專利名稱：干凈、快速細(xì)分多層光學(xué)膜的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及將含多層光學(xué)膜的光學(xué)實(shí)體切割或細(xì)分成許多小片的方法。
背景技術(shù)：
多層光學(xué)膜是眾所周知的，通過適當(dāng)排列折射指數(shù)不同的微層，這種膜至少可部分獲得所需透射和/或反射性質(zhì)。在真空室中，在基底上按順序依次沉積多個(gè)無機(jī)材料光學(xué)薄層(“微層”)，由此制備上述多層光學(xué)膜，這個(gè)方法早就為人所知。一般地，基底是較厚的玻璃片，可能是沉積過程對(duì)真空室體積和/或均勻程度有限制，基底尺寸也受到限制。
最近，多層光學(xué)膜已通過交替共擠出聚合物層得到說明。例如，可參見美國專利3610724(Rogers)、4446305(Rogers等)、4540623(Im等)、5448404(Schrenk等)和5882774(Jonza等)。在這些聚合物多層光學(xué)膜中，形成各層的時(shí)候主要或全部使用聚合物材料。這些膜適應(yīng)大體積生產(chǎn)過程，可制成大塊片材和成卷的商品。
但是，許多產(chǎn)品在應(yīng)用中需要大量小片膜，例如單個(gè)光二極管探測(cè)器。其他應(yīng)用包括光纖器件和其他小型光子器件中的窗體、反射器和/或過濾器。對(duì)于這些應(yīng)用，通過機(jī)械方法細(xì)分片材，例如用剪切裝置(例如剪刀)切割片材，或者用刀片切開片材，可從這種大片膜得到小片多層光學(xué)膜。但是，切割工具施加在膜上的力可能會(huì)使層沿著膜上切割線或切割邊緣區(qū)域剝離。對(duì)于眾多的聚合物多層光學(xué)膜尤其如此。由于相對(duì)于完好無損的區(qū)域而言顏色發(fā)生變化，膜上的脫層區(qū)常?？吹靡?。因?yàn)槎鄬庸鈱W(xué)膜依靠與各層的密切接觸而產(chǎn)生所需的反射/透射特性，所以脫層區(qū)無法提供這些特性。
在某些產(chǎn)品的應(yīng)用中，脫層可能不成問題，甚至可忽略不計(jì)。而在其他應(yīng)用中，特別是當(dāng)包括邊緣在內(nèi)的幾乎整片膜對(duì)于形成所需反射或透射特性非常重要時(shí)，或者當(dāng)膜要受到機(jī)械應(yīng)力作用且/或要經(jīng)歷較大的溫度變化而可能使脫層現(xiàn)象隨時(shí)間在膜中擴(kuò)散時(shí)，脫層將是致命的缺陷。
因此，需要改進(jìn)細(xì)分多層光學(xué)膜和包含這種膜的制品的方法。該方法最好不要在切割線或膜邊緣產(chǎn)生脫層現(xiàn)象，在切割膜時(shí)比較干凈，不會(huì)在膜上積聚太多碎屑，而且適應(yīng)于自動(dòng)和/或連續(xù)生產(chǎn)過程。
發(fā)明簡(jiǎn)述本發(fā)明介紹了將包含多層光學(xué)膜的多層光學(xué)膜體細(xì)分或切割成一個(gè)或多個(gè)分立的片。在簡(jiǎn)單情況下，多層光學(xué)膜體主要由多層光學(xué)膜構(gòu)成。在其他情況下，多層光學(xué)膜體也可包含層壓到多層光學(xué)膜上的一個(gè)或多個(gè)別的層。在多層光學(xué)膜體的兩個(gè)相對(duì)主表面上安裝了第一和第二活動(dòng)襯墊。接著，可通過一個(gè)襯墊(姑且稱為第一襯墊)對(duì)膜體進(jìn)行激光輻射，激光輻射是用來形成切割線的，即將第一襯墊和膜體切割成許多片。激光輻射通常會(huì)產(chǎn)生一縷煙，還有碎屑沉積在工件上——在這里是沉積在第一襯墊上。隨后可從多層光學(xué)膜體上拿走第一襯墊(以及碎屑)，多層光學(xué)膜體由第二襯墊支撐。可使膠帶與第一襯墊接觸，然后從多層光學(xué)膜體上拉開膠帶，以此帶走第一襯墊和碎屑。
