專(zhuān)利名稱(chēng)：一種具有穩(wěn)定銀層的高透型可異地鋼化低輻射鍍膜玻璃的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于低輻射鍍膜玻璃生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種具有穩(wěn)定銀層的一種具有穩(wěn)定銀層的高透型可異地鋼化低輻射鍍膜玻璃。
技術(shù)背景 磁控濺射所謂濺射，即用荷能粒子轟擊物體，可以使物體表面原子從目標(biāo)體表面逸出。磁控濺射又稱(chēng)為高速、低溫的濺射技術(shù)，其在本質(zhì)上是按磁控模式運(yùn)行的二極濺射，不依靠外加源來(lái)提高放電中的電離率，而是利用濺射產(chǎn)生的二次電子本身的作用。在磁控濺射裝置中，增設(shè)了和電場(chǎng)相正交的磁場(chǎng)，二次電子在正交的電場(chǎng)和磁場(chǎng)的共同作用下，不再是做單純的直線(xiàn)運(yùn)動(dòng)，而是按特定的軌跡做復(fù)雜運(yùn)動(dòng)。這樣，二次電子到達(dá)陽(yáng)極的路程大大增加，碰撞電離幾率也增加了，顯著提高濺射效率。此外，在磁控濺射裝置中的陽(yáng)極置于陰極(靶材)的周?chē)?，基片放置在陰極靶材的對(duì)面，二次電子在經(jīng)過(guò)多次碰撞后，自身能量消耗殆盡，對(duì)基片的碰撞減少則可提聞鍛I吳質(zhì)量。濺射成膜原理在充入少量工藝氣體的真空艙室內(nèi)，當(dāng)極間電壓很小時(shí)，只有少量離子和電子存在，電流密度在10-15A/cm2數(shù)量級(jí)，當(dāng)真空艙室內(nèi)陰極(靶材)和陽(yáng)極間電壓增加時(shí)，帶電粒子在電場(chǎng)的作用下加速運(yùn)動(dòng)，粒子能量增加，與電極或中性氣體原子相碰撞，產(chǎn)生更多的帶電粒子，直至電流達(dá)到10-6A/cm2數(shù)量級(jí)，當(dāng)電壓在增加時(shí)，則會(huì)產(chǎn)生負(fù)阻效應(yīng)，即“雪崩”現(xiàn)象。此時(shí)離子轟擊陰極(靶材)，擊出陰極原子和二級(jí)電子，二次電子與中性原子碰撞產(chǎn)生更多離子，此離子再轟擊陰極(靶材)，又產(chǎn)生二次電子，如此反復(fù)。當(dāng)電流密度達(dá)到10-2A/cm2數(shù)量級(jí)時(shí)，電流將隨電壓的增加而增加，形成高密度等離子體的異常輝光放電，高能量的離子轟擊陰極(靶材)產(chǎn)生濺射現(xiàn)象，濺射出來(lái)的高能量靶材粒子沉積到陽(yáng)極(玻璃基片，即平板玻璃)上，從而達(dá)到鍍膜目的?，F(xiàn)有的低輻射鍍膜玻璃一般采用鎳鉻層作為銀層的隔離保護(hù)層，由于鎳鉻金屬膜對(duì)光具有高吸收性，故在鍍制高透型低輻射鍍膜玻璃時(shí)便將鎳鉻層鍍制的偏薄，但鎳鉻層的減薄又影響到了銀層的穩(wěn)定性，尤其對(duì)可鋼化膜系的玻璃產(chǎn)品影響更大。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有高透型可異地鋼化低輻射鍍膜玻璃上鎳鉻層偏薄，導(dǎo)致銀層的穩(wěn)定性差的缺點(diǎn)，而提供一種具有穩(wěn)定銀層的高透型可異地鋼化低輻射鍍膜玻璃，在原有的鎳鉻層上利用濺射鍍制一層鎳鉻氧化物，有鎳鉻層和鎳鉻氧化物層兩層薄膜組成銀層的保護(hù)層，不但提高了銀層的穩(wěn)定性，而且又有效的提高了膜系的光透過(guò)率。實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案—種具有穩(wěn)定銀層的高透型可異地鋼化低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板、從內(nèi)向外依次濺射在玻璃基板上的第一抗反射膜層、第一隔離膜層、第二抗反射膜層、Ag層、第二隔離膜層、保護(hù)膜層，其中第一抗反射層和保護(hù)膜層的材料為Si3N4 ;第一隔離膜層和第二隔離膜層的材料為NiCr ;第二抗反射膜層的材料為ZnO，其特征在于在第二隔離膜層與保護(hù)膜層之間利用濺射方法鍍制第三隔離膜層。所述的第三隔離膜層的材料為NiCrOx。所述的第二隔離膜層的厚度為第三隔離膜層的厚度為5-15mm。第二隔離膜層和第三隔離膜層共同組成Ag層的隔離保護(hù)層，既起到保護(hù)Ag層的作用，又提高了膜系透過(guò)率。本實(shí)用新型的有益效果是I、本實(shí)用新型提高了銀層的穩(wěn)定性。2、本實(shí)用新型提高了膜系的光透過(guò)率。
