覆膜厚度控制系統(tǒng)、包括其的覆膜機(jī)以及覆膜厚度控制方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種覆膜厚度控制系統(tǒng)、包括其的覆膜機(jī)以及覆膜厚度控制方法，包括：殼體；依序裝配在殼體中用于發(fā)射光的發(fā)光二極管陣列、中間支持件和光敏器件陣列，其中：所述中間支持件中設(shè)置有：與發(fā)光二極管陣列對(duì)應(yīng)的上通孔陣列和下通孔陣列；以及在上下通孔陣列之間且與之連通的狹槽，讓膜通過(guò)，發(fā)光二極管陣列裝配在上通孔陣列中，光敏器件陣列裝配在下通孔陣列中，將接收到的光轉(zhuǎn)換為端電壓；以及控制電路，對(duì)標(biāo)準(zhǔn)電壓與光敏器件陣列的端電壓進(jìn)行比較，并基于比較結(jié)果控制送膜的步進(jìn)電機(jī)使得膜的厚度適合。本發(fā)明能夠在利用覆膜機(jī)進(jìn)行送膜時(shí)實(shí)時(shí)地判斷高分子膜的厚度是否適合，并基于判斷結(jié)果來(lái)相應(yīng)地控制步進(jìn)電機(jī)從而將膜的厚度調(diào)整為適合。
【專利說(shuō)明】覆膜厚度控制系統(tǒng)、包括其的覆膜機(jī)以及覆膜厚度控制方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種覆膜厚度控制系統(tǒng)、包括其的覆膜機(jī)以及覆膜厚度控制方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在研發(fā)醫(yī)療器械的過(guò)程中，醫(yī)用高分子材料使用非常廣泛，高分子材料在使用過(guò)程中具有非常好的物理性能和生物相容性。在實(shí)際使用中，高分子膜的使用最為普遍，但是高分子膜使用過(guò)程有一個(gè)比較大的問(wèn)題是膜的尺寸比較難于控制，究其原因是高分子膜具有非常好的延展性和彈性，只要受力尺寸就會(huì)變化；由于受力狀態(tài)有波動(dòng)，因此高分子膜尺寸也會(huì)波動(dòng)。鑒于目前無(wú)法在利用覆膜機(jī)進(jìn)行送膜時(shí)實(shí)時(shí)地判斷高分子膜的厚度是否適合，更無(wú)法根據(jù)判斷結(jié)果來(lái)相應(yīng)地調(diào)整送膜機(jī)制來(lái)調(diào)整高分子膜的實(shí)時(shí)厚度，由此無(wú)法精確地控制高分子膜的實(shí)時(shí)厚度，并給使用高分子膜的產(chǎn)品的精確尺寸控制帶來(lái)難度。
[0003]因此，需要一種覆膜厚度控制系統(tǒng)及相應(yīng)的方法，其在利用覆膜機(jī)進(jìn)行送膜時(shí)實(shí)時(shí)地判斷高分子膜的厚度是否適合，并能夠基于判斷結(jié)果來(lái)相應(yīng)地控制送膜的步進(jìn)電機(jī)從而將膜的厚度調(diào)整為適合。還需要一種包括該覆膜厚度控制系統(tǒng)的覆膜機(jī)，其能夠在進(jìn)行送膜的同時(shí)執(zhí)行上述厚度判斷、步進(jìn)電機(jī)控制和覆膜厚度調(diào)整，從而確保所饋送和覆蓋的膜保持適合的厚度。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明提供了一種覆膜厚度控制系統(tǒng)，其包括:
[0005]殼體；
[0006]依序裝配在所述殼體中的發(fā)光二極管陣列、中間支持件和光敏器件陣列，其中:
[0007]所述發(fā)光二極管陣列用于發(fā)射光，
[0008]所述中間支持件中設(shè)置有:與所述發(fā)光二極管陣列對(duì)應(yīng)的上通孔陣列和下通孔陣列；以及在上下通孔陣列之間且與之連通的狹槽，用于讓膜通過(guò)，
[0009]所述發(fā)光二極管陣列裝配在所述上通孔陣列中，所述光敏器件陣列裝配在所述下通孔陣列中，用于將接收到的光轉(zhuǎn)換為端電壓；以及
