一種新型單向可視低輻射玻璃的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種新型單向可視低輻射玻璃，其特征在于：包括有玻璃基板，在所述玻璃基板上磁控濺射有Nb2O5層，在所述Nb2O5層上磁控濺射有Al2O3層，在所述Al2O3層上設(shè)有Ag層，在所述Ag層上磁控濺射有Al層，在所述Al層上磁控濺射有TiO2層。本實(shí)用新型的目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足之處，提供一種工藝簡(jiǎn)單，操作方便，生產(chǎn)成本相對(duì)較低的新型單向可視低輻射玻璃。
【專利說(shuō)明】一種新型單向可視低輻射玻璃

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種新型單向可視低輻射玻璃。

【背景技術(shù)】
[0002]低輻射玻璃是指對(duì)紅外輻射具有高反射率，對(duì)可見光具有良好透射率的平板鍍膜玻璃。低輻射玻璃具有良好的透光、保溫、隔熱性能，廣泛應(yīng)用于窗戶、爐門、冷藏柜門等地方。
[0003]現(xiàn)有的單銀低輻射玻璃一般可視效果較差，不能滿足使用者的需求，故此，現(xiàn)有的單銀低輻射玻璃有待于進(jìn)步完善。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]本實(shí)用新型的目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足之處，提供一種工藝簡(jiǎn)單，操作方便，生產(chǎn)成本相對(duì)較低的新型單向可視低輻射玻璃。
[0005]為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用以下方案:
[0006]一種新型單向可視低輻射玻璃，其特征在于:包括有玻璃基板，在所述玻璃基板上磁控濺射有Nb2O5層，在所述Nb2O5層上磁控濺射有Al2O3層，在所述Al2O3層上設(shè)有Ag層，在所述Ag層上磁控濺射有Al層，在所述Al層上磁控濺射有T12層。
[0007]如上所述的一種新型單向可視低輻射玻璃，其特征在于所述Nb2O5層的厚度為
10?15nm。
[0008]如上所述的一種新型單向可視低輻射玻璃，其特征在于所述Al2O3層的厚度為
15?25nm。
[0009]如上所述的一種新型單向可視低輻射玻璃，其特征在于所述Ag層的厚度為8?1nm0
[0010]如上所述的一種新型單向可視低輻射玻璃，其特征在于所述Al層的厚度為3?5nm。
[0011]如上所述的一種新型單向可視低輻射玻璃，其特征在于所述玻璃基板的厚度為4 ?19mm。
[0012]綜上所述，本實(shí)用新型的有益效果:
[0013]本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，制備方便，生產(chǎn)成本相對(duì)較低。本實(shí)用新型產(chǎn)品在使用了高反射材料鋁的情況下，可見光透過(guò)率能達(dá)50%，可滿足室內(nèi)看到室外的目的。由于使用Al2O3及Al的復(fù)合，可增加室外反射，從而達(dá)到單向可視的目的。
[0014]本實(shí)用新型中Al層一方面作為銀層的阻擋層，防止氧化，另一方面，利用鋁的高反射，具備單向可視的效果。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0015]圖1為本實(shí)用新型的示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0016]下面結(jié)合【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步描述:
[0017]一種新型單向可視低輻射玻璃，包括有玻璃基板I，在所述玻璃基板I上磁控濺射有Nb2O5層2，在所述Nb2O5層2上磁控濺射有Al2O3層3，在所述Al2O3層3上設(shè)有Ag層4，在所述Ag層4上磁控濺射有Al層5，在所述Al層5上磁控濺射有T12層6。
[0018]本實(shí)用新型中所述Nb2O5層2的厚度為10?15nm。所述Al2O3層3的厚度為15?25nm。所述Ag層4的厚度為8?10nm。所述Al層5的厚度為3?5nm。所述玻璃基板I的厚度為4?19mm。
[0019]本實(shí)用新型新型單向可視低輻射玻璃，可以通過(guò)以下步驟:
[0020]A、采用氧氣作為反應(yīng)氣體，氬氣作為保護(hù)氣體，直流電源濺射Nb平面靶，在玻璃基板上磁控濺射Nb2O5層；所述氬氣與氧氣的體積比為2:3，即氬氣:氧氣=600sccm:900sccm，濺射壓力2.5*10 — 3mbar,濺射功率10KW。所述玻璃基板的厚度為4mm。
[0021]B、采用氧氣作為反應(yīng)氣體，氬氣作為保護(hù)氣體，交流電源濺射鋁旋轉(zhuǎn)靶，在步驟A中Nb2O5層上磁控濺射Al2O3層；，所述氬氣與氧氣的體積比為1:2，即氬氣:氧氣=400sccm:800sccm,灘射功率 40KW。
[0022]C、采用氬氣作為反應(yīng)氣體，直流電源濺射銀平面靶，在步驟B中的Al2O3層上磁控濺射Ag層；所述直流電源的濺射功率3KW。
[0023]D、采用氬氣作為反應(yīng)氣體，直流電源濺射Al平面靶，在步驟C中Ag層上磁控濺射Al層；所述直流電源的濺射功率3KW。
[0024]E、采用氬氣作為反應(yīng)氣體，交流電源濺射氧化鈦陶瓷旋轉(zhuǎn)靶，在步驟D中的Al層上磁控濺射T12層。
[0025]以上顯示和描述了本實(shí)用新型的基本原理和主要特征和本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，本實(shí)用新型不受上述實(shí)施例的限制，上述實(shí)施例和說(shuō)明書中描述的只是說(shuō)明本實(shí)用新型的原理，在不脫離本實(shí)用新型精神和范圍的前提下，本實(shí)用新型還會(huì)有各種變化和改進(jìn)，這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本實(shí)用新型范圍內(nèi)。本實(shí)用新型要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書及其等效物界定。
【權(quán)利要求】
1.一種新型單向可視低輻射玻璃，其特征在于:包括有玻璃基板(I)，在所述玻璃基板(I)上磁控濺射有Nb2O5層(2)，在所述Nb2O5層(2)上磁控濺射有Al2O3層(3)，在所述Al2O3層(3)上設(shè)有Ag層(4)，在所述Ag層(4)上磁控濺射有Al層(5)，在所述Al層(5)上磁控濺射有T12層(6)，所述Nb2O5層(2)的厚度為10?15nm，所述Al2O3層(3)的厚度為15?25nm,所述Ag層⑷的厚度為8?1nm,所述Al層(5)的厚度為3?5nm,所述玻璃基板⑴的厚度為4?19mm。
【文檔編號(hào)】B32B17/06GK203994928SQ201320854763
【公開日】2014年12月10日 申請(qǐng)日期:2013年12月21日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月21日
【發(fā)明者】魏佳坤 申請(qǐng)人:揭陽(yáng)市宏光鍍膜玻璃有限公司