專利名稱：一種光學(xué)擴(kuò)散膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種光學(xué)擴(kuò)散膜。
背景技術(shù)：
液晶背光源體系的主要光學(xué)膜片有擴(kuò)散膜、增亮膜和反射膜。擴(kuò)散膜的主要作用是將從導(dǎo)光板放射出的光，透過擴(kuò)散粒子來達(dá)到霧化光源的效果?，F(xiàn)有的擴(kuò)散膜一般都是兩層結(jié)構(gòu)包括擴(kuò)散層和聚酯芯層，聚酯芯層復(fù)合在擴(kuò)散層的下表面。擴(kuò)散層的材料一般采用在芳香族飽和聚酯內(nèi)混入擴(kuò)散粒子，聚酯芯層一般采用芳香族飽和聚酯。其還存在的缺點(diǎn)在于背光模塊在加工過程中，會(huì)產(chǎn)生由靜電帶來的粉塵危害，但是現(xiàn)有的光學(xué)擴(kuò)散膜無法有效避免該種危害。

發(fā)明內(nèi)容為了克服現(xiàn)有光學(xué)擴(kuò)散膜的上述不足，本實(shí)用新型提供一種可避免靜電危害的光學(xué)擴(kuò)散膜。本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題的技術(shù)方案是一種光學(xué)擴(kuò)散膜，包括擴(kuò)散層、聚酯芯層，所述的聚酯芯層復(fù)合在所述擴(kuò)散層的下表面，還包括抗靜電膜層，所述的抗靜電膜層復(fù)合在所述聚酯芯層的下表面。擴(kuò)散層的材料一般采用在芳香族飽和聚酯內(nèi)混入擴(kuò)散粒子，聚酯芯層一般采用芳香族飽和聚酯，抗靜電膜層一般才用芳香族飽和聚酯內(nèi)混入抗靜電粒子，如四烷基銨鹽。本實(shí)用新型的有益效果在于由于本實(shí)用新型的光學(xué)擴(kuò)散膜的下表層是抗靜電層，因此可有效防止在背光模塊加工過程中由靜電帶來的粉塵危害。

圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明。參照圖1，一種光學(xué)擴(kuò)散膜，包括擴(kuò)散層1、聚酯芯層2，所述的聚酯芯層2復(fù)合在所述擴(kuò)散層1的下表面，還包括抗靜電膜層3，所述的抗靜電膜層3復(fù)合在所述聚酯芯層2的下表面。擴(kuò)散層1的材料一般采用在芳香族飽和聚酯內(nèi)混入擴(kuò)散粒子(如二氧化硅等)，聚酯芯層2 —般采用芳香族飽和聚酯，抗靜電膜層3 —般才用芳香族飽和聚酯內(nèi)混入抗靜電粒子，如四烷基銨鹽。由于本實(shí)用新型的光學(xué)擴(kuò)散膜的下表層是抗靜電層，因此可有效防止在背光模塊加工過程中由靜電帶來的粉塵危害。
權(quán)利要求1. 一種光學(xué)擴(kuò)散膜，包括擴(kuò)散層、聚酯芯層，所述的聚酯芯層復(fù)合在所述擴(kuò)散層的下表面，其特征在于還包括抗靜電膜層，所述的抗靜電膜層復(fù)合在所述聚酯芯層的下表面。
專利摘要一種光學(xué)擴(kuò)散膜，包括擴(kuò)散層、聚酯芯層，所述的聚酯芯層復(fù)合在所述擴(kuò)散層的下表面，還包括抗靜電膜層，所述的抗靜電膜層復(fù)合在所述聚酯芯層的下表面。由于本實(shí)用新型的光學(xué)擴(kuò)散膜的下表層是抗靜電層，因此可有效防止在背光模塊加工過程中由靜電帶來的粉塵危害。
文檔編號(hào)B32B27/36GK202003046SQ201120036348
公開日2011年10月5日 申請日期2011年1月30日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月30日
發(fā)明者羅培棟 申請人:寧波東旭成化學(xué)有限公司