭通過對潛像載體，即對感光體的被掃描面進(jìn)行光的掃描而形成潛 像。該行頭被用作作為圖像形成裝置的電子照相式打印機的光源。作為行 頭，即光打印機頭，例如，如專利文獻(xiàn)1所記載，有使用發(fā)光元件組的， 該發(fā)光元件組通過排列多個發(fā)光元件，即發(fā)光二極管元件(以下稱作 LED: Light Emitting Diode)而構(gòu)成(在該專利文獻(xiàn)1中"LED陣 列")。
在專利文獻(xiàn)1所記載的行頭中，在排列配置多個發(fā)光元件組的同時， 對多個發(fā)光元件組一對一地面對配置多個成像透鏡。而且，還公開了如下 結(jié)構(gòu)在LED陣列之間配置用作遮光部件的遮光板，從而降低來自LED 的光向相鄰的LED陣列或外部漏光而發(fā)生在潛像中出現(xiàn)污斑等的現(xiàn)象，即 所謂的交調(diào)失真。
專利文獻(xiàn)1:日本專利文獻(xiàn)特開平6 — 270468號公報(第4頁，段落 號
，圖l和圖2)

發(fā)明內(nèi)容
(本發(fā)明要解決的問題) 從發(fā)光元件射出的光通過與發(fā)光元件組相對的成像透鏡進(jìn)行成像，在 被掃描面上形成與發(fā)光元件對應(yīng)的點(spot)。在這里，例如當(dāng)成像透鏡的光 學(xué)倍率為0.5倍時，'從發(fā)光元件直接射向成像透鏡的光量是從發(fā)光元件射 出的光量的2.5%左右。剩余的光成為產(chǎn)生交調(diào)失真及雜散光的原因?？梢酝ㄟ^配置在發(fā)光元件和成像透鏡之間的遮光部件來降低交調(diào)失 真。但是，被發(fā)光部件自身反射的光以各種入射角度入射到成像透鏡中， 射向與本應(yīng)形成點的位置偏離較遠(yuǎn)的位置。因雜散光，即因這些被反射的
光，在應(yīng)該形成光板的區(qū)域以外產(chǎn)生所謂的重影(ghost)。由于重影，在 感光體上形成的潛像變得不清晰，通過圖像形成裝置所得的圖像的畫質(zhì)也 降低。
本發(fā)明的目的在于，提供一種少產(chǎn)生雜散光的遮光部件、使用該遮光 部件并防止了重影的產(chǎn)生的行頭及使用該行頭并畫質(zhì)的降低少的圖像形成 裝置。
(解決問題的手段)
為了完成上述目的，本發(fā)明中的行頭包括頭基板，配置有多個將多 個發(fā)光元件組成小組的發(fā)光元件組；透鏡陣列，按每個發(fā)光元件組設(shè)置有 在第一方向上與發(fā)光元件組相面對的透鏡；以及遮光部件，配置在頭基板 和透鏡陣列之間；該行頭特征在于，遮光部件具有在第一方向上隔著空隙 層排列的多個遮光板，在各遮光板上設(shè)置有向所述第一方向貫通的導(dǎo)光孔 并且該導(dǎo)光孔在所述第一方向上面對所述發(fā)光元件組，在第一方向上配置 與發(fā)光元件組相面對的各導(dǎo)光孔而形成導(dǎo)光部，來自發(fā)光元件組的光能夠 通過與該發(fā)光元件組面對設(shè)置的導(dǎo)光部而入射到透鏡中。
另外，為了完成上述目的，本發(fā)明中的圖像形成裝置包括潛像載體和 行頭，該行頭利用透鏡將發(fā)光元件所放射的光形成像，并曝光潛像載體的 表面，所述圖像形成裝置的特征在于，行頭包括頭基板，配置有多個將 多個發(fā)光元件組成小組的發(fā)光元件組；透鏡陣列，按每個發(fā)光元件組設(shè)置 有在第一方向上與發(fā)光元件組相面對的透鏡；以及遮光部件，配置在頭基 板和透鏡陣列之間，遮光部件具有在第一方向上隔著空隙層排列的多個遮 光板，在各遮光板上設(shè)置有向所述第一方向貫通的導(dǎo)光孔并且該導(dǎo)光孔在 所述第一方向上面對所述發(fā)光元件組，在第一方向上配置與發(fā)光元件組相 面對的各導(dǎo)光孔而形成導(dǎo)光部，來自發(fā)光元件組的光能夠通過與該發(fā)光元 件組面對設(shè)置的導(dǎo)光部而入射到透鏡中。 '
另外，為了完成上述目的，本發(fā)明中的遮光部件包括在第一方向上隔著空隙層排列的多個遮光板，遮光部件的特征在于，在遮光板上設(shè)置有向 第一方向貫通的導(dǎo)光孔，以使各個導(dǎo)光孔排列在第一方向上的方式配置多 個遮光板，排列在第一方向上的各導(dǎo)光孔形成導(dǎo)光部，光可通過排列在第 一方向上的導(dǎo)光部，從而在第一方向上貫通多個遮光板。
在如此構(gòu)成的發(fā)明(行頭、圖像形成裝置、遮光部件)中，設(shè)置有排 列在第一方向上的多個遮光板，在各遮光板上設(shè)置有向第一方向貫通的導(dǎo) 光孔。而且，來自發(fā)光元件組的光通過與該發(fā)光元件組面對設(shè)置的各導(dǎo)光 孔而入射到透鏡中。而且，在該發(fā)明中，多個遮光板隔著空隙層排列著， 因此有效地防止了由遮光板引起的反射光入射透鏡。即，盡管有被設(shè)置在 遮光板上的導(dǎo)光孔的邊緣反射的光的一部分入射到透鏡中的情況，但是沒 有被導(dǎo)光孔的邊緣反射而進(jìn)入空隙層的光的大部分在遮光板的表面上被反 射減弱不會入射到透鏡中。從而，防止了由遮光部件引起的反射光入射透 鏡，并可防止雜散光對圖像形成的影響(重影等)。
另外，也可以構(gòu)成為在第一方向上各遮光板之間的空隙層厚度是遮光 板厚度的5 30倍。這是因為，在這種構(gòu)成的情況下，可更有效地防止由 遮光部件弓I起的反射光入射透鏡。
另外，也可以包括空隙層規(guī)定部件，其被配置在第一方向上相鄰的兩 張遮光板之間，來規(guī)定該兩張遮光板之間的空隙層在第一方向上的厚度。 這是因為，通過具備這種空隙層規(guī)定部件，可高精度地設(shè)定空隙層的厚 度。
另外，也可以在所述多個遮光板之中，在頭基板和在第一方向上離頭 基板最近的遮光板之間設(shè)置有間隙。在這種構(gòu)成的情況下，可以使在導(dǎo)光 孔的邊緣上被反射的雜散光減少，同時使進(jìn)入間隙的雜散光增多。而且， 進(jìn)入到該間隙中的光也與進(jìn)入到空隙層中的光相同，其大部分在遮光板的 表面上被反射后減弱而不會入射到透鏡中。從而，更有效地防止了由遮光 部件引起的反射雜散光入射透鏡。
另外，也可以包括間隙規(guī)定部件，其被配置在頭基板和在第一方向上 離頭基板最近的遮光板之間，來規(guī)定間隙在第一方向上的厚度。這是因 為，通過具備這種間隙規(guī)定部件，可高精度地設(shè)定間隙的厚度。另外，也可以在第一方向上間隙的厚度比空隙層的厚度還大。通過這 種構(gòu)成，充分確保了間隙的厚度，因此可以使在導(dǎo)光孔的邊緣上被反射的 光減少，同時使進(jìn)入間隙的光增多，更有效地防止了由遮光部件引起的反 射光入射透鏡。
另外，也可以遮光部件具有三張以上排列在第一方向上的遮光板，在 各遮光板之間的空隙層之中，在第一方向上越是離頭基板近的空隙層，越 具有在第一方向上大的厚度。通過這種構(gòu)成，可向比較遠(yuǎn)離透鏡的空隙層 有效地導(dǎo)入雜散光。從而，能夠使雜散光在對透鏡比較遠(yuǎn)離配置的遮光板 的表面上反射并減弱。因此，更有效地防止了由遮光部件引起的反射光入 射透鏡。
另外，也可以在面對發(fā)光元件組設(shè)置的各導(dǎo)光孔之中，在第一方向上 越是離發(fā)光元件組近的導(dǎo)光孔，越具有寬的寬度。通過這種構(gòu)成，向透鏡 有效地導(dǎo)入曝光所需要的光，因此可保證良好的曝光。
另外，也可以在遮光板的表面上實施有防止光的反射的反射防止層。 這是因為，通過這種構(gòu)成，可更可靠地減弱雜散光。
另外，反射防止層也可以是黑色鍍層。這是因為，通過這種構(gòu)成，能 夠以更簡單的構(gòu)成來形成反射防止層，使行頭的制造工序的簡單化和行頭 的低成本化成為可能。
發(fā)光元件也可以是有機EL元件，另外，有機EL元件也可以是底部發(fā)
光型的。§卩，有機EL元件與LED等相比光量少。特別是，在底部發(fā)光型 的有機EL元件中更處于光量變少的傾向。因此，對于這種構(gòu)成，適合通 過適用本發(fā)明來盡可能防止雜散光對圖像的影響。
本發(fā)明的遮光部件的特征在于，包括多個遮光板和多個導(dǎo)光孔，該多 個導(dǎo)光孔向所述遮光板的厚度方向形成，所述遮光板以連通所述導(dǎo)光孔的 方式隔著空隙層而重疊著。
根據(jù)該發(fā)明，入射到遮光部件的連通的導(dǎo)光孔中的光只在形成于多個 遮光板上的導(dǎo)光孔的內(nèi)表面上被反射。另一方面，射向遮光板之間的空隙 層的光被遮光板反射而射向入射方向。而且，射向遮光板之間的空隙層的 光經(jīng)多次反射被減弱。從而，可得到因反射而通過遮光部件的雜散光的產(chǎn)生少的遮光部件。
在本發(fā)明中，所述空隙層的厚度優(yōu)選為所述遮光板的厚度的5 30倍。
在該發(fā)明中，與在遮光板的厚度方向上形成的導(dǎo)光孔的內(nèi)表面的高度 相比，空隙層的厚度厚達(dá)其5 30倍，因此使在導(dǎo)光孔的內(nèi)表面上反射的 光量比射向空隙層的光量少。從而，可得到因反射而通過遮光部件的雜散 光的產(chǎn)生更少的遮光部件。
在本發(fā)明中，所述遮光部件優(yōu)選在重疊的所述遮光板的最外側(cè)的遮光 板中任一側(cè)上具備凹部。
在該發(fā)明中，在從凹部側(cè)入射的光之中，射向凹部的量多，進(jìn)一步抑 制了在導(dǎo)光孔的內(nèi)表面上的反射。
在本發(fā)明中，優(yōu)選所述凹部的深度比所述空隙層的厚度更深。在該發(fā) 明中，在光入射附近的導(dǎo)光孔內(nèi)表面上反射的每單位面積的光反射量比在 遠(yuǎn)離光入射位置的導(dǎo)光孔內(nèi)表面上反射的多。由于凹部的深度比空隙層的 厚度更深，因此在從凹部側(cè)入射的光之中射向凹部的量進(jìn)一步增多，從而 能夠得到通過遮光部件的雜散光更少的遮光部件。