至少第一襯墊是通過靜電固定在膜體上的。用激光輻射形成切割線之后，而在從多層光學(xué)膜體片取下第一襯墊片之前，可用中和器件減少第一襯墊和多層光學(xué)膜體之間的靜電引力。
雖然激光輻射是切割膜體的優(yōu)選技術(shù)，但其他方法如旋轉(zhuǎn)模切割法和超聲切割法在某些情況下也是適用的。
附圖簡(jiǎn)述以下整個(gè)說明過程都是在參考附圖的情況下進(jìn)行的，其中相同的指示數(shù)字代表相同的部件。


圖1是多層光學(xué)膜體的高倍放大透視圖；圖2是多層光學(xué)膜體片的俯視圖，虛線表示細(xì)分的路徑；圖3是位于上下襯墊之間的多層光學(xué)膜體的剖面圖，該圖還顯示了電磁輻射在切割線上形成的間隙，是這些間隙將多層光學(xué)膜體和上襯墊分成了一個(gè)個(gè)分立的片；圖4是類似于圖3的剖面圖，但上襯墊上粘有黏性膜，該黏性膜能將各片上襯墊從各片多層光學(xué)膜體上拉下來；圖3a和4a分別類似于圖3和4，不同之處在于前面兩幅圖中的切割線完全穿透膜體中多層光學(xué)膜微層，但沒有完全穿過膜體外層的可撕裂厚度；
圖5是從一大片多層光學(xué)膜體上切下來的一片光學(xué)膜的俯視圖；圖6是圖5所示多層光學(xué)膜體片的透視圖，它上面裝有許多過濾器框架；圖7是細(xì)分多層光學(xué)膜體的連續(xù)過程；圖8是切割完成后的多層光學(xué)膜體的俯視圖。
實(shí)施方式示例詳述這里所用“膜”是指延展性光學(xué)體，其厚度一般不超過約0.25mm(1/10000英寸，或“mil”)。某些情況下，膜可以附著或粘貼到具有合適的反射或透射性質(zhì)的另一個(gè)光學(xué)體如硬質(zhì)基底上，或者另一塊膜上。膜的形式也可以是物理彈性膜，可以獨(dú)立支撐，也可以附著在其他彈性層上。這里所用術(shù)語“膜體”是指完全由膜構(gòu)成的實(shí)體，或者與其他組分聯(lián)合構(gòu)成的實(shí)體，如在層合結(jié)構(gòu)中那樣。
圖1描述了多層光學(xué)膜體20。膜體包含獨(dú)立的微層22、24。微層具有不同的折射指數(shù)，因而某些光將在毗鄰微層間的界面上發(fā)生反射。微層足夠薄，因而在許多界面上發(fā)生的反射光將發(fā)生相長干涉或相消干涉，以便賦予膜體所需反射或透射性質(zhì)。對(duì)于意在反射紫外線、可見光或近紅外光的光學(xué)膜，每個(gè)微層的光學(xué)厚度(即物理厚度乘以折射指數(shù))一般小于約1μm。但是，較厚的層也可以包括在內(nèi)，如位于膜外表面上的表層，或者在膜內(nèi)分開各組微層的保護(hù)性界層。多層光學(xué)膜體20也可以包含一個(gè)或多個(gè)厚黏性層，在層合物內(nèi)將兩片或多片多層光學(xué)膜黏結(jié)在一起。
多層光學(xué)膜體20的反射和透射性是各微層折射指數(shù)的函數(shù)。每個(gè)微層的特征是，膜中至少局部位置的面內(nèi)折射指數(shù)為nx、ny，膜的厚度方向的折射指數(shù)為nz。這些指數(shù)分別表示光分別沿互相正交的x-、y-和z-軸偏振時(shí)，組分材料的折射指數(shù)。在實(shí)踐中，折射指數(shù)可通過嚴(yán)格挑選材料和加工條件來控制。膜體20的制備方法是，交替共擠出聚合物A、B，通常達(dá)數(shù)十或數(shù)百層，然后任選使多層擠出物通過一個(gè)或多個(gè)倍增模具，接著拉伸或擠出物或使擠出物定向，形成最終的膜。所得膜通常由數(shù)十個(gè)或數(shù)百個(gè)獨(dú)立微層組成，它們的厚度和折射指數(shù)經(jīng)過調(diào)整，可在所需光譜區(qū)內(nèi)提供一個(gè)或多個(gè)反射段，如可見光或近紅外光。