[0010]控制電路，用于對(duì)標(biāo)準(zhǔn)電壓與光敏器件的端電壓進(jìn)行比較，并基于比較結(jié)果控制送膜的步進(jìn)電機(jī)使得膜的厚度適合，其中，所述標(biāo)準(zhǔn)電壓為膜厚度適當(dāng)時(shí)光敏器件的端電壓。
[0011]優(yōu)選地，基于比較結(jié)果控制送膜的步進(jìn)電機(jī)使得膜的厚度適合的步驟包括:當(dāng)光敏器件的端電壓大于標(biāo)準(zhǔn)電壓時(shí)，減小所述步進(jìn)電機(jī)的扭矩；而當(dāng)光敏器件的端電壓小于標(biāo)準(zhǔn)電壓時(shí)，增加所述步進(jìn)電機(jī)的扭矩。
[0012]優(yōu)選地，所述光敏器件選自光敏電阻、光電池、光敏二極管、光敏三極管中的任何一種。優(yōu)選地，無(wú)覆膜和覆膜最厚時(shí)的端電壓都在所述光敏器件的線性工作區(qū)間內(nèi)。
[0013]優(yōu)選地，所述光敏器件的端電壓為所述光敏器件陣列中的有效光敏器件的端電壓的平均值。
[0014]優(yōu)選地，所述發(fā)光二極管陣列和所述光敏器件陣列的尺寸與膜的尺寸相適應(yīng)。
[0015]優(yōu)選地，所述中間支持件由中間夾層和底座組裝而成，中間夾層中設(shè)置有上通孔陣列而所述底座中設(shè)置有下通孔陣列，所述狹槽形成于所述中間夾層與所述底座之間。
[0016]優(yōu)選地，所述控制電路在對(duì)標(biāo)準(zhǔn)電壓與端電壓進(jìn)行比較之前，根據(jù)光敏器件的端電壓是否達(dá)到最大值，來(lái)判斷狹槽中是否有膜通過(guò)。
[0017]優(yōu)選地，所述控制電路在單片機(jī)中實(shí)現(xiàn)。
[0018]本發(fā)明提供一種覆膜厚度控制方法，所述方法包括:
[0019]利用設(shè)置在膜一側(cè)的發(fā)光二極管陣列發(fā)射光；
[0020]將所發(fā)射的光通過(guò)膜傳輸?shù)皆O(shè)置在膜另一側(cè)的光敏器件陣列上；
[0021]利用所述光敏器件陣列將所接收的光轉(zhuǎn)換為端電壓；
[0022]對(duì)標(biāo)準(zhǔn)電壓與光敏器件陣列的端電壓進(jìn)行比較，并基于比較結(jié)果控制送膜的步進(jìn)電機(jī)使得膜的厚度適合，其中，所述標(biāo)準(zhǔn)電壓為膜厚度適當(dāng)時(shí)光敏器件陣列的端電壓。
[0023]本發(fā)明還提供一種覆膜機(jī)，所述覆膜機(jī)中整合有如上所述的覆膜厚度控制系統(tǒng)以及用于送膜的步進(jìn)電機(jī)。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0024]為了更清楚地描述本發(fā)明的技術(shù)方案，下面將結(jié)合附圖作簡(jiǎn)要介紹。顯而易見(jiàn)，這些附圖僅是本申請(qǐng)記載的一些【具體實(shí)施方式】。根據(jù)本發(fā)明的包括但不限于以下這些附圖。
[0025]圖1示出根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的覆膜厚度控制系統(tǒng)的主體外觀結(jié)構(gòu)的圖示；
[0026]圖2示出根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的覆膜厚度控制系統(tǒng)的工作狀態(tài)示意圖；
[0027]圖3示出利用根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的覆膜厚度控制系統(tǒng)操作的流程圖；
[0028]圖4示出根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的、整合覆膜厚度控制系統(tǒng)的覆膜機(jī)的硬件連接圖。
【具體實(shí)施方式】