在本發(fā)明中，優(yōu)選設(shè)置在所述遮光板之間的所述空隙層的厚度隨著接 近所述凹部而變厚。
在該發(fā)明中，隨著接近凹部，空隙層的厚度也變厚，因此在從凹部側(cè) 入射的光之中射向空隙層的量進(jìn)一步增多，從而能夠得到通過遮光部件的 雜散光更少的遮光部件。
在本發(fā)明中，優(yōu)選設(shè)置在所述遮光板上的所述導(dǎo)光孔的大小隨著接近 所述凹部而變大。
在該發(fā)明中，能夠更多地導(dǎo)入從凹部側(cè)入射的光，并且能夠進(jìn)一步防 止從凹部側(cè)入射的光的反射。
本發(fā)明的行頭包括基板；多個發(fā)光元件組，其具有多個發(fā)光元件， 并且被離散地排列配置在所述基板上；多個成像透鏡，對所述發(fā)光元件組
一對一地被面對配置，并且各自將屬于所面對的所述發(fā)光元件組的多個所
述發(fā)光元件所放射的光成像在被掃描面上；遮光部件，位于所述基板和所述成像透鏡之間。所述行頭特征在于所述遮光部件包括多個遮光板和多 個導(dǎo)光孔，該多個導(dǎo)光孔向所述遮光板的厚度方向形成；所述遮光板隔著 空隙層重疊以使得所述導(dǎo)光孔在所述發(fā)光元件組和所面對的所述成像透鏡 之間相互連通。
根據(jù)本發(fā)明，發(fā)光元件放射的光入射到遮光部件的連通的導(dǎo)光孔中， 在形成于多個遮光板上的導(dǎo)光孔的內(nèi)表面反射。另一方面，射向遮光板之 間的空隙層的光被遮光板反射而射向入射方向。而且，射向遮光板之間的 空隙層的光經(jīng)多次反射后減弱。從而，能夠得到在導(dǎo)光孔的內(nèi)表面上反射 后通過遮光部件的雜散光的產(chǎn)生少，防止了由入射到成像透鏡中的雜散光 引起的重影的產(chǎn)生的行頭。
在本發(fā)明中，所述空隙層的厚度優(yōu)選為所述遮光板的厚度的5 30倍。
在該發(fā)明中，因為具備了具有前述的效果的遮光部件，所以能夠得到 可更可靠地完成前述的效果的行頭。
在本發(fā)明中，所述遮光板優(yōu)選在與所述基板相面對的面上具備凹部。 在該發(fā)明中，因為具備了具有前述的效果的遮光部件，所以能夠得到可更 可靠地完成前述的效果的行頭。
在本發(fā)明中，優(yōu)選所述凹部的深度比所述空隙層的厚度更深。在該發(fā) 明中，因為具備了具有前述的效果的遮光部件，所以能夠得到可更可靠地 完成前述的效果的行頭。
在本發(fā)明中，優(yōu)選設(shè)置在所述遮光板之間的所述空隙層的厚度隨著接 近所述凹部而變厚。
在該發(fā)明中，因為具備了具有前述的效果的遮光部件，所以能夠得到 可更可靠地完成前述的效果的行頭。
在本發(fā)明中，優(yōu)選設(shè)置在所述遮光板上的所述導(dǎo)光孔的大小隨著接近 所述凹部而變大。
在該發(fā)明中，因為具備了具有前述的效果的遮光部件，所以能夠得到 可更可靠地完成前述的效果的行頭。 '
本發(fā)明的圖像形成裝置的特征在于包括潛像載體，其表面被向副掃描方向運送；以及曝光單元，具有與將所述潛像載體的表面用作被掃描面 在該潛像載體表面上形成點的上述的行頭相同的構(gòu)成。
根據(jù)該發(fā)明，因為圖像形成裝置具有用作能夠完成前述效果的曝光單 元的行頭，所以能夠在用作被掃描面的潛像載體表面上形成防止產(chǎn)生重影 的點。從而，能夠得到潛像清晰、畫質(zhì)的降低小的圖像形成裝置。


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圖1是示意性地示出涉及本發(fā)明的第一實施方式的圖像形成裝置的部 分圖2是一次轉(zhuǎn)印單元的簡要放大圖3是示出行頭的簡要立體圖4是行頭的副掃描方向的截面圖5是示出微透鏡陣列的簡要立體圖6是微透鏡陣列的主掃描方向的截面圖7是示出多個發(fā)光元件組的配置的圖8是玻璃基板、遮光部件及微透鏡陣列附近的部分放大截面圖； 圖9是示出行頭的點形成動作的圖10是比較了由本發(fā)明第一實施方式中的圖像形成裝置形成的圖像 和用以往的遮光板形成的圖像的圖11是本發(fā)明第二實施方式中的玻璃基板、遮光部件及微透鏡陣列 附近的部分放大截面圖12是本發(fā)明第三實施方式中的玻璃基板、遮光部件及微透鏡陣列 附近的部分放大截面圖13是本發(fā)明第四實施方式中的感光體、玻璃基板、遮光部件、以 及微透鏡陣列附近的部分放大截面圖14是本發(fā)明第五實施方式中的行頭的部分截面圖15是說明通過設(shè)置間隙而產(chǎn)生的作用效果的圖16是本發(fā)明第六實施方式中的行頭的部分截面圖。
具體實施例方式
下面，根據(jù)

本發(fā)明的實施方式。 (第一實施方式)
圖1是示意性地并且部分地示出本發(fā)明第一實施方式中的圖像形成裝 置1的圖。圖像形成裝置1是使用將調(diào)色劑粒子分散到液體載體中而得的 液體顯影劑來形成圖像的裝置。而且，對于旋轉(zhuǎn)的部件，用實線箭頭示出 旋轉(zhuǎn)方向。在圖1中，圖像形成裝置l包括中間轉(zhuǎn)印帶10，其是無接頭 的中間轉(zhuǎn)印介質(zhì)；驅(qū)動輥11及從動輥12，張掛中間轉(zhuǎn)印帶10; 二次轉(zhuǎn)印 裝置14;中間轉(zhuǎn)印帶清潔裝置15;以及一次轉(zhuǎn)印單元。 一次轉(zhuǎn)印單元包 括與黃色(Y)、品紅色(M)、青色(C)、以及黑色(K)各種顏色對
應(yīng)的一次轉(zhuǎn)印單元50Y、 一次轉(zhuǎn)印單元50M、 一次轉(zhuǎn)印單元50C、以及一 次轉(zhuǎn)印單元50K。下面，對于與各顏色對應(yīng)的裝置和部件，也在各裝置和 部件等的符號上附上各自表示各顏色的Y、 M、 C、以及K來進(jìn)行標(biāo)記。
而且，雖然沒有圖示，圖像形成裝置1與進(jìn)行二次轉(zhuǎn)印的以往的一般 圖像形成裝置一樣，在二次轉(zhuǎn)印裝置14的轉(zhuǎn)印材料運送方向上游側(cè)，例 如包括容納紙張等轉(zhuǎn)印材料的轉(zhuǎn)印材料容納裝置、和從該轉(zhuǎn)印材料容納裝 置向二次轉(zhuǎn)印裝置14運送供應(yīng)轉(zhuǎn)印材料的輥對。在圖1中，用虛線箭頭 示出了轉(zhuǎn)印材料的運送方向。另外，該圖像形成裝置l在二次轉(zhuǎn)印裝置14 的轉(zhuǎn)印材料運送方向上的下游側(cè)包括定影裝置和排紙托盤。
在圖1中，中間轉(zhuǎn)印帶10張掛在相互分開配置的一對驅(qū)動輥11和從 動輥12上，設(shè)置成可向逆時針方向旋轉(zhuǎn)。從提高向紙張等轉(zhuǎn)印材料的二 次轉(zhuǎn)印的轉(zhuǎn)印效果的觀點出發(fā)，優(yōu)選將該中間轉(zhuǎn)印帶IO做成彈性中間轉(zhuǎn) 印帶。
另外，在圖像形成裝置1中，從中間轉(zhuǎn)印帶10的旋轉(zhuǎn)方向上游側(cè)開 始以Y、 M、 C、 K的順序依次配置了各一次轉(zhuǎn)印單元50Y、 50M、 50C、 50K。但是，顏色Y、 M、 C、 K的配置順序可以任意設(shè)定。而且，中間轉(zhuǎn) 印帶IO也能夠由中間轉(zhuǎn)印鼓構(gòu)成。
在中間轉(zhuǎn)印帶10的驅(qū)動輥11側(cè)設(shè)置有二次轉(zhuǎn)印裝置14，另外在中間 轉(zhuǎn)印帶10的從動輥12側(cè)設(shè)置有中間轉(zhuǎn)印帶清潔裝置15。二次轉(zhuǎn)印裝置14具備二次轉(zhuǎn)印輥43。該二次轉(zhuǎn)印輥43使紙張等轉(zhuǎn)印
材料與掛在驅(qū)動輥11上的中間轉(zhuǎn)印帶IO抵接，中間轉(zhuǎn)印帶IO上的各顏色
的調(diào)色劑像將組合的彩色調(diào)色劑像轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印材料上。在這種情況下，驅(qū) 動輥11也作為二次轉(zhuǎn)印時的輔助輥發(fā)揮功能。
二次轉(zhuǎn)印裝置14包括二次轉(zhuǎn)印輥清潔器46和二次轉(zhuǎn)印輥清潔器回收 液貯存容器47。 二次轉(zhuǎn)印輥清潔器46由橡膠等彈性體形成。而且，該二 次轉(zhuǎn)印輥清潔器46通過與二次轉(zhuǎn)印輥43抵接來刮落除去二次轉(zhuǎn)印后殘留 在二次轉(zhuǎn)印輥43的表面上的液體顯影劑。另外，二次轉(zhuǎn)印輥清潔器回收 液貯存容器47回收貯存被二次轉(zhuǎn)印輥清潔器46從二次轉(zhuǎn)印輥43刮落的液 體顯影劑。
中間轉(zhuǎn)印帶清潔裝置15具備中間轉(zhuǎn)印帶清潔器44和中間轉(zhuǎn)印帶清潔 器回收液]ie存容器45。中間轉(zhuǎn)印帶清潔器44通過與中間轉(zhuǎn)印帶IO抵接來 刮落除去二次轉(zhuǎn)印后殘留在中間轉(zhuǎn)印帶10的表面上的液體顯影劑。在這 種情況下，從動輥12也作為清潔中間轉(zhuǎn)印帶時的輔助輥發(fā)揮功能。該中 間轉(zhuǎn)印帶清潔器44由橡膠等彈性體構(gòu)成。另外，中間轉(zhuǎn)印帶清潔器回收 液tt存容器45回收貯存中間轉(zhuǎn)印帶清潔器44從中間轉(zhuǎn)印帶10刮落的液體 顯影劑。
各一次轉(zhuǎn)印單元50Y、 50M、 50C、 50K包括各自對應(yīng)的顯影裝置 50Y、 50M、 50C、 50K; —次轉(zhuǎn)印裝置7Y、 7M、 7C、 7K;以及串聯(lián)配置 的黃色(Y)、品紅色(M)、青色(C)、黑色(K)的潛像載體、即感 光體2Y、 2M、 2C、 2K。