為了用數(shù)量合理的層得到高反射性，對(duì)于在x-軸發(fā)生偏振的光，相鄰微層的折射指數(shù)差(Δnx)宜至少為0.05。如果對(duì)兩個(gè)正交的偏振光都要求有高反射性，則對(duì)于在y-軸發(fā)生偏振的光，相鄰微層的折射指數(shù)差(Δny)也宜至少為0.05。另外，折射指數(shù)差Δny也可以小于0.05，宜約為0，以得到多層堆積結(jié)構(gòu)，它能反射一種偏振態(tài)的正入射光，而透過正交偏振態(tài)的正入射光。
如果需要，對(duì)于沿z-軸偏振的光，也可以調(diào)整相鄰微層之間的折射指數(shù)差(Δnz)，以獲得所需的反射斜入射光p-偏振組分的性質(zhì)。下面為了便于解釋，談?wù)摰礁缮婺ど系娜魏吸c(diǎn)的時(shí)候，都把x-軸看成在膜平面之內(nèi)，以使Δnx的值達(dá)到最大。這樣，Δny的值可以等于或小于(但不能大于)Δnx的值。此外，在考慮選擇何種材料層開始計(jì)算Δnx、Δny和Δnz時(shí)，主要受到Δnx為非負(fù)的要求的限制。換句話說，形成界面的兩層的折射指數(shù)差是Δnj＝Δn1j-Δn2j，其中j＝x、y或z，在選擇層標(biāo)記時(shí)要使得Δn1x≥Δn2x，即Δnx≥0。
為了使斜角入射的p-偏振光保持高反射性，可控制微層之間的z-指數(shù)失配度Δnz，使之基本上小于最大面內(nèi)折射指數(shù)差Δnx，從而Δnz≤0.5*Δnx。Δnz≤0.25*Δnx更好。z-指數(shù)失配度為0或接近0時(shí)，所得微層間的界面對(duì)p-偏振光的反射率相對(duì)于入射角為常數(shù)或近似為常數(shù)。此外，可控制z-指數(shù)失配度Δnz，使它與平面內(nèi)指數(shù)差Δnx相比具有相反的偏光性，即Δnz＜0。此條件下得到的界面對(duì)p-偏振光的反射率隨著入射角的增加而增加，就像s-偏振光那樣。
可用來制備聚合物多層光學(xué)膜的材料的例子見PCT專利公開WO99/36248(Neavin等)。其中至少一種材料宜為應(yīng)力光學(xué)系數(shù)絕對(duì)值較大的聚合物。換句話說，聚合物拉伸后宜形成較大的雙折射指數(shù)(至少約為0.05，更宜至少約為0.1，或者0.2)。根據(jù)多層膜的應(yīng)用，雙折射可發(fā)生在膜平面內(nèi)的兩個(gè)正交方向之間，在一個(gè)或多個(gè)面內(nèi)方向與垂直于膜面的方向之間，或者這兩種情況都有。在特殊情況下，即未拉伸聚合物層之間的各向同性折射指數(shù)相差較大的時(shí)候，可以放松對(duì)至少一種聚合物具有大雙折射指數(shù)的要求，但一般仍然希望具有雙折射性。這種特殊情況可能存在于為平面鏡膜和偏振器膜選擇聚合物的時(shí)候，這些膜用雙軸向方法形成，即在平面內(nèi)的兩個(gè)正交方向上拉膜。此外，聚合物在被拉伸后宜保持雙折射性，從而賦予最終的膜以所需的光學(xué)性質(zhì)?？蔀槎鄬幽ぶ械钠渌麑舆x擇第二種聚合物，使這第二種聚合物在最終膜里至少一個(gè)方向上的折射指數(shù)明顯不同于第一種聚合物在同一方向上的折射指數(shù)。為方便起見，一般只用兩種不同的聚合物材料制備膜，在擠出過程中交替放置這些材料，得到交疊層A、B、A、B、……，如圖1所示。但并不要求只交疊兩種不同的聚合物材料。相反，多層光學(xué)膜中的每一層都可以由不同于膜中其他地方的獨(dú)特材料或混合材料組成。共擠出的聚合物宜具有相同或相似的熔化溫度。