[0029]為了進(jìn)一步理解本發(fā)明，下面將結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選方案進(jìn)行描述。這些描述只是舉例說(shuō)明本發(fā)明的特征和優(yōu)點(diǎn)，而非限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。本文中使用的術(shù)語(yǔ)“光敏器件陣列的端電壓”表示了該光敏器件陣列中的光敏器件的端電壓水平。
[0030]本發(fā)明提供了一種覆膜厚度控制方法，所述方法包括:利用設(shè)置在膜一側(cè)的發(fā)光二極管陣列發(fā)射光；將所發(fā)射的光通過(guò)膜傳輸?shù)皆O(shè)置在膜另一側(cè)的光敏器件陣列上；利用所述光敏器件陣列將所接收的光轉(zhuǎn)換為端電壓；對(duì)標(biāo)準(zhǔn)電壓與光敏器件陣列的端電壓進(jìn)行比較，并基于比較結(jié)果控制送膜的步進(jìn)電機(jī)使得膜的厚度適合，其中，所述標(biāo)準(zhǔn)電壓為膜厚度適當(dāng)時(shí)光敏器件陣列的端電壓。本發(fā)明還提供了 一種實(shí)現(xiàn)上述覆膜厚度控制方法的覆膜厚度控制系統(tǒng)，兩者在利用覆膜機(jī)進(jìn)行送膜時(shí)實(shí)時(shí)地判斷膜的厚度是否適合，并能夠基于判斷結(jié)果來(lái)相應(yīng)地控制送膜的步進(jìn)電機(jī)的參數(shù)從而將膜的厚度調(diào)整為適合。
[0031]如圖1所示，所述覆膜厚度控制系統(tǒng)包括:上頂蓋Ia ;下頂蓋Ib ;依序裝配在所述上頂蓋Ia和下頂蓋Ib之間的發(fā)光二極管陣列2、中間夾層3a、底座3b、光敏器件陣列4以及控制電路(圖中未示出)。其中:所述發(fā)光二極管陣列2用于發(fā)射光，在中間夾層3a中設(shè)置有與所述發(fā)光二極管陣列2對(duì)應(yīng)以便用于裝入其的上通孔陣列3a’，在底座3b中設(shè)置有與所述上通孔陣列3a’對(duì)準(zhǔn)的下通孔陣列3b’，所述光敏器件陣列4被安裝在所述下通孔陣列3b’中，并且中間夾層3a和底座3b在互相裝配好之后在其間形成一個(gè)狹槽6以讓膜7通過(guò)(如圖2所示)。由此，由發(fā)光二極管陣列2發(fā)射的光透射通過(guò)中間夾層3a的上通孔陣列3a’到達(dá)狹槽6，如果狹槽6中存在膜7，則透射的光繼而傳輸通過(guò)膜7，膜7的厚度越大，則光的衰減越多，如果狹槽6中不存在膜7，則沒(méi)有與之相應(yīng)的光衰減。隨后，通過(guò)狹槽后的光被光敏器件陣列4所接收并轉(zhuǎn)換為端電壓。換句話說(shuō)，狹槽6中存在的膜7的厚度與光敏器件陣列4的端電壓成反比，膜厚越大，則端電壓越小，反之膜厚越小，則端電壓越大。
[0032]雖然圖1中示出了分離并能夠裝配到一起的中間夾層3a和底座3b，該兩個(gè)部件可以集成為一個(gè)中間支持件，其中設(shè)置有:與所述發(fā)光二極管陣列對(duì)應(yīng)的上通孔陣列和下通孔陣列；以及在上下通孔陣列之間且與之連通的狹槽，用于讓膜通過(guò)。此外，雖然圖1中示出了分離的上頂蓋Ia和下頂蓋lb，也可以使用一體的殼體來(lái)在其中裝配相應(yīng)的部件。
[0033]光敏器件陣列4中的光敏器件4’可以選自光敏電阻、光電池、光敏二極管、光敏三極管中的任何一種。優(yōu)選地，要確保無(wú)膜和膜最厚時(shí)的端電壓都在光敏器件的線性工作區(qū)間內(nèi)。優(yōu)選，可以對(duì)機(jī)械結(jié)構(gòu)進(jìn)行良好的光學(xué)處理，內(nèi)表面涂好亞光黑漆，在光線較弱的環(huán)境下進(jìn)行膜厚度的實(shí)時(shí)判斷和調(diào)整，減少來(lái)自發(fā)光二極管陣列之外的環(huán)境光源的光線，從而避免由于環(huán)境光源光線被光敏器件陣列所感測(cè)導(dǎo)致對(duì)于判斷和調(diào)整過(guò)程的干擾和偏差。