圖I為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖I所示，一種具有穩(wěn)定銀層的高透型可異地鋼化低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板、從內(nèi)向外依次濺射在玻璃基板上的第一抗反射膜層2、第一隔離膜層3、第二抗反射膜層4、Ag層5、第二隔離膜層6、保護(hù)膜層8，其特征在于在第二隔離膜層6與保護(hù)膜層8之間利用濺射方法鍍制第三隔離膜層7。由于玻璃中有60%_70%的硅成分，Si3N4與玻璃表面有較好的結(jié)合力，同時(shí)Si3N4結(jié)構(gòu)致密，可有效阻擋玻璃鋼化時(shí)基板本身釋放的鈉離子或游離氧侵蝕Ag層，造成其被氧化而失去隔熱節(jié)能的功能，所以用Si3N4作為第一抗反射膜層2的材料，第一抗反射膜層2的膜厚為20-30 nm。第一隔離膜層3的材料為NiCr合金，其膜厚為1_5 nm,可保護(hù)Ag層免受侵蝕而被氧化。第二抗反射膜層4的材料為ZnO，其膜厚為5_10 nm ；ZnO具有表面光滑的特性，可使Ag層更加均勻，并且ZnO膜可提高可見(jiàn)光的透過(guò)率。Ag層5也為低輻射功能層，膜厚為8-12 nm，可阻擋紅外線(xiàn)，有隔熱保溫的功能。第二隔離膜層6的材料為NiCr，膜厚為1_3 nm ;第三隔離膜層7的材料為NiCrOx,膜厚為5-15 nm。第二隔離膜層6和第三隔離膜層7兩層膜組成Ag層的隔離保護(hù)層，不但提高了 Ag層的穩(wěn)定性，而且提高了膜系的透過(guò)率。保護(hù)膜層8的材料為Si3N4，膜厚為20_60nm，保護(hù)整體膜層結(jié)構(gòu)，阻擋鋼化過(guò)程中空氣中的氧氣、水汽、硫化氫等有害物質(zhì)對(duì)膜系中Ag層的腐蝕，提高了中提膜層的耐化學(xué)腐蝕和機(jī)械摩擦能力。
權(quán)利要求1.ー種具有穩(wěn)定銀層的高透型可異地鋼化低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板、從內(nèi)向外依次濺射在玻璃基板上的第一抗反射膜層(2)、第一隔離膜層(3)、第二抗反射膜層(4)、Ag層(5)、第二隔離膜層(6)、保護(hù)膜層(8)，其中第一抗反射層(2)和保護(hù)膜層(8)的材料為Si3N4 ;第一隔離膜層(3)和第二隔離膜層(6)的材料為NiCr ;第二抗反射膜層(4)的材料為ZnO，其特征在于在第二隔離膜層(6)與保護(hù)膜層(8)之間利用濺射方法鍍制第三隔離膜層⑴。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的ー種具有穩(wěn)定銀層的高透型可異地鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于第三隔離膜層(7)的材料為NiCrOx。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的ー種具有穩(wěn)定銀層的高透型可異地鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于第二隔離膜層(6)的厚度為l_3mm，第三隔離膜層(7)的厚度為5_15mm。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型屬于低輻射鍍膜玻璃生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種具有穩(wěn)定銀層的高透型可異地鋼化低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板、從內(nèi)向外依次濺射在玻璃基板上的第一抗反射膜層、第一隔離膜層、第二抗反射膜層、Ag層、第二隔離膜層、第三隔離膜層、保護(hù)膜層，由第二隔離膜層和第三隔離膜層組成Ag層的保護(hù)層，不但提高了銀層的穩(wěn)定性，而且又有效的提高了膜系的光透過(guò)率。
文檔編號(hào)B32B15/04GK202540848SQ20122013608
公開(kāi)日2012年11月21日 申請(qǐng)日期2012年3月31日 優(yōu)先權(quán)日2012年3月31日
發(fā)明者劉國(guó)龍, 張?jiān)骑w, 王建, 蒼利民, 賀超宇, 韓廣軍 申請(qǐng)人:河南安彩高科股份有限公司