既能提供足夠大的折射指數(shù)，又能提供足夠強(qiáng)的層間黏著力的雙聚合物組合的例子包括(1)對(duì)于主要用單軸向拉伸法制備的偏光多層光學(xué)膜，PEN/共PEN、PET/共PET、PEN/sPS、PET/sPS、PEN/EasterTM和PET/EasterTM，其中“PEN”指聚萘二甲酸乙二酯，“共PEN”指基于萘二酸的共聚物或混合物，“PET”指對(duì)苯二甲酸乙二酯，“共PET”指基于對(duì)苯二甲酸的共聚物或混合物，“sPS”指間同立構(gòu)聚苯乙烯及其衍生物，EasterTM是可購于Eastman ChemicalCo.的聚酯或共聚酯(相信包含環(huán)己二醇單元和對(duì)苯二甲酸單元)；(2)對(duì)于通過控制雙軸向拉伸法工藝條件制備的偏光多層光學(xué)膜，PEN/coPEN、PEN/PET、PEN/PBT、PEN/PETG和PEN/PET共PBT，其中“PBT”指聚對(duì)苯二甲酸丁二酯，“PETG”指PET與第二種醇(通常為環(huán)己二醇)的共聚物，“PET共PBT”指對(duì)苯二甲酸或其酯與乙二醇和1，4-丁二醇混合物的共聚酯；(3)對(duì)于鏡面膜(包括有色鏡面膜)，PEN/PMMA、共PEN/PMMA、PET/PMMA、PEN/EcdelTM、PET/EcdelTM、PEN/sPS、PET/sPS、PEN/共PET、PEN/PETG和PEN/THVTM，其中“PMMA”指聚甲基丙烯酸甲酯，EcdelTM是可購于EastmanChemical Co.熱塑性聚酯或共聚酯(相信包含環(huán)己二酸單元、聚丁二醇單元和環(huán)己二醇單元)，THVTM是可購于3M公司的氟聚物。
合適的多層光學(xué)膜和相關(guān)結(jié)構(gòu)的其他詳細(xì)信息見美國專利5882774(Jonza等)和PCT專利公開WO95/17303(Ouderkirk等)和WO99/39224(Ouderkirk等)。聚合物多層光學(xué)膜和膜體可包含其他層和為其光學(xué)、機(jī)械和/或化學(xué)性質(zhì)而選擇的涂層。見美國專利6368699(Gilbert等)。聚合物膜和膜體還可包含無機(jī)層，如金屬層、金屬氧化物涂層或?qū)印?br> 在一種簡(jiǎn)單實(shí)施方式中，微層可以是厚度為1/4波長的堆積結(jié)構(gòu)，即形成光學(xué)重復(fù)單元或單胞，每個(gè)重復(fù)單元或單胞基本上由兩個(gè)相鄰的等光學(xué)厚度微層構(gòu)成(f比＝50％)，這種光學(xué)重復(fù)單元能有效反射波長λ兩倍于光學(xué)重復(fù)單元總光學(xué)厚度的相長干涉光。這種結(jié)構(gòu)如圖1所示，其中聚合物A的微層22毗鄰聚合物B的微層24，形成單胞或光學(xué)重復(fù)單元26，該單胞或重復(fù)單元在整個(gè)堆積結(jié)構(gòu)中重復(fù)出現(xiàn)?？衫媚ぴ诤穸容S方向(即z-軸方向)的厚度梯度增大反射范圍。也可以通過調(diào)整厚度梯度使此范圍變窄，如美國專利6157490(Wheatley等)所述。
其他層結(jié)構(gòu)，如含有f比不是50％的雙微層光學(xué)重復(fù)單元的多層光學(xué)膜，或光學(xué)重復(fù)單元主要由兩個(gè)以上的微層組成的膜，也在考慮范圍之內(nèi)。這些光學(xué)重復(fù)單元結(jié)構(gòu)可減少或消除某些高級(jí)反射。例如，可參見美國專利5360659(Arends等)和5103337(Schrenk等)。