另外，在各一次轉(zhuǎn)印裝置7Y、 7M、 7C、 7K的中間轉(zhuǎn)印帶10旋轉(zhuǎn)方 向下游側(cè)的各一次轉(zhuǎn)印裝置7Y、 7M、 7C、 7K附近各自配置有中間轉(zhuǎn)印 帶擠壓裝置BY、 13M、 13C、 13K。
在圖1所示的例中，各感光體2Y、 2M、 2C、 2K都由感光體鼓構(gòu) 成。而且，如圖1中實線箭頭所示，這些感光體2Y、 2M、 2C、 2K動作 時向順時針方向旋轉(zhuǎn)。而且，各感光體2Y、 2M、 2C、 2K也可以構(gòu)成為 無接頭帶狀。
各一次轉(zhuǎn)印裝置7Y、 7M、 7C、 7K各自具備使中間轉(zhuǎn)印帶10與各感光體2Y、 2M、 2C、 2K抵接的一次轉(zhuǎn)印用的輔助輥37Y、 37M、 37C、 37K。
下面，以一次轉(zhuǎn)印單元50Y為例詳細(xì)說明一次轉(zhuǎn)印單元50Y、 50M、 50C、 50K。 一次轉(zhuǎn)印單元50M、 50C、 50K的構(gòu)成要素只是涉及顏色M、 C、 K的不同，其余的構(gòu)成及配置都與一次轉(zhuǎn)印單元50Y相同。
在圖2示出了一次轉(zhuǎn)印單元50Y的簡要放大圖。
在感光體2Y的周圍從旋轉(zhuǎn)方向上游開始依次配設(shè)有帶電部件3Y、 用作曝光單元的行頭4Y、顯影裝置5Y、感光體擠壓裝置6Y、 一次轉(zhuǎn)印 裝置7Y、以及除電裝置8Y。
帶電部件3Y例如由帶電輥構(gòu)成。從沒有圖示的電源裝置向帶電部件 3Y施加與液體顯影劑的帶電極性同極性的偏壓。從而帶電部件3Y使感光 體2Y帶電。
行頭4Y例如通過從使用有機EL元件、LED的掃描光學(xué)系統(tǒng)等向感 光體2Y的表面200照射光來在帶電的感光體2Y上形成靜電潛像。另外， 行頭4Y與感光體2Y分開配置。用從行頭4Y引出的實線箭頭示出了光的 照射方向。
而且，掃描光學(xué)系統(tǒng)的掃描方向以垂直于圖2的紙面的方向為主掃描 方向XX、以與主掃描方向XX正交并且與被照射光的感光體2Y的表面 200相切的方向為副掃描方向YY。
下面，根據(jù)圖詳細(xì)說明本實施方式中的行頭4Y。圖3是示出本實施 方式中的行頭4Y的簡要立體圖。另外，圖4是行頭4Y沿副掃描方向YY 的截面圖。
在圖3中，行頭4Y具有排列在主掃描方向XX上的發(fā)光元件組410。 發(fā)光元件組410具有多個發(fā)光元件411。如圖2所示，這些發(fā)光元件411 向通過帶電部件3Y而帶電的感光體2Y的被掃描面、即表面200照射光， 在表面200上形成靜電潛像。
在圖3中，行頭4Y具備以主掃描方向XX為長度方向的殼420，并且 在該殼420的兩端設(shè)置有定位銷421和螺釘插入孔422。通過將該定位銷 421嵌入沒有圖示的貫穿設(shè)置在感光體蓋上的定位孔中來使行頭4Y相對于感光體2Y定位。感光體蓋在覆蓋圖2所示的感光體2Y的同時，相對于感 光體2Y被定位。另外，經(jīng)螺釘插入孔422將固定螺釘獰入固定在感光體 蓋的螺釘孔(省略圖示)中，從而使行頭4Y相對于感光體2Y定位固定。
在圖3和圖4中，殼420在與感光體2Y的表面200相面對的位置上 保持排列了成像透鏡的微透鏡陣列430，并且在其內(nèi)部，按照離微透鏡陣 列430由近及遠(yuǎn)的順序依次具有用作遮光部的遮光部件440和用作基板的 玻璃基板450。玻璃基板450是透明基板。
在玻璃基板450的背面452 (在玻璃基板450具有的兩個面之中與面 對于遮光部件440的正面451相反側(cè)的面)上設(shè)置有多個發(fā)光元件組 410。如圖3所示，在玻璃基板450的背面452上二維并離散地排列配置多 個發(fā)光元件組410，并且使其在主掃描方向XX和副掃描方向YY上相互 只間隔預(yù)定的距離。在此，如圖3中用圓圈兒圈上的部分所示，多個發(fā)光 元件411通過二維排列而構(gòu)成了多個各發(fā)光元件組410。
在本實施方式中，將有機EL用作發(fā)光元件。即，在實施方式中，在 玻璃基板450的背面配置用作發(fā)光元件411的有機EL。而且，從多個各發(fā) 光元件411向感光體2Y方向射出的光經(jīng)玻璃基板450射向遮光部件440。
發(fā)光元件也可以是LED。在這種情況下，基板可以不是玻璃基板，能 夠?qū)ED設(shè)置在正面451。
在圖3和圖4中，遮光部件440由遮光板445和遮光板442隔著空隙 層443疊加形成。在遮光板445上粘貼有遮光板441。在此，空隙層443 的厚度大致相同。
在遮光板441和遮光板442上以對多個發(fā)光元件組410 —對一的方式 形成有多個導(dǎo)光孔444。另外，在遮光板445上設(shè)置有光圈孔446。
玻璃基板450和與玻璃基板450相面對的遮光板441之間設(shè)置有空隙 層447。空隙層443和空隙層447的厚度大致相同。
在此，將遮光部件440作為單獨體取出時，空隙層447成為凹部 (447)。
以使設(shè)置在遮光板441和遮光板442上的導(dǎo)光孔444和設(shè)置在遮光板 445上的光圈孔446連通的方式，隔著空隙層443重疊有遮光板441、 442和遮光板445。在本實施方式中，以將垂直于對玻璃基板450的線平行的
線(在圖中用單點劃線示出)作為中心軸進(jìn)行連通的方式重疊。
在圖3和圖4中，發(fā)光元件組410的發(fā)光元件411放射的光被與該發(fā) 光元件組410 —對一地對應(yīng)的導(dǎo)光孔444和光圈孔446引導(dǎo)到微透鏡陣列 430中。然后，如雙點劃線所示，微透鏡陣列430使通過了設(shè)置在遮光部 件440上的導(dǎo)光孔444的光在感光體2Y的表面200上成像為點。
如圖4所示，后背蓋470被固定器具460隔著玻璃基板450推壓在殼 420上。即，固定器具460具有將后背蓋470向殼420側(cè)推壓的彈性力， 同時通過使這種彈性力推壓后背蓋470來光密性地(即，使光不從殼420 內(nèi)部漏出，以及使光不從殼420外部進(jìn)入)密閉殼420內(nèi)部。并且，在圖 3示出的殼420的長度方向的多處設(shè)置有固定器具460。而且，密封部件 480覆蓋發(fā)光元件組410。
在本實施方式中，例如遮光板441的厚度為0.40mm左右，遮光板 442、 445的厚度為0.03mm?？赏ㄟ^蝕刻加工、壓力加工，在遮光板 441、 442上形成導(dǎo)光孔444和光圈孔446。這些孔的直徑各不相同并且為 lmm左右，孔間的距離為0.10mm 0.16mm。眾所周知，如果材質(zhì)為金屬 并且孔間的距離為板厚的1.5倍左右，則可通過壓力加工來開出多個孔。
在本實施方式中，使導(dǎo)光孔444的直徑全部為l.OOmm，使光圈孔446 為0.80mm。
形成遮光板441、 442及445的材料為金屬，例如除了磷青銅還可以 使用合成樹脂、陶瓷等。
圖5是示出微透鏡陣列430的簡要立體圖。圖6是微透鏡陣列430沿 主掃描方向XX的截面圖。
微透鏡陣列430具有玻璃基板431，同時具有多個透鏡對，該透鏡對 由以夾持玻璃基板431的方式一對一配置的兩枚透鏡432、 433構(gòu)成。并 且，這些透鏡432、 433可由樹脂形成。
在圖6中，在玻璃基板431的正面434上配置多個透鏡432，并且以 與多個透鏡432 —對一地相對應(yīng)的方式，在玻璃基板431的背面435上配 置多個透鏡433。而且，構(gòu)成透鏡對的兩個透鏡432、 433互相共享圖中用單點劃線示出的光軸OA。而且，這些多個透鏡對被配置成與圖3示出的 多個發(fā)光元件組410 —對一。并且，在本說明書中，將一對一地成對的透
鏡432、 433和被該透鏡對所夾持的玻璃基板431形成的光學(xué)系統(tǒng)稱作 "微透鏡ML"。用作成像透鏡的微透鏡ML對應(yīng)發(fā)光元件組410的配置 被二維配置成在主掃描方向XX和副掃描方向YY上相隔預(yù)定間隔。
圖7是示出多個發(fā)光元件組410的配置的圖。在本實施方式中，通過 在副掃描方向YY上排列兩行發(fā)光元件列L411而構(gòu)成一個發(fā)光元件組 410，該發(fā)光元件列L411是通過在主掃描方向XX上每隔預(yù)定間隔排列四 個發(fā)光元件411而構(gòu)成的。g卩，八個發(fā)光元件411對應(yīng)本圖的用雙點劃線 圓形示出的一個微透鏡ML的外徑位置而構(gòu)成發(fā)光元件組410。而且，多 個發(fā)光元件組410如下進(jìn)行配置。
以在副掃描方向YY上排列三行發(fā)光元件組列L410 (組列)的方式二 維配置發(fā)光元件組410，該發(fā)光元件組列L410是通過在主掃描方向XX上 排列預(yù)定數(shù)量(二個以上)的發(fā)光元件組410而構(gòu)成的。而且，所有發(fā)光 元件組410配置在互不相同的主掃描方向位置上。并且，以使主掃描方向 位置相鄰的發(fā)光元件組(例如，發(fā)光元件組410C1和發(fā)光元件組410B1) 在副掃描方向上位置互不相同的方式配置多個發(fā)光元件組410。
而且，主掃描方向位置和副掃描方向位置意味著各注視位置的主掃描 方向成分和副掃描方向成分。而且，在本說明書中，"發(fā)光元件組的幾何 重心"意味著屬于同一發(fā)光元件組410的所有發(fā)光元件411位置的幾何重 心。在下面，將幾何重心的位置表示為幾何重心位置EO。