[0034]如圖2所示，膜7在包括步進(jìn)電機(jī)的送膜機(jī)構(gòu)的作用下，沿著送膜方向通過(guò)狹槽6，對(duì)來(lái)自光電二極管陣列2的光進(jìn)行衰減，并將衰減后的光傳輸?shù)焦饷羝骷嚵?以轉(zhuǎn)換為其端電壓。隨后，由控制電路對(duì)標(biāo)準(zhǔn)電壓與光敏器件陣列的端電壓進(jìn)行比較，并基于比較結(jié)果來(lái)判斷膜厚度是否適合，如果覆膜厚度不適合，則控制送膜的步進(jìn)電機(jī)使得膜的厚度適合，其中，所述標(biāo)準(zhǔn)電壓為膜厚度適當(dāng)時(shí)光敏器件陣列的端電壓。該控制電路可以在單片機(jī)中實(shí)現(xiàn)。
[0035]圖3示出了利用根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的覆膜厚度控制系統(tǒng)操作的流程圖。如圖3所示，在覆膜機(jī)送膜的同時(shí)，發(fā)光二極管陣列發(fā)光，透過(guò)狹槽中的膜(如果有的話)照射在光敏器件陣列上以轉(zhuǎn)換為光敏器件陣列中各個(gè)光敏器件的端電壓。因?yàn)槟さ暮穸扰c透光度成反比，光敏器件陣列中的光敏器件的端電壓正比于透光度，所以端電壓與膜的厚度成反t匕。標(biāo)準(zhǔn)電壓對(duì)應(yīng)著標(biāo)準(zhǔn)的(所要求的)膜厚度，端電壓大于標(biāo)準(zhǔn)電壓說(shuō)明膜過(guò)薄，端電壓小于標(biāo)準(zhǔn)電壓說(shuō)明膜過(guò)厚。不同的產(chǎn)品會(huì)應(yīng)用不同種類的薄膜，在覆膜之前，可以根據(jù)所應(yīng)用的膜的類型來(lái)設(shè)定其標(biāo)準(zhǔn)電壓，作為后面的參考標(biāo)準(zhǔn)。此外，當(dāng)覆膜時(shí)改用不同類型的膜時(shí)，可以將現(xiàn)有標(biāo)準(zhǔn)電壓手動(dòng)調(diào)整為所改用膜的標(biāo)準(zhǔn)厚度所對(duì)應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)電壓。如覆膜使用的膜類型不變，則保持上一個(gè)循環(huán)的標(biāo)準(zhǔn)電壓不變。利用控制電路對(duì)當(dāng)前的標(biāo)準(zhǔn)電壓與光敏器件陣列的端電壓進(jìn)行比較，如果端電壓大于標(biāo)準(zhǔn)電壓，則說(shuō)明膜厚度過(guò)薄，由控制電路經(jīng)由送膜的步進(jìn)電機(jī)的驅(qū)動(dòng)器減小步進(jìn)電機(jī)的扭矩，使得送膜的膜厚度增大；如果端電壓小于標(biāo)準(zhǔn)電壓，則說(shuō)明膜厚度過(guò)厚，由控制電路經(jīng)由送膜的步進(jìn)電機(jī)的驅(qū)動(dòng)器增加步進(jìn)電機(jī)的扭矩，使得送膜的膜厚度減小，進(jìn)而以減小后的膜厚度執(zhí)行送膜。只有當(dāng)光敏器件陣列的端電壓等于標(biāo)準(zhǔn)電壓，即確保饋送的膜的厚度適當(dāng)?shù)那闆r下，才繼續(xù)覆膜過(guò)程。從而確保覆膜過(guò)程中所覆的膜都具有適合的厚度，從而確保覆膜的精確厚度，進(jìn)而確保覆膜的相應(yīng)醫(yī)療器械的精確尺寸。[0036]優(yōu)選地，在以上比較步驟中使用的光敏器件陣列的端電壓可以采用所述光敏器件陣列中的有效光敏器件的端電壓的平均值，由此降低在送膜過(guò)程中位移變化造成的測(cè)量誤差，同時(shí)也可以避免在該陣列中個(gè)別光敏器件發(fā)生故障時(shí)所導(dǎo)致的測(cè)量誤差。此外，可以根據(jù)膜的寬度來(lái)選擇發(fā)光二極管陣列和光敏器件陣列的尺寸，使得膜的寬度與發(fā)光二極管陣列和光敏器件陣列的尺寸相當(dāng)，以便確保發(fā)光二極管發(fā)射的光照射到膜上各處且光敏器件陣列采集到傳輸通過(guò)膜上各處的光，進(jìn)而使得光敏器件陣列的端電壓更真實(shí)地反映在狹槽中的膜部分的平均厚度。