圖2所示為一片多層光學(xué)膜體30的局部俯視圖。膜體30在生產(chǎn)和銷售時(shí)，其橫向尺寸比在最終的特定應(yīng)用中所要求的尺寸大。因此，為使膜適應(yīng)具體用途，需要將膜體30細(xì)分為較小的片。所需膜片的大小和形狀可在很大范圍內(nèi)變化。為方便起見圖2所示膜片用兩組交叉的平行切割線表示，標(biāo)記為32和34。如果兩組切割線都使用，則膜體30將變成一個(gè)個(gè)獨(dú)立的矩形(包括方形)或平行四邊形片，它們均向兩個(gè)方向延伸，即膜30的長度和寬度方向。如果只用一組切割線，則膜片將是矩形長條。當(dāng)然，切割線不必筆直，當(dāng)中可以雜以弧線、折線。但通常需要的都是簡(jiǎn)單形狀，如圓形、矩形、平行四邊形或其他多邊形。
本發(fā)明申請(qǐng)者發(fā)現(xiàn)激光輻射可用于切割和細(xì)分聚合物多層光學(xué)膜體，并且在切割線上基本上不會(huì)引起脫層。所選激光輻射的波長至少為光學(xué)膜中的某些材料大量吸收，吸收的電磁輻射沿切割線使膜體蒸發(fā)。否則，激光輻射將如同其他波長在膜的目標(biāo)作用范圍內(nèi)的入射光一樣，透過膜或在膜上發(fā)生反射。激光輻射同樣用合適的聚焦光學(xué)儀器整形，以控制在合適的功率水平，從而沿較窄的切割線完成蒸發(fā)作用。激光輻射也宜根據(jù)預(yù)編程指令，快速掃描工件，并快速開關(guān)，從而能夠沿任意形狀的切割線進(jìn)行切割?？捎糜诖四康牡纳虡I(yè)激光系統(tǒng)在市場(chǎng)上有LaserSharp牌激光處理模塊，由LasX Industries Inc.，St.Paul，MN生產(chǎn)。這些模塊采用CO2激光源，切割工件的工作波長約為10.6μm(約9.2-11.2μm)。
申請(qǐng)者還發(fā)現(xiàn)在激光輻射切割過程中產(chǎn)生的蒸發(fā)物質(zhì)會(huì)在工件上積聚成碎屑。這些碎屑積聚的程度可使膜片不適合目標(biāo)應(yīng)用。為避免這個(gè)問題，可在激光切割前，在多層光學(xué)膜體上裝上第一襯墊。如果第一襯墊和多層光學(xué)膜體保持緊密接觸，則在切割步驟產(chǎn)生的任何碎屑都將積聚在第一襯墊上，而不是在多層光學(xué)膜體上。但在安裝第一襯墊時(shí)，也宜使它容易得到清除，這樣才能得到一片片干凈的多層光學(xué)膜體。一種方法是在激光切割前，通過靜電將第一襯墊安裝到多層光學(xué)膜體上。隨后，可中和至少部分靜電荷，以減小襯墊與膜體之間的吸引力，從而方便其分離。或者，也可以用一薄層低黏性黏合劑粘貼，如即時(shí)貼上所用的那種。
在切割期間，激光輻射宜通過第一襯墊照射在多層光學(xué)膜體上。因此，除非第一襯墊不吸收所用波長的激光，第一襯墊也將被切成片，而且其形狀基本上與多層光學(xué)膜體片一樣，因?yàn)檫@兩層緊密接觸。也就是說，在受控激光將多層光學(xué)膜體切割成片的同時(shí)，它也將第一襯墊切割成基本上相同的片。第一襯墊宜用紙。紙受到激光輻射時(shí)揮發(fā)而不熔化，因此紙片不會(huì)黏結(jié)到相鄰的各片多層光學(xué)膜體上。可用一層極薄(小于1密耳)的硅酮處理紙，但紙仍保留所需的這些性質(zhì)。在此情況下，紙宜以用硅酮處理過的那一面接觸多層光學(xué)膜體。也可以采用其他材料，只要它們?cè)谑艿郊す廨椛鋾r(shí)極少熔化或不熔化。
為方便搬運(yùn)，可在多層光學(xué)膜體上安有第一襯墊的反面安裝第二襯墊。另外，可適當(dāng)選擇襯墊并適當(dāng)控制激光輻射，以便在至少部分切割線上獲得所謂的“吻-切”效果，即第一襯墊和多層光學(xué)膜體在切割線上完全蒸發(fā)，而第二襯墊沒有完全蒸發(fā)，即至少有一部分保持不變，宜完全保持不變。這樣，各片獨(dú)立的多層光學(xué)膜體形成后，仍能以有序結(jié)構(gòu)搬運(yùn)，并以網(wǎng)絡(luò)或片材的形式送去快速加工。第二襯墊就是在多層光學(xué)膜體切割成片后，起支撐和運(yùn)送作用的。注意，不管第二襯墊位于各膜體片上面還是下面，都能支撐和運(yùn)送這些片。