圖8示出玻璃基板450、遮光部件440及微透鏡陣列430附近的部分 放大截面圖。在部分放大截面圖中一并示出了發(fā)光元件組410放射的光的 前進(jìn)狀況。
在圖8中，對應(yīng)圖7示出的發(fā)光元件組410的配置，在遮光部件440 上設(shè)置導(dǎo)光孔444和光圈孔446a、 446b并配置了微透鏡ML。即，在本實 施方式中，發(fā)光元件組410的幾何重心位置E0、導(dǎo)光孔444和光圈孔 446a的中心軸、以及圖6示出的微透鏡ML的光軸OA大致一致。而且， 發(fā)光元件組410放射的光通過對應(yīng)的導(dǎo)光孔444和光圈孔446b后入射到微透鏡陣列430，同時由微透鏡ML在圖4示出的感光體2Y的表面200上成 像為點。在圖8中，在玻璃基板450的背面452上離散地排列配置有多個發(fā)光 元件組410。遮光部件440被配置成其一側(cè)面與玻璃基板450的正面451相面對， 同時另一側(cè)面與微透鏡陣列430相面對。在發(fā)光元件組410放射的光之中，用實線表示從發(fā)光元件組410的幾 何重心位置EO放射的光的光路、用虛線表示從距離幾何重心位置EO最遠(yuǎn) 的位置放射的光的光路。雙點劃線表示被擋斷的光。如這種光路所示，從 各位置放射的光入射玻璃基板450的背面452后，從玻璃基板450的正面 451射出。然后，從玻璃基板450的正面451射出的光通過導(dǎo)光孔444和 光圈孔446a、 446b，透過微透鏡陣列430，最后到達(dá)圖2和圖4中所示的 用作被掃描面的感光體2Y表面200。下面，詳細(xì)說明光路。例如，在從位置E1放射的光之中，射向光圈孔446a的光412、 413、 414通過光圈孔446a后到達(dá)微透鏡ML。在此，導(dǎo)光孔444直徑的大小形 成為不妨礙射向光圈孔446a內(nèi)的光的大小。光圈孔446a、 446b規(guī)定入射微透鏡ML的光。從而，可通過光圈孔 446a、 446b來調(diào)整光量、焦點深度等。而且，使遮光板441變厚是為了防 止向相鄰的微透鏡ML漏光。下面，以從位置El射出的光為例說明射向空隙層443的光。例如， 光415、 416射向空隙層443，在遮光板442的與玻璃基板450相面對的面 被反射。光415、 416的光量因反射而減弱。而且，反射的光415、 416還 在遮光板442的與微透鏡陣列430相面對的面被反射。從而，被遮光板 442的面多次反射的光的光量進(jìn)一步減弱。與導(dǎo)光孔444的內(nèi)表面的面積相比，空隙層443的厚度厚，因此在導(dǎo) 光孔444的內(nèi)表面被反射的光的光量少。在此，空隙層443的厚度比遮光 板441的厚度還厚，優(yōu)選有5倍以上的，這是因為可減少在導(dǎo)光孔444的 內(nèi)表面被反射的光的光量。空隙層443的厚度的上限為光學(xué)系統(tǒng)所規(guī)定的從發(fā)光元件組410到微透鏡陣列430的距離，即，雖然由遮光部件440的 厚度和遮光板442的厚度及張數(shù)決定，但優(yōu)選30倍以下。而且，為了通過反射使光415、 416的強度更有效地減弱，在遮光板 442的表面上施加反射防止層，例如，可以實施眾所周知的黑色鍍層。本實施方式的光學(xué)系統(tǒng)是使發(fā)光元件組410在圖2和圖4示出的感光 體2Y的表面200上縮小成像的所謂的縮小光學(xué)系統(tǒng)。另外，從發(fā)光元件組410的幾何重心位置EO放射的光在成為感光體 2Y的表面200和圖6示出的微透鏡ML光軸OA的交點的成像位置上成 像。如上述，在本實施方式中，這是因為發(fā)光元件組410的幾何重心位置 E0位于微透鏡ML的光軸OA之上。另外，從位置El放射的光成像于在圖6示出的主掃描方向XX上夾 持微透鏡ML光軸OA的相反側(cè)位置上。g卩，微透鏡ML是具有翻轉(zhuǎn)特性 的所謂的倒立光學(xué)系統(tǒng)。而且，因是縮小光學(xué)系統(tǒng)，感光體2Y的表面200上的從幾何重心位 置E0放射的光的成像位置和從位置El放射的光的成像位置的距離變成比 發(fā)光元件組410上的幾何重心位置E0和位置El的距離變短。在本實施方式中，微透鏡ML作為本發(fā)明中的"成像透鏡"而發(fā)揮功能。圖9是示出行頭4Y進(jìn)行的點形成動作的圖。由點的集合形成靜電潛像。下面，用圖7、圖9說明實施方式中的行頭進(jìn)行的點形成動作。而 且，為了便于理解發(fā)明，在此說明通過在沿主掃描方向XX延伸的直線上 排列形成多個點的情況。在本實施方式中， 一邊在副掃描方向YY上運送 感光體2Y的表面200， 一邊使多個發(fā)光元件在預(yù)定的定時發(fā)光，從而在 沿主掃描方向XX延伸的直線上排列形成多個點。在圖7中，對應(yīng)副掃描方向位置Y1 Y6的各位置，本實施方式的行 頭4Y在副掃描方向YY上配置有六列發(fā)光元件列L411。使位于副掃描方 向YY的同一位置的發(fā)光元件列L411在大致同一定時發(fā)光，并且使位于 副掃描方向YY的不同位置的發(fā)光元件列L411在互不相同的定時發(fā)光。更具體地說，以副掃描方向位置Y1 Y6的順序，使發(fā)光元件列L411發(fā) 光。然后， 一邊在副掃描方向YY上運送感光體2Y的表面200， 一邊以上 述的順序使發(fā)光元件列L411發(fā)光，從而在表面200的沿主掃描方向XX 延伸的直線上排列形成多個點。用圖7、圖9說明這種動作。首先，使屬于在副掃描方向YY上最上 游的發(fā)光元件組410Al、 410A2、 410A3、…的、副掃描方向位置Yl的發(fā) 光元件列L411的發(fā)光元件411發(fā)光。通過該發(fā)光動作放射的多個光被微 透鏡ML翻轉(zhuǎn)放大并成像在感光體2Y的表面200上，該微透鏡ML是具 有上述的翻轉(zhuǎn)放大特性的"成像透鏡"。即，在圖9的"第一次"的陰影 線位置上形成點。在本圖中，空心圓圈表示還沒形成并將要形成的點。而且，在本圖 中，用標(biāo)記410C1、 410B1、 410A1、 410C2標(biāo)注的點表示由與各自被標(biāo)注 上的標(biāo)記對應(yīng)的發(fā)光元件組410形成的點。接著，使屬于在副掃描方向YY上最上游的發(fā)光元件組410Al、 410A2、 410A3、…的、副掃描方向位置Y2的發(fā)光元件列L411的發(fā)光元 件411發(fā)光。通過該發(fā)光動作而放射的多個光被微透鏡ML翻轉(zhuǎn)放大并成 像在感光體2Y的表面200上。即，圖9，在"第二次"的陰影線位置上形 成點。在此，雖然感光體2Y的表面200的運送方向是副掃描方向YY，但 是使從副掃描方向YY的下游側(cè)的發(fā)光元件列L411開始依次(即，以副 掃描方向位置Yl、 Y2的順序)發(fā)光。這是為了對應(yīng)微透鏡ML的翻轉(zhuǎn)特 性。接著，使屬于從副掃描方向YY的上游側(cè)第二位的發(fā)光元件組 410Bl、 410B2、 410B3、…的、副掃描方向位置Y3的發(fā)光元件列L411的 發(fā)光元件411發(fā)光。通過該發(fā)光動作而放射的多個光被微透鏡ML翻轉(zhuǎn)放 大并成像在感光體2Y的表面200上。即，在圖9的"第三次"的陰影線 位置上形成點。接著，使屬于發(fā)光元件組410Bl、 410B2、 410B3、…的、副掃描方向 位置Y4的發(fā)光元件列L411的發(fā)光元件411發(fā)光。通過該發(fā)光動作而放射 的多個光被微透鏡ML翻轉(zhuǎn)放大并成像在感光體2Y的表面200上。艮P，在圖9的"第四次"的陰影線位置上形成點。接著，使屬于在副掃描方向YY上最下游的發(fā)光元件組410Cl、410C2、 410C3、…的、副掃描方向位置Y5的發(fā)光元件列L411的發(fā)光元 件411發(fā)光。通過該發(fā)光動作而放射的多個光被微透鏡ML翻轉(zhuǎn)放大并成 像在感光體2Y的表面200上。即，在圖9的"第五次"的陰影線位置上 形成點。最后，使屬于發(fā)光元件組410Cl、 410C2、 410C3、…的、副掃描方向 位置Y6的發(fā)光元件列L411的發(fā)光元件411發(fā)光。通過該發(fā)光動作而放射 的多個光被微透鏡ML翻轉(zhuǎn)放大并成像在感光體2Y的表面200上。艮口， 在圖9的"第六次"的陰影線位置上形成點。如此，通過執(zhí)行1 6次的 發(fā)光動作，在沿主掃描方向XX延伸的直線上排列形成多個點。下面，返回圖2說明顯影裝置5Y。顯影裝置5Y通過液體顯影劑21Y 來顯影形成在感光體2Y上的靜電潛像。圖2，顯影裝置5Y分別包括顯影劑供應(yīng)部16Y;顯影輥17Y;壓實 輥18Y;顯影輥清潔器19Y;以及顯影輥清潔器回收液貯存部20Y。顯影劑供應(yīng)部16Y分別包括顯影劑容器22Y，容納調(diào)色劑及由不揮 發(fā)性的液體載體形成的液體顯影劑21Y;顯影劑汲取輥23Y;網(wǎng)紋輥 (Anilox roller) 24Y;以及顯影劑控制片25Y。在被容納于顯影劑容器22Y內(nèi)部的液體顯影劑21Y中，對于調(diào)色劑， 可使用向被用于調(diào)色劑的公知的熱可塑性樹脂中分散同樣公知的顏料等著 色劑的例如平均粒徑lpm的粒子。而且，要得到低粘性低濃度的液體顯影 劑，對于液體載體，例如可利用有機溶媒、苯甲基聚硅氧烷、二甲基聚硅 氧垸、以及聚二甲基環(huán)硅氧垸等燃點210。C以上的硅氧油、礦物油等絕緣 性液體載體。并且，液體顯影劑21Y是將調(diào)色劑粒子與分散劑一起添加到 液體載體中并使調(diào)色劑固形部分濃度為約20%的顯影劑。