[0037]雖然圖3中沒(méi)有示出，控制電路可以在對(duì)標(biāo)準(zhǔn)電壓與端電壓進(jìn)行比較之前，根據(jù)光敏器件陣列的端電壓是否達(dá)到最大值，來(lái)判斷狹槽中是否有膜通過(guò)。只有判斷狹槽中存在膜時(shí)，才進(jìn)行后續(xù)的比較步驟，從而降低控制成本。
[0038]在單片機(jī)中實(shí)現(xiàn)控制電路時(shí)，優(yōu)選使得單片機(jī)的時(shí)鐘周期小于送膜的步進(jìn)電機(jī)的運(yùn)轉(zhuǎn)周期，從而確保在利用步進(jìn)電機(jī)送膜的各個(gè)步距期間完成對(duì)步進(jìn)電機(jī)的參數(shù)調(diào)整，從而使得步進(jìn)電機(jī)在下個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)周期中饋送的膜具有更接近適合厚度的厚度。
[0039]圖4為本發(fā)明的硬件連接圖，由標(biāo)準(zhǔn)低壓電源(一般為5V)為單片機(jī)、發(fā)光二級(jí)管陣列、標(biāo)準(zhǔn)電壓的相關(guān)電路(包含可調(diào)電阻)供電。通過(guò)手動(dòng)旋鈕和可調(diào)電阻控制標(biāo)準(zhǔn)電壓端口的輸出，當(dāng)需要調(diào)整標(biāo)準(zhǔn)電壓時(shí)，可以通過(guò)手動(dòng)旋鈕和可調(diào)電阻來(lái)進(jìn)行調(diào)整。光敏器件陣列輸出的端電壓信號(hào)與標(biāo)準(zhǔn)電壓輸出由比較器相連并進(jìn)行比較，將比較器的數(shù)值輸出送入單片機(jī)進(jìn)行進(jìn)一步判斷，最后由單片機(jī)根據(jù)判斷結(jié)果來(lái)驅(qū)動(dòng)步進(jìn)電機(jī)，控制步進(jìn)電機(jī)扭矩，從而改變覆膜厚度，利用單片機(jī)執(zhí)行的判斷和控制過(guò)程如圖3中所示。
[0040]本發(fā)明還提供一種覆膜機(jī)，所述覆膜機(jī)中整合有如上所述的覆膜厚度控制系統(tǒng)以及用于送膜的步進(jìn)電機(jī)。優(yōu)選使得實(shí)現(xiàn)覆膜厚度控制系統(tǒng)中的控制電路的單片機(jī)的時(shí)鐘周期小于覆膜機(jī)中的步進(jìn)電機(jī)的運(yùn)轉(zhuǎn)周期，從而實(shí)現(xiàn)覆膜機(jī)的整機(jī)的良好操作配合。
[0041]以上實(shí)施例的說(shuō)明只是用于幫助理解本發(fā)明的核心思想。應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行若干改進(jìn)和修飾，但這些改進(jìn)和修飾也落入本發(fā)明權(quán)利要求請(qǐng)求保護(hù)的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種覆膜厚度控制系統(tǒng)，其包括: 殼體； 依序裝配在所述殼體中的發(fā)光二極管陣列、中間支持件和光敏器件陣列，其中: 所述發(fā)光二極管陣列用于發(fā)射光， 所述中間支持件中設(shè)置有:與所述發(fā)光二極管陣列對(duì)應(yīng)的上通孔陣列和下通孔陣列；以及在上下通孔陣列之間且與之連通的狹槽，用于讓膜通過(guò)， 所述發(fā)光二極管陣列裝配在所述上通孔陣列中，所述光敏器件陣列裝配在所述下通孔陣列中，用于將接收到的光轉(zhuǎn)換為端電壓；以及 控制電路，用于對(duì)標(biāo)準(zhǔn)電壓與光敏器件陣列的端電壓進(jìn)行比較，并基于比較結(jié)果控制送膜的步進(jìn)電機(jī)使得膜的厚度適合，其中，所述標(biāo)準(zhǔn)電壓為膜厚度適當(dāng)時(shí)光敏器件陣列的端電壓。