圖3就是這種情況的示意圖。在此剖面圖中，為方便期間，只示出了一層聚合物多層光學(xué)膜體40。第一襯墊42和第二襯墊44緊密貼合在膜體40相對(duì)的兩個(gè)主表面上。所示襯墊44包含兩個(gè)層44a和44b，其原因如下。激光輻射46a、46b、46c分別通過襯墊42照射到膜體40的切割線48a、48b、48c上。提供了合適的光束整形光學(xué)儀器，并控制功率(未示出)，以便襯墊42和膜體40蒸發(fā)時(shí)形成狹小的縫隙，同時(shí)襯墊44基本保持不變。切割線和縫隙將多層膜體40分成片40a、40b、40c，將襯墊42分成對(duì)應(yīng)的片42a、42b、42c。在圖3中，各片襯墊42與各片多層膜體40保持緊密接觸，例如通過靜電引力或其他可逆附著方法。
切割線48a-c可同時(shí)形成，也可依次形成。上面提到的LaserSharp激光處理模塊以單束激光掃描，輻射46a-c表示依次掃描的激光束。如上所述，其他切割技術(shù)可替代激光輻射，如旋轉(zhuǎn)模切割和超聲切割。
圖4所示為可從多層光學(xué)膜體片40a-c上方便地清除覆蓋了碎屑的襯墊片42a-c的技術(shù)。壓敏膠帶52與圖3所示結(jié)構(gòu)接觸，從而使壓敏黏合劑與第一襯墊42接觸。如果膜42在激光切割過程中與膜體40通過靜電作用貼合在一起，宜基本上中和靜電作用或至少減少靜電作用，使襯墊42與膜體40之間的吸引力明顯小于襯墊42與膠帶52之間的吸引力。接著，簡(jiǎn)單地將膠帶52從膜體40上拉開，或反過來拉，即可將襯墊片42a-c迅速從膜體片40a-c上分離開。通過這種方法，可迅速、方便地清除數(shù)十、成百、上千的襯墊片。膠帶52宜覆蓋多層光學(xué)膜體40的整個(gè)寬度，以便同時(shí)接觸一排要切割的片。
清除襯墊片42a-c后，多層光學(xué)膜體片40a-c也宜從第二襯墊44上揭下來。這可通過在膜體40和第二襯墊44之間形成較小的黏合力來完成。這種黏合力可通過靜電或用少量低黏性壓敏黏合劑來形成。黏合力要足夠小，以便使襯墊44通過一個(gè)尖角落或?qū)⑺鼜澱蹠r(shí)，就能容易地剝開片40a-c，并輕輕地揭掉。
襯墊44宜包含至少兩個(gè)層44a、44b，以利于吻-切?？拷鄬庸鈱W(xué)膜體40的層44a宜由對(duì)激光輻射的吸收性明顯小于膜體40的材料組成。由于吸收性低，層44a在用經(jīng)過適當(dāng)控制的激光進(jìn)行切割的過程中很少發(fā)生或不發(fā)生蒸發(fā)。研究發(fā)現(xiàn)，厚度約為0.001英寸(25μm)或更小的聚乙烯材料足以適用于工作波長約為10.6μm的CO2激光切割系統(tǒng)。但這種材料在切割線處容易因激光產(chǎn)生的熱而變長或變形。如果襯墊44存在張力，并用來剝離激光切割區(qū)的多層光學(xué)膜體40，則襯墊層44a的拉伸或變形會(huì)導(dǎo)致片40a-c彼此錯(cuò)開，從而得到錯(cuò)位激光切割體。為此，層44b宜由模量較高的材料組成，如高模量黏合劑涂層紙，以保持膜體40和膜片40a-c在尺寸上的穩(wěn)定性。
利用激光切割方法，可使多層光學(xué)膜體片40a-c的邊緣基本上不發(fā)生脫層；通過利用第一和第二襯墊42、44，它們還具有沒有碎屑的清潔主表面。激光輻射產(chǎn)生的熱使微層邊緣發(fā)生變形，正好使多層光學(xué)膜形成密封。