顯影劑汲取輥23Y是各自汲取顯影劑容器22Y內(nèi)的液體顯影劑21Y 而向網(wǎng)紋輥24Y供應(yīng)的輥。顯影劑汲取輥23Y向圖2中箭頭所示的順時針 方向旋轉(zhuǎn)。而且，網(wǎng)紋輥24Y是圓筒形的部件，在表面上均勻地形成了微 細(xì)并且螺旋狀的槽。槽的尺寸例如設(shè)定為槽距約130pm、槽深約30pm。當(dāng)然，槽的尺寸不限定在這些值。網(wǎng)紋輥24Y以與顯影輥17Y相同的旋轉(zhuǎn)方向，向圖2中箭頭所示的逆時針方向旋轉(zhuǎn)。而且，網(wǎng)紋輥24Y也可以跟 隨顯影輥17Y的旋轉(zhuǎn)而向順時針方向旋轉(zhuǎn)。gp，網(wǎng)紋輥24Y的旋轉(zhuǎn)方向不 是限定的，而是任意的。顯影劑控制片25Y抵接設(shè)置在網(wǎng)紋輥24Y的表面上。這些顯影劑控制 片25Y包括抵接于網(wǎng)紋輥24Y的表面的、由聚氨酯橡膠等形成的橡膠 部；和支撐該橡膠部的金屬等質(zhì)地的板。顯影劑控制片25Y用橡膠部刮落 除去附著在網(wǎng)紋輥24Y的槽部以外表面上的液體顯影劑21Y。因此，網(wǎng)紋 輥24Y只將附著在那些槽部內(nèi)的液體顯影劑21Y供應(yīng)到各顯影輥17Y 上。顯影輥17Y例如在鐵等金屬軸的外周上具備了導(dǎo)電性聚氨酯等導(dǎo)電性 樹脂層和由導(dǎo)電性橡膠形成的預(yù)定寬度的圓筒形的導(dǎo)電性彈性體。這些顯 影輥17Y抵接于感光體2Y，并且向圖2中箭頭所示的逆時針方向旋轉(zhuǎn)。壓實輥18Y抵接配置在與那些外周表面對應(yīng)的顯影輥17Y的外周表面 上。此時，壓實輥18Y和顯影輥17Y互相吃入預(yù)定量。壓實輥18Y向圖2中箭頭所示的順時針方向旋轉(zhuǎn)。而且，壓實輥18Y 通過分別被施加電壓，使對應(yīng)的顯影輥17Y帶電。在這種情況下，向壓實 輥18Y的施加電壓分別被設(shè)定為直流電壓(DC)。也可以將向壓實輥 18Y的施加電壓分別設(shè)定為向直流電壓(DC)疊加了交流電壓(AC)的 電壓。壓實輥18Y在使顯影輥17Y帶電的過程中，對顯影輥17Y上的液體 顯影劑21Y進(jìn)行接觸轉(zhuǎn)壓。在由壓實輥18Y進(jìn)行的接觸轉(zhuǎn)壓當(dāng)中，分別將顯影輥17Y上的液體顯 影劑21Y推壓在顯影輥17Y上。在壓實輥18Y上分別設(shè)置有壓實輥清潔器片26Y和壓實輥清潔器回收 液貯存部27Y。這些壓實輥清潔器片26Y抵接于各自對應(yīng)的壓實輥18Y的 表面，例如由橡膠等構(gòu)成，用于刮落除去殘留在壓實輥18Y上的液體顯影 劑21Y。'而且，壓實輥清潔器回收液貯存部27Y由貯存壓實輥清潔器片 26Y從壓實輥18Y刮落的液體顯影劑21Y的罐等容器構(gòu)成。顯影輥清潔器19Y由抵接于顯影輥17Y的表面的例如橡膠等構(gòu)成，并用于刮落除去殘留在顯影輥17Y上的液體顯影劑21Y。而且，顯影輥清潔 器回收液貯存部20Y分別由貯存顯影輥清潔器片19Y從顯影輥17Y刮落 的液體顯影劑21Y的罐等容器構(gòu)成。圖像形成裝置1具有各自向顯影劑容器22Y補給液體顯影劑21Y的顯 影劑補給裝置28Y。這些顯影劑補給裝置28Y分別包括調(diào)色劑罐29Y、載 體罐30Y、以及攪拌裝置31Y。調(diào)色劑罐29Y中分別容納有高濃度液體調(diào)色劑32Y。載體罐30Y中容 納有液體載體(載體油)33Y。而且，攪拌裝置31Y形成被供應(yīng)來自調(diào)色 劑罐29Y的預(yù)定量高濃度液體調(diào)色劑32Y和來自載體罐30Y的預(yù)定量液 體載體33Y的結(jié)構(gòu)。攪拌裝置31Y通過分別混合攪拌被供應(yīng)的高濃度液體調(diào)色劑32Y和液 體載體33Y來制作在顯影裝置5Y中使用的液體顯影劑21Y。在這種情況 下，優(yōu)選液體顯影劑21Y整體的粘度為100mPas 1000mPas，液體載體 (載體油)單獨的粘度為10mPas 200mPas。粘度的測定方法例如使用粘 彈性測定裝置ARES (TA儀器，日本制)測定。在攪拌裝置31Y制作的 液體顯影劑21Y各自被供應(yīng)到顯影劑容器22Y中。感光體擠壓裝置6Y包括擠壓輥34Y、擠壓輥清潔器35Y、以及擠壓 輥清潔器回收液貯存容器36Y。各擠壓輥34Y設(shè)置在感光體2Y和顯影輥 17Y的抵接部(壓印部)的感光體2Y旋轉(zhuǎn)方向下游側(cè)。而且，擠壓輥 34Y對感光體2Y逆向(在圖2中逆時針轉(zhuǎn))旋轉(zhuǎn)，除去感光體2Y上的液 體顯影劑21Y。對于擠壓輥34Y，都適合使用在金屬制芯棒的表面上配置了導(dǎo)電性聚 氨酯橡膠等彈性部件和氟樹脂制表層的彈性輥。擠壓輥清潔器35Y都由橡 膠等彈性體形成，并抵接于各自所對應(yīng)的擠壓輥34Y的表面，刮落除去殘 留在這些擠壓輥34Y上的液體顯影劑21Y。而且，擠壓輥清潔器回收液貯 存容器36Y是貯存各自所對應(yīng)的擠壓輥清潔器35Y刮落的液體顯影劑21Y 的罐等容器。 '輔助輥37Y被施加與調(diào)色劑粒子的帶電極性相反極性的例如一200V，向中間轉(zhuǎn)印帶10—次轉(zhuǎn)印由感光體2Y上的液體顯影劑21Y形成的像。而且，除電裝置8Y除去一次轉(zhuǎn)印后殘留在感光體2Y上的電荷。中間轉(zhuǎn)印帶擠壓裝置13Y分別包括中間轉(zhuǎn)印帶擠壓輥40Y、中間轉(zhuǎn)印 帶擠壓輥清潔器41Y、以及中間轉(zhuǎn)印帶擠壓輥清潔器回收液貯存容器 42Y。中間轉(zhuǎn)印帶擠壓輥40Y是回收中間轉(zhuǎn)印帶10上的液體顯影劑21Y 的。中間轉(zhuǎn)印帶擠壓輥清潔器41Y是撓取分別回收的中間轉(zhuǎn)印帶擠壓輥 40Y輥上的液體顯影劑21Y的。這些中間轉(zhuǎn)印帶擠壓輥清潔器41Y與擠壓 輥清潔器35Y同樣，也是由橡膠等彈性體構(gòu)成。而且，中間轉(zhuǎn)印帶擠壓輥 清潔器回收液貯存容器42Y是回收貯存在中間轉(zhuǎn)印帶擠壓輥清潔器41 Y上 撓取的液體顯影劑21Y的。如果圖像形成動作開始，則帶電部件3Y使感光體2Y均勻帶電。接 著，通過行頭4Y，在感光體2Y上形成靜電潛像。接著，在顯影裝置5Y中，黃色(Y)的液體顯影劑21Y被顯影劑汲 取輥23Y汲上來。顯影劑控制片25Y使附著在網(wǎng)紋輥24Y上的液體顯影 劑21Y適量附著到網(wǎng)紋輥24Y的槽內(nèi)。該網(wǎng)紋輥24Y槽內(nèi)的液體顯影劑 21Y被供應(yīng)到顯影輥17Y上。此時，網(wǎng)紋輥24Y槽內(nèi)的液體顯影劑21Y的一部分向網(wǎng)紋輥24Y的 左右兩端側(cè)移動。而且，顯影輥17Y上的液體顯影劑21Y的黃色(Y)調(diào) 色劑粒子被壓實輥18Y的接觸壓實推壓在該顯影輥17Y上。顯影輥17Y上的液體顯影劑21Y在被壓實的狀態(tài)下，被顯影輥17Y 的旋轉(zhuǎn)運向感光體2Y—側(cè)。結(jié)束由壓實輥18Y的接觸壓實后殘留在壓實輥18Y上的液體顯影劑 21Y被壓實輥清潔器片26Y從壓實輥18Y上除去。對形成于黃色(Y)的感光體2Y上的靜電潛像，在顯影裝置5Y中用 黃色(Y)的液體顯影劑21Y顯影，并且在感光體2Y上用黃色(Y)的液 體顯影劑21Y形成像。完成顯影后殘留在顯影輥17Y上的液體顯影劑21Y 被顯影輥清潔器19Y從顯影輥17Y上除去。感光體2Y上的由黃色(Y) 的液體顯影劑21Y形成的像被擠壓輥34Y回收感光體2Y上的液體顯影劑 21Y，形成黃色(Y)的調(diào)色劑像。而且，該黃色(Y)的調(diào)色劑像在一次轉(zhuǎn)印裝置7Y中被轉(zhuǎn)印到中間轉(zhuǎn)印帶10上。中間轉(zhuǎn)印帶10上的黃色(Y)的調(diào)色劑像一邊被中間轉(zhuǎn)印帶擠壓輥40Y回收中間轉(zhuǎn)印帶10上的液體顯 影劑21Y， 一邊被運向圖l所示的品紅色(M)的一次轉(zhuǎn)印裝置7M側(cè)。在圖1中，接著，對形成于品紅色(M)的感光體2M上的靜電潛 像，在顯影裝置5M中與黃色(Y)的情況一樣用品紅色(M)的液體顯 影劑顯影，并且在感光體2M上由品紅色(M)的液體顯影劑形成像。此時，結(jié)束由壓實輥18M的接觸壓實后殘留在壓實輥18M上的載體 被壓實輥清潔器片26M從壓實輥18M上除去。而且，完成顯影后殘留在 顯影輥17M上的液體顯影劑被顯影輥清潔器19M從顯影輥17M上除去。感光體2M上的由品紅色(M)的液體顯影劑形成的像被擠壓輥34M 回收感光體2M上的液體顯影劑，形成品紅色(M)的調(diào)色劑像，該品紅 色(M)的調(diào)色劑像在一次轉(zhuǎn)印裝置7M中被轉(zhuǎn)印到中間轉(zhuǎn)印帶IO上與黃 色(Y)的調(diào)色劑像疊加。同樣，被疊加的黃色(Y)和品紅色(M)的調(diào) 色劑像被中間轉(zhuǎn)印帶擠壓輥40Y回收中間轉(zhuǎn)印帶10上的液體顯影劑，一 邊被運向青色(C)的一次轉(zhuǎn)印裝置7C —側(cè)。下面同樣，青色(C)的調(diào) 色劑像及黑色的調(diào)色劑像在轉(zhuǎn)印到中間轉(zhuǎn)印帶10上依次進(jìn)行顏色疊加， 在中間轉(zhuǎn)印帶IO上形成全色的調(diào)色劑像。接著，由二次轉(zhuǎn)印裝置14將中間轉(zhuǎn)印帶10上的彩色調(diào)色劑像二次轉(zhuǎn) 印到紙張等轉(zhuǎn)印材料的轉(zhuǎn)印面上。被轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印材料上的彩色調(diào)色劑像被 與以往同樣的沒有圖示的定影器定影，形成全色的定影像的轉(zhuǎn)印材料被運 送到排紙托盤，結(jié)束彩色圖像形成動作。圖10是比較了由涉及本實施方式的圖像形成裝置1形成的圖像和用 以往的遮光部件形成的圖像的圖。以往的遮光部件是在遮光部件上設(shè)置有 一個貫通的導(dǎo)光孔，并且導(dǎo)光孔的內(nèi)面沒有被空隙層分割的遮光部件。在以往例中，文字的輪廓不清晰，特別是文字的線和線的間隔的形成 不好。相反，與以往例相比，在本實施方式中，文字的輪廓清晰，也能夠 確認(rèn)出文字的線和線的間隔的形成。本實施方式有以下的效果。 ' (1)入射到遮光部件440的連通的導(dǎo)光孔444中的光只在形成于多個遮光板442上的導(dǎo)光孔444的內(nèi)表面上被反射。另一方面，射向遮光板 442之間的空隙層443的光被遮光板442反射而射向入射方向。而且，射 向遮光板442之間的空隙層443的光經(jīng)多次反射被減弱。從而，可得到由 反射引起的雜散光的產(chǎn)生少的遮光部件440。