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆膜厚度控制系統(tǒng)，其中，基于比較結(jié)果控制送膜的步進(jìn)電機(jī)使得膜的厚度適合的步驟包括:當(dāng)光敏器件陣列的端電壓大于標(biāo)準(zhǔn)電壓時(shí)，減小所述步進(jìn)電機(jī)的扭矩；而當(dāng)光敏器件陣列的端電壓小于標(biāo)準(zhǔn)電壓時(shí)，增加所述步進(jìn)電機(jī)的扭矩。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆膜厚度控制系統(tǒng)，其中，所述光敏器件選自光敏電阻、光電池、光敏二極管、光敏三極管中的任何一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的覆膜厚度控制系統(tǒng)，其中，在所述狹槽中無(wú)膜和膜最厚時(shí)的端電壓都在光敏器件的線性工作區(qū)間內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆膜厚度控制系統(tǒng)，其中，所述光敏器件陣列的端電壓為所述光敏器件陣列中的有效光敏器件的端電壓的平均值。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆膜厚度控制系統(tǒng)，其中，所述發(fā)光二極管陣列和所述光敏器件陣列的尺寸與膜的尺寸相適應(yīng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆膜厚度控制系統(tǒng)，其中，所述中間支持件由中間夾層和底座組裝而成，中間夾層中設(shè)置有所述上通孔陣列而所述底座中設(shè)置有所述下通孔陣列，所述狹槽形成于所述中間夾層與所述底座之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆膜厚度控制系統(tǒng)，其中，所述控制電路在對(duì)標(biāo)準(zhǔn)電壓與端電壓進(jìn)行比較之前，根據(jù)光敏器件陣列的端電壓是否達(dá)到最大值，來(lái)判斷狹槽中是否有膜通過(guò)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆膜厚度控制系統(tǒng)，其中，所述控制電路在單片機(jī)中實(shí)現(xiàn)。
10.一種覆膜厚度控制方法，所述方法包括: 利用設(shè)置在膜一側(cè)的發(fā)光二極管陣列發(fā)射光； 將所發(fā)射的光通過(guò)膜傳輸?shù)皆O(shè)置在膜另一側(cè)的光敏器件陣列上； 利用所述光敏器件陣列將所接收的光轉(zhuǎn)換為端電壓； 對(duì)標(biāo)準(zhǔn)電壓與光敏器件陣列的端電壓進(jìn)行比較，并基于比較結(jié)果控制送膜的步進(jìn)電機(jī)使得膜的厚度適合，其中，所述標(biāo)準(zhǔn)電壓為膜厚度適當(dāng)時(shí)光敏器件陣列的端電壓。
11.一種覆膜機(jī)，所述覆膜機(jī)中整合有如權(quán)利要求1-9中的任何一項(xiàng)所述的覆膜厚度控制系統(tǒng)以及用于送膜的步進(jìn)電機(jī)。
【文檔編號(hào)】B32B41/00GK103802442SQ201210458368
【公開(kāi)日】2014年5月21日 申請(qǐng)日期:2012年11月14日 優(yōu)先權(quán)日:2012年11月14日
【發(fā)明者】張振一, 張曉明, 王森, 謝志永, 呂健, 徐曉紅, 盧惠娜, 吳穎妹, 羅七一 申請(qǐng)人:上海微創(chuàng)醫(yī)療器械（集團(tuán)）有限公司