(2) 與在遮光板442的厚度方向上形成的導(dǎo)光孔444的內(nèi)表面的高 度相比，空隙層443的厚度厚達(dá)其5 30倍，因此可使在導(dǎo)光孔444的內(nèi) 表面上反射的光量比射向空隙層443的光量少。從而，可得到雜散光的產(chǎn) 生更少的遮光部件440。
(3) 在從凹部447 (空隙層447)側(cè)入射的光之中，射向凹部447的 量多。從而，能夠進(jìn)一步防止在導(dǎo)光孔444的內(nèi)表面上的反射。
(4) 發(fā)光元件411放射的光入射到遮光部件440的連通的導(dǎo)光孔444 中，并只在形成于多個遮光板442上的導(dǎo)光孔444的內(nèi)表面被反射。另一 方面，射向遮光板442之間的空隙層443的光被遮光板442反射而射向入 射方向。而且，射向遮光板442之間的空隙層443的光經(jīng)多次反射被減 弱。從而，能夠得到在導(dǎo)光孔444的內(nèi)表面上反射后通過遮光部件440的 雜散光的產(chǎn)生少，防止了由入射到微透鏡ML中的雜散光引起的重影的產(chǎn) 生的行頭4Y、 4M、 4C、 4K。
(5) 圖像形成裝置1具有能夠完成前述的效果的行頭4Y、 4M、 4C、 4K，因此能夠在表面200上形成防止了重影的產(chǎn)生的點。從而，能夠 得到點清晰，畫質(zhì)的降低小的圖像形成裝置。
(第二實施方式)
本實施方式中的圖像形成裝置及行頭與第一實施方式相比，遮光部件 的結(jié)構(gòu)不同。除遮光部件以外的結(jié)構(gòu)與第一實施方式相同。
圖11是涉及本發(fā)明的第二實施方式的玻璃基板450、遮光部件490及 微透鏡陣列430附近的部分放大截面圖。
在圖11中，本實施方式的遮光部件490的結(jié)構(gòu)的不同之處有遮光 板445和遮光板442之間的空隙層443厚度dl;遮光板442之間的空隙層 443厚度d2、 d3、 d4;以及遮光板442和玻璃基板450之間的空隙層447 厚度d5。以使dl、 d2、 d3、 d4、 d5之間的關(guān)系形成為各自的間隔為dl<d2<d3<d4<d5的方式配置有遮光板442、 445。其它的遮光部件490的 結(jié)構(gòu)與第一實施方式相同。
這種實施方式加上前述的實施方式的效果還具有以下的效果。
(6) 在光的入射位置附近的導(dǎo)光孔444的內(nèi)表面上反射的每單位面 積的反射光量比在遠(yuǎn)離光的入射位置的導(dǎo)光孔444的內(nèi)表面上反射的每單 位面積的反射光量多。凹部447 (空隙層447)的深度比空隙層443的厚 度深，因此在從凹部447側(cè)入射的光之中使射向凹部447的量進(jìn)一步增 多。從而，能夠得到雜散光更少的遮光部件490、防止了由雜散光引起的 重影的產(chǎn)生的行頭4Y、 4M、 4C、 4K以及畫質(zhì)的降低小的圖像形成裝 置。
(7) 隨著接近凹部447，空隙層443的厚度也變厚，因此在從凹部 447側(cè)入射的光之中使射向空隙層443的量進(jìn)一步增多。從而，能夠得到 雜散光更少的遮光部件490、防止了由雜散光引起的重影的產(chǎn)生的行頭 4Y、 4M、 4C、 4K以及畫質(zhì)的降低小的圖像形成裝置。
(第三實施方式)
本實施方式中的圖像形成裝置及行頭與第二實施方式相比，遮光部件 的結(jié)構(gòu)不同。除遮光部件以外的結(jié)構(gòu)與第二實施方式相同。
圖12是涉及本發(fā)明的第三實施方式的玻璃基板450、遮光部件491及
微透鏡陣列430附近的部分放大截面圖。
在圖12中，本實施方式的遮光部件491的構(gòu)成是導(dǎo)光孔444的大小按 每遮光板442而不同的。具體地說，如果將離微透鏡430最近的遮光板 442的導(dǎo)光孔444的寬度作為wl、朝向玻璃基板450將遮光板442的導(dǎo)光 孔444的寬度作為w2、 w3、 w4，則各自的導(dǎo)光孔的寬度為wl<w2<w3 <w4。遮光板445和遮光板442之間的間隔dl、遮光板442之間的間隔 d2、 d3、 d4以及遮光板442和玻璃基板450之間的間隔d5與第二實施方 式相同。
這種實施方式加上前述的實施方式的效果還具有以下的效果。 (7)能夠更多地導(dǎo)入從凹部447側(cè)入射的光，并且能夠進(jìn)一步抑制 從凹部447側(cè)入射的光的反射。(第四實施方式)
本實施方式中的圖像形成裝置及行頭與第一實施方式相比，遮光部件 的結(jié)構(gòu)不同。除遮光部件以外的結(jié)構(gòu)與第一實施方式相同。
圖13是涉及本發(fā)明的第四實施方式的感光體2Y、玻璃基板450、遮 光部件492、以及微透鏡陣列430附近的部分放大截面圖。
在圖13中，本實施方式的遮光部件492由5張遮光板構(gòu)成。遮光板 448厚度都相同，并且與微透鏡陣列430相面對側(cè)的2張遮光板448被粘 合起來。遮光板448之間的空隙層449的厚度d6都相同，并且以等間隔的 方式配置有遮光板448。另一方面，面對于玻璃基板450的遮光板448和 玻璃基板450之間的空隙層447的厚度d7比厚度d6大。其它的遮光部件 492的構(gòu)成與第一實施方式相同。
這種實施方式具有以下的效果。 (8)用具有相同厚度、相同導(dǎo)光孔的遮光板448構(gòu)成了遮光部件 492。從而，能夠得到容易制造并降低了制造成本的遮光部件492。 (第五實施方式)
圖14是本發(fā)明第五實施方式中的行頭的部分截面圖，并且是圖3和 圖7示出的A-A截面圖。即，在本實施方式的行頭4Y等中，由在副掃 描方向YY上配置于互相不同的位置上的3個發(fā)光元件組410 (例如，發(fā) 光元件組410A2、 410B2、 410C2)構(gòu)成發(fā)光元件組列，構(gòu)成該發(fā)光元件組 列的3個發(fā)光元件組410在主掃描方向XX上相互錯開距離P。其結(jié)果， 發(fā)光元件組列中的3個發(fā)光元件組410的排列方向A-A相對于副掃描方 向YY傾斜。在此，在圖14中示出了這種A-A線的行頭4Y等的截面。
如圖14所示，在玻璃基板450 (頭基板)的背面上形成有將多個發(fā)光 元件441組成小組的發(fā)光元件組410。該構(gòu)成發(fā)光元件組410的發(fā)光元件 411是形成在玻璃基板450的背面的、所謂的底部發(fā)光型的有機EL元件。 在光的行進(jìn)方向Doa (第一方向)上，在與玻璃基板450相面對的位置配 置有微透鏡陣列430。在微透鏡陣列430中，在光的行進(jìn)方向Doa上與發(fā) 光元件組410相面對的位置上配置有微透鏡ML。按每個發(fā)光元件組410 面對配置有該微透鏡ML，由發(fā)光元件組410放射的光束入射到面對配置的微透鏡ML中。而且，光的行進(jìn)方向Doa是從發(fā)光元件組410朝向微透 鏡ML的方向，并且是與主掃描方向XX和副掃描方向YY正交或近似正 交的方向。
玻璃基板450和微透鏡陣列430之間設(shè)置有遮光部件440。在該遮光 基板440中面對玻璃基板450配置有遮光板442、 445。在光的行進(jìn)方向 Doa上排列配置有這些4張遮光板442 (442 - 1、 442 -2、 442- 3、 442 -4)和遮光板445。具體地說，這些遮光板442、 445從離玻璃基板450近 處開始以遮光板442 -4、 442-3、 442-2、 442 - 1、 445的順序排列著。 在這些遮光板442、 445的表面上實施有用作防止光的反射的反射防止層 的黑色鍍層。在各遮光板442、 445之間夾插有空隙層規(guī)定部件712。該空 隙層規(guī)定部件712設(shè)置在A-A線方向(換言之，副掃描方向YY)的兩 端，通過該空隙層規(guī)定部件712，在光的行進(jìn)方向Doa上規(guī)定各遮光板 442、 445之間的空隙層443厚度。g卩，在該實施方式中，遮光板442、 445隔著空隙層443在光的行進(jìn)方向Doa上排列著。而且，各空隙層443 在光的行進(jìn)方向Doa上的厚度dl、 d2、 d3、 d4滿足關(guān)系式dl<d2<d3 <d4。如此在多個空隙層443之中，越接近玻璃基板450的空隙層，越具 有大的厚度。
在多個遮光板442、 445之中，在與玻璃基板450最近的遮光板442 -4和玻璃基板450之間夾插有間隙規(guī)定部件711。該間隙規(guī)定部件711設(shè)置 在A-A線方向(換言之，副掃描方向YY)的兩端，通過該間隙規(guī)定部 件711，在光的行進(jìn)方向Doa上規(guī)定遮光板442 -4和玻璃基板450之間的 間隙447的厚度d5。而且，間隙447的厚度比各空隙層443的厚度dl d4 大。如此在本實施方式中，作為被遮光板442 -4和間隙規(guī)定部件711包 圍并向玻璃基板450側(cè)開口的空間，形成有凹部。該凹部的深度相當(dāng)于間 隙447的厚度d5。
在遮光板445和微透鏡陣列430之間設(shè)置有遮光板441。該遮光板 441在光的行進(jìn)方向Doa方向上抵接配置在遮光板445上。
如此，各遮光板442、 445、 441以各自的厚度方向與光的行進(jìn)方向 Doa平行或近似平行的方式排列著。然后在被排列的各遮光板442、 445、441上向該方向Doa貫通形成有導(dǎo)光孔444。按每個發(fā)光元件組410設(shè)置 有該導(dǎo)光孔444，并且在光的行進(jìn)方向上與發(fā)光元件組410相面對地貫穿 設(shè)置著。因此，對同一個發(fā)光元件組295設(shè)置的各導(dǎo)光孔444會在光的行 進(jìn)方向上排列。具體地說，各導(dǎo)光孔從離發(fā)光元件組410近處開始以導(dǎo)光 孑L 444 -4、 444 - 3、 444 -2、 444 - 1、 444 - 5、 444 - 6的順序排列著。 在此，導(dǎo)光孔444 - 4、 444 - 3、 444 - 2、 444 - 1是分別設(shè)置在遮光板 442 -4、 442 -3、 442-2、 442- 1上的導(dǎo)光孔，導(dǎo)光孔444 - 5是設(shè)置在 遮光板445上的導(dǎo)光孔，導(dǎo)光孔444 - 6是設(shè)置在遮光板441上的導(dǎo)光孔。 如此，通過排列導(dǎo)光孔444 - 4、 444 - 3、 444 - 2、 444 - 1、 444 - 5、 444 -6形成有導(dǎo)光孔444P。因此，發(fā)光元件組410放射的光束通過面對 于該發(fā)光元件組410設(shè)置的各導(dǎo)光孔444-4、 444 -3、 444 -2、 444- 1、 444 - 5、 444 - 6 (換言之，通過導(dǎo)光部444P)入射到微透鏡ML中。而 且，各導(dǎo)光孔444具有以面對的微透鏡ML光軸OA為對稱中心的形狀。
導(dǎo)光孔444- 1、 444 -2、 444 - 3各自的寬度wl w3設(shè)定為近似相 同。導(dǎo)光孔444 -4的寬度w4設(shè)定為比寬度wl w3稍微大。而且，導(dǎo)光 孔444 - 5的寬度w5設(shè)定為比寬度wl w4還小。如此，設(shè)定了遮光板 445的導(dǎo)光孔444- 5的寬度w5，因此導(dǎo)光孔444- 5作為對射向微透鏡 ML的入射光進(jìn)行調(diào)節(jié)的開口光圈而發(fā)揮功能。另外，導(dǎo)光孔444 _6的寬 度w6設(shè)定為了比該導(dǎo)光孔444 - 5的寬度w5大得足夠多，使得通過了導(dǎo) 光孔444 - 5的光束不會被遮光板441不必要地遮擋。
在如上述的第五實施方式中，設(shè)置有在光的行進(jìn)方向Doa (第一方 向)上排列的多個遮光板442、 445，在各遮光板442、 445上設(shè)置有向方 向Doa貫通的導(dǎo)光孔444。而且，多個遮光板442、 445隔著空隙層443排 列著。從而，有效地防止了由遮光板440引起的反射光入射微透鏡ML。 即，盡管有被設(shè)置在遮光板442上的導(dǎo)光孔444的邊緣444E反射的光 (例如，圖14的雜散光SL0)的一部分入射到微透鏡ML中的情況，但是 沒有被導(dǎo)光孔444的邊緣444E反射而進(jìn)入空隙層443的光的大部分在遮 光板442的表面上被反射減弱不會入射到微透鏡ML中。如果用圖14示 例，則雜散光SL1、 SL3、 SL5都不會入射到導(dǎo)光孔444的邊緣444E而入射到空隙層443中，從而，這些雜散光SL1、 SL3、 SL5在遮光板442的背 面上被反射而掉轉(zhuǎn)行進(jìn)方向，因此在遮光板442的正面或者玻璃基板450 的正面上再次被反射。如此，雜散光SL1、 SL3、 SL5被反射多次，因此 其大部分被減弱而不會入射到微透鏡ML中。如此，在第五實施方式中， 因為在各遮光板442、 445之間設(shè)置了空隙層443，所以防止了由遮光部件 440引起的反射光入射微透鏡，并可防止雜散光對圖像形成的影響(重影 等)。
而且，從上述的討論能夠知道，可以說空隙層443具有使雜散光減弱 的雜散光減弱功能。因此，從防止雜散光入射微透鏡ML的觀點出發(fā)，優(yōu) 選使在導(dǎo)光孔444的邊緣上被反射的雜散光減少，而使進(jìn)入空隙層443的 雜散光增多。在此，也可以構(gòu)成為在光的行進(jìn)方向Doa上各遮光板442、 445之間的空隙層443厚度是遮光板442、 445厚度的5 30倍。通過如此 構(gòu)成，形成更多的雜散光進(jìn)入空隙層443，可更有效地防止雜散光入射微 透鏡ML。
另外，在第五實施方式中，設(shè)置有被配置于在光的行進(jìn)方向Doa上相 鄰的兩張遮光板442、 445 (例如，遮光板442- 3、 442 -2)之間而規(guī)定 該兩張遮光板442、 445之間的空隙層443在方向Doa上的厚度(例如， d3)的空隙層規(guī)定部件712。從而，只通過調(diào)節(jié)該空隙層規(guī)定部件712， 就可以高精度地設(shè)定空隙層443的厚度，使第五實施方式處于合適狀態(tài)。
另外，在第五實施方式中，在多個遮光板442、 445之中，在光的行 進(jìn)方向Doa上離玻璃基板450 (頭基板)最近的遮光板442-4和玻璃基板 450之間設(shè)置有間隙447。從而，可以使在導(dǎo)光孔444的邊緣444E上被反 射的雜散光減少，同時使進(jìn)入間隙447的雜散光增多。該理由為如下所 述。
圖15是說明通過設(shè)置間隙而產(chǎn)生的作用效果的圖，并且示出在主掃 描方向XX上的部分截面。在該圖，為了容易理解作用效果， 一并記載有 用于做比較的、在遮光板442- 1和玻璃基板450之間設(shè)置了充分大的間 隙447的情況(該圖，間隔配置)和幾乎沒設(shè)置間隙447的情況(該圖， 靠近配置)。在此，考慮來自位于發(fā)光元件組410的主掃描方向XX端部的發(fā)光元件411的雜散光SL0。從該圖明顯看出，當(dāng)將從發(fā)光元件441看
導(dǎo)光孔444的邊緣444E的角度為視角0時，在靠近配置情況下的視角01 和在間隔配置情況下的視角02的大小關(guān)系式為01>02。在此，視角0相 當(dāng)于從發(fā)光元件411的中心覆蓋導(dǎo)光孔444的邊緣444E在方向Doa上的 厚度d442的角度。g卩，與靠近配置的情況相比，將遮光板442-l與玻璃 基板450間隔配置的情況的視角0小，因此可將在導(dǎo)光孔444的邊緣444E 上被反射的雜散光SL0抑制得較少。也就是說，通過設(shè)置間隙447，可使 在導(dǎo)光孔444的邊緣444E上被反射的雜散光SL0減少，另一方面使進(jìn)入 間隙447的光增多。而且，進(jìn)入到該間隙447中的光也與進(jìn)入到空隙層 443中的光相同，其大部分在遮光板442的表面上被反射后減弱而不會入 射到微透鏡ML中。從而，更有效地防止了由遮光部件440引起的反射雜 散光入射微透鏡ML。
另外，在第五實施方式中，設(shè)置有被配置于在光的行進(jìn)方向Doa上與 玻璃基板450最近的遮光板442 - 4和玻璃基板450之間而規(guī)定間隙711在 方向Doa上的厚度的間隙規(guī)定部件711。從而，只通過調(diào)節(jié)該間隙規(guī)定部 件711，就可以高精度地設(shè)定間隙447的厚度d5，使第五實施方式處于合 適狀態(tài)。
另外，在第五實施方式中，光的行進(jìn)方向Doa的間隙447的厚度d5 比空隙層443厚度dl d4大，充分確保了間隙447的厚度d5。從而，可 以使在導(dǎo)光孔444的邊緣444E上被反射的雜散光SLO減少，另一方面使 進(jìn)入間隙447的光增多，更有效地防止了由遮光部件440引起的反射光入 射微透鏡ML。
另外，在第五實施方式中，遮光部件440具有三張以上在光的行進(jìn)方 向Doa上排列的遮光板442、 445。而且，在各遮光板442、 445之間的空 隙層443之中，在方向Doa上越是離玻璃基板450近的空隙層443，越具 有在方向Doa上大的厚度。從而，可以向比較遠(yuǎn)離微透鏡ML的空隙層 443有效地導(dǎo)入雜散光。從而，能夠使雜散光在對微透鏡ML比較遠(yuǎn)離配 置的遮光板442的表面上反射并減弱。因此，更有效地防止了由遮光部件 440引起的反射光入射微透鏡ML。另外，在第五實施方式中，在遮光板442、 445的表面上實施有防止
光的反射的反射防止層。從而，可以更可靠地減弱雜散光。而且，該反射 防止層為黑色鍍層。因此，能夠以更簡單的結(jié)構(gòu)來形成反射防止層，使行
頭40Y等的制造工序的簡單化和行頭40Y等的低成本化成為可能。
另外，在第五實施方式中，發(fā)光元件411為有機EL元件。該有機EL 元件與LED等相比光量少。而且，如上述實施方式，在底部發(fā)光型的有機 EL元件中，更處于光量變少的傾向。因此，對于如此構(gòu)成發(fā)光元件411的 行頭40Y等，適合通過適用本發(fā)明來盡可能防止雜散光對圖像的影響。 第六實施方式
圖16是本發(fā)明第六實施方式中的行頭的部分截面圖，并且是圖3和 圖7示出的A-A截面圖。在下面，主要對與上述的第五實施方式不同點 進(jìn)行說明，對于共同部分只標(biāo)注相等標(biāo)號而省略說明。在第六實施方式 中，沒有設(shè)置間隙規(guī)定部件711和空隙層規(guī)定部件712，取而代之的是， 在A-A線的兩端部設(shè)置有外框713、 713。這些713、 713構(gòu)成為相互朝 著內(nèi)側(cè)面對并在各外框713的內(nèi)側(cè)具有五個層7131 7135的臺階狀。然 后在相面對的兩個層上以架跨的方式載置遮光板442、 445。即，在互相面 對的7131、 7131上載置有遮光板442- 1，在其它的層對7132、 7132等上 也同樣地載置有遮光板442、 445。
如此遮光板442、 445被載置在臺階狀的外框713、 713上，因此多個 遮光板442、 445隔著空隙層443排列著，并且在遮光板442 - 4和玻璃基 板450之間設(shè)置有間隙447。如此，在第六實施方式中，作為被遮光板 442-4和外框713、 713包圍并向玻璃基板450側(cè)開口的空間，形成有凹 部。該凹部的深度相當(dāng)于間隙447的厚度d5。而且，由各層7131 7135 的高度規(guī)定空隙層443厚度和間隙447厚度。
在第六實施方式中，也在各遮光板442、 445之間設(shè)置有空隙層443， 因此防止了由遮光部件440引起的反射光入射微透鏡，并可防止雜散光對 圖像形成的影響(重影等)。
而且，在遮光板442-4和玻璃基板450之間設(shè)置有間隙447。從而， 可以使在導(dǎo)光孔444的邊緣444E上被反射的雜散光減少，另一方面使進(jìn)入間隙447的雜散光增多。 其它
本發(fā)明不限定于上述的實施方式、變形例?？梢栽诓幻撾x其宗旨的條 件下進(jìn)行上述以外的種種更改。
例如，在上述實施方式中，如在主掃描方向xx上排列預(yù)定數(shù)量(兩
個以上)的發(fā)光元件組410而構(gòu)成的發(fā)光元件組列L411 (組列)在副掃描 方向YY上排成三列，二維配置了發(fā)光元件組410。但是，配置多個發(fā)光 元件組410的方式不限定于此，可以適當(dāng)更改。
另外，在本實施方式中，利用涉及本發(fā)明的行頭，在如圖7所示的主 掃描方向XX上將多個點排列成直線形而形成。但是，該點形成動作是表 示涉及本發(fā)明的行頭的動作的一例子，該行頭可執(zhí)行的動作不限于此。 即，形成的點不需要在主掃描方向XX上排成直線形，例如，可以以與主 掃描方向XX具有預(yù)定的角度的方式排列形成，也可以形成為Z字形或波 浪形。
另外，在上述各實施方式和變形例中，本發(fā)明適用在了彩色圖像形成 裝置中，但是本發(fā)明的適用對象不限定于此，也可適用在形成所謂的單色 圖像的黑白圖像形成裝置中。
而且，不僅是使用使調(diào)色劑粒子分散于不揮發(fā)性液體載體中的液體調(diào) 色劑的圖像形成裝置，本發(fā)明也可適用在使用干式調(diào)色劑的圖像形成裝置 中。
另外，在本實施方式中，對于發(fā)光元件411，使用了底部發(fā)光型有機 EL元件，但是發(fā)光元件411不限定于此。g卩，也可以將頂部放射型有機 EL元件或LED作為發(fā)光元件411使用。
另外，在本實施方式中，通過在副掃描方向YY上排兩列由四個發(fā)光 元件411形成的發(fā)光元件列L411而構(gòu)成了一個發(fā)光元件組410。但是，構(gòu) 成發(fā)光元件組410的發(fā)光元件列L411的數(shù)量和構(gòu)成發(fā)光元件列L411的發(fā) 光元件411的數(shù)量不限定于此。
另外，在本實施方式中，發(fā)光元件組列L410在副掃描方向YY上排 成三列，但是發(fā)光元件組列L410的列數(shù)不限定于此。另外，在圖12示出的實施方式中，在面對發(fā)光元件組410設(shè)置的各
導(dǎo)光孔444之中，以在光的行進(jìn)方向Doa上越是離發(fā)光元件組(沒有相符 的標(biāo)號)近的導(dǎo)光孔444，越具有寬的寬度的方式(即，wl<w2<w3<w4) 構(gòu)成，以向微透鏡ML有效地導(dǎo)入曝光所需要的光。但是，這種導(dǎo)光孔 444的寬度的設(shè)定不是本發(fā)明必需的要素，可以適當(dāng)更改。
權(quán)利要求
1.一種行頭，包括頭基板，配置有多個將多個發(fā)光元件組成小組的發(fā)光元件組；透鏡陣列，按每個所述發(fā)光元件組設(shè)置有在第一方向上與所述發(fā)光元件組相面對的透鏡；以及遮光部件，配置在所述頭基板和所述透鏡陣列之間；所述行頭的特征在于，所述遮光部件具有在所述第一方向上隔著空隙層排列的多個遮光板，在所述各遮光板上設(shè)置有向所述第一方向貫通的導(dǎo)光孔并且該導(dǎo)光孔在所述第一方向上面對所述發(fā)光元件組，在所述第一方向上配置與所述發(fā)光元件組相面對的所述各導(dǎo)光孔而形成導(dǎo)光部，來自所述發(fā)光元件組的光能夠通過與該發(fā)光元件組面對設(shè)置的所述導(dǎo)光部而入射到所述透鏡中。
2. 如權(quán)利要求1所述的行頭，其特征在于，在所述第一方向上所述各遮光板之間的所述空隙層厚度是所述遮光板 厚度的5 30倍。
3. 如權(quán)利要求1或2所述的行頭，其特征在于，包括空隙層規(guī)定部件，其被配置于在所述第一方向上相鄰的兩張遮光 板之間，來規(guī)定該兩張遮光板之間的所述空隙層在所述第一方向上的厚 度。
4. 如權(quán)利要求1至3中任一項所述的行頭，其特征在于， 在所述多個遮光板之中，在所述頭基板和在所述第一方向上離所述頭基板最近的遮光板之間設(shè)置有間隙。
5. 如權(quán)利要求4所述的行頭，其特征在于，包括間隙規(guī)定部件，其被配置在所述頭基板和在所述第一方向上離所 述頭基板最近的遮光板之間，來規(guī)定所述間隙在所述第一方向上的厚度。
6. 如權(quán)利要求4或5所述的行頭，其特征在于， 在所述第一方向上所述間隙的厚度比所述空隙層的厚度大。
7. 如權(quán)利要求1至6中任一項所述的行頭，其特征在于， 所述遮光部件具有三張以上排列在所述第一方向上的所述遮光板，在所述各遮光板之間的所述空隙層之中，在所述第一方向上越是離頭基板近 的空隙層，越具有在所述第一方向上大的厚度。
8. 如權(quán)利要求1至7中任一項所述的行頭，其特征在于， 在面對所述發(fā)光元件組設(shè)置的所述各導(dǎo)光孔之中，在所述第一方向上越是離所述發(fā)光元件組近的導(dǎo)光孔，越具有寬的寬度。
9. 如權(quán)利要求1至8中任一項所述的行頭，其特征在于，在所述遮光板的表面上實施有防止光的反射的反射防止層。
10. 如權(quán)利要求9所述的行頭，其特征在于，所述反射防止層是黑色鍍層。
11. 如權(quán)利要求1至10中任一項所述的行頭，其特征在于，所述發(fā)光 元件是有機EL元件。
12. 如權(quán)利要求11所述的行頭，其特征在于，所述有機EL元件為底 部發(fā)光型。
13. —種圖像形成裝置，包括潛像載體和行頭，所述行頭利用透鏡將 發(fā)光元件所放射的光形成像，并曝光所述潛像載體的表面，所述圖像形成 裝置的特征在于，所述行頭包括頭基板，配置有多個將多個發(fā)光元件組成小組的發(fā)光 元件組；透鏡陣列，按每個所述發(fā)光元件組設(shè)置有在第一方向上與所述發(fā) 光元件組相面對的所述透鏡；以及遮光部件，配置在所述頭基板和所述透 鏡陣列之間，所述遮光部件具有在所述第一方向上隔著空隙層排列的多個遮光板， 在所述各遮光板上設(shè)置有向所述第一方向貫通的導(dǎo)光孔并且該導(dǎo)光孔在所述第一方向上面對所述發(fā)光元件組，在所述第一方向上配置與所述發(fā)光元件組相面對的所述各導(dǎo)光孔而形成導(dǎo)光部，來自所述發(fā)光元件組的光能夠通過與該發(fā)光元件組面對設(shè)置的所述導(dǎo)光部而入射到所述透鏡中。'
14. 一種遮光部件，包括在第一方向上隔著空隙層排列的多個遮光板，所述遮光部件的特征在于，在所述遮光板上設(shè)置有向所述第一方向貫通的導(dǎo)光孔，以使各個所述 導(dǎo)光孔排列在所述第一方向上的方式配置所述多個遮光板，排列在所述第 一方向上的所述各導(dǎo)光孔形成導(dǎo)光部，光可通過排列在所述第一方向上的 所述導(dǎo)光部，從而在所述第一方向上貫通所述多個遮光板。
全文摘要
本發(fā)明提供一種少產(chǎn)生雜散光的遮光部件、使用該遮光部件并防止了重影的產(chǎn)生的行頭及使用該行頭并畫質(zhì)的降低小的圖像形成裝置。本發(fā)明的行頭包括頭基板，配置有多個將多個發(fā)光元件組成小組的發(fā)光元件組；透鏡陣列，按每個發(fā)光元件組設(shè)置有在第一方向上與發(fā)光元件組相面對的透鏡；以及遮光部件，配置在頭基板和透鏡陣列之間。遮光部件具有在第一方向上隔著空隙層排列的多個遮光板，在各遮光板上設(shè)置有向第一方向貫通的導(dǎo)光孔并且該導(dǎo)光孔在第一方向上面對發(fā)光元件組，來自所發(fā)光元件組的光能夠通過與該發(fā)光元件組面對設(shè)置的導(dǎo)光部而入射到透鏡中。
文檔編號B41J2/45GK101308250SQ200810094
公開日2008年11月19日 申請日期2008年5月14日 優(yōu)先權(quán)日2007年5月14日
發(fā)明者辻野凈士, 野村雄二郎 申請人:精工愛普生株式會社