圖5所示為一片聚合物多層光學(xué)膜體60的俯視圖，它是從較大的聚合物多層光學(xué)膜體上切割下來的。片60的激光切割周邊62a-d圍成了一個(gè)拉長的條，它宜用圖3所示吻-切法形成?？捎闷渌す馇懈罘绞竭M(jìn)一步將多層光學(xué)膜體細(xì)分成濾光片組。邊緣64a、64b是對(duì)位孔，用來將膜條安裝在注模裝置中。這些邊緣也宜吻-切而成。點(diǎn)66確定了線性排列的孔，形成打孔線，以便沿這些線撕裂或剪切。在激光切割過程中，宜控制激光輻射，以便沿點(diǎn)66對(duì)多層光學(xué)膜體和第一、第二襯墊進(jìn)行完整的通切(而不是簡(jiǎn)單的吻-切)。一個(gè)孔橫斷邊62a，另一個(gè)孔橫斷邊62c，從而在每條邊上形成部分孔或凹口，以方便撕裂。
降低激光輻射強(qiáng)度，使蒸發(fā)程度不致穿透多層膜體60，從而形成熔化區(qū)68。這可通過使激光束散焦、降低激光功率并/或使激光更快地掃描工件來實(shí)現(xiàn)。盡管某些多層光學(xué)膜體可在熔化區(qū)68蒸發(fā)，至少部分多層光學(xué)膜體在熔化區(qū)68的厚度不變，但會(huì)因局部受熱而變形。這種變形情況的例子有微層局部起皺或發(fā)生起伏，以及各微層的共混和缺失。當(dāng)隨后用剪切或拉伸機(jī)械工具沿打孔線將片60切割成更小的片時(shí)，可利用熔化區(qū)68防止脫層的蔓延。可參考美國專利申請(qǐng)10/268354，題目為《以熔化區(qū)控制脫層的多層光學(xué)膜》，登記于2002年10月10日。
如圖5所示，熔化區(qū)68平行于膜條的寬度方向，并成對(duì)存在，交替形成活動(dòng)窗區(qū)67和機(jī)械分離區(qū)69。在機(jī)械分離區(qū)69，可在點(diǎn)66所確定的位置打孔，當(dāng)然也可以不打孔。不管是否打孔，與分離區(qū)69相接的熔化區(qū)68宜離開足夠遠(yuǎn)的距離，這樣，多層光學(xué)膜的連續(xù)段與每個(gè)熔化區(qū)相接，此連續(xù)段在激光切割過程中不發(fā)生變形，其方向平行于膜條的寬度方向。這些未變形多層光學(xué)膜段起緩沖區(qū)的作用，在用機(jī)械方法(例如，如果打了孔，則利用張力；或者用剪切方法)將窗口區(qū)67沿分離區(qū)69彼此分離時(shí)不發(fā)生脫層。
多層光學(xué)膜體也可包含一塊或多塊多層光學(xué)膜，它們牢固地附著在光學(xué)厚度較厚的外層上，在選擇外層組成和厚度時(shí)，可使外層能經(jīng)受溫和的張力。外層可用透明聚合物制備，宜為聚酯，如聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(PET)或聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚碳酸酯，或它們的共聚物，但如果需要，可在外層中加入著色劑、吸收劑或擴(kuò)散材料。可用黏性層將多層光學(xué)膜黏合到這種外層上。這樣得到的多層光學(xué)膜體可夾在第一和第二可去除襯墊之間，然后可用激光輻射透過第一襯墊形成切割線。在激光切割期間，多層光學(xué)膜體這樣放置，使可撕裂外層靠近第二襯墊，即離激光輻射最遠(yuǎn)。此外，可在至少部分切割線上控制激光輻射強(qiáng)度，從而僅部分切穿(蒸發(fā))多層光學(xué)膜體，完全穿透多層光學(xué)膜，但可撕裂外層不動(dòng)。激光切割過程完成并清除第一和第二襯墊之后，多層光學(xué)膜體由于外層沒動(dòng)而仍為連續(xù)片的形式，然后可簡(jiǎn)單地用手或用簡(jiǎn)單機(jī)械以中等力量沿切割線拉開膜片，從而方便地將光學(xué)膜體分成片。分片過程中的張力全部集中在可撕裂外層上。這種結(jié)構(gòu)中的多層光學(xué)膜在分片過程中幾乎不受張力作用，并且膜片周圍的邊緣得到密封。因此，多層光學(xué)膜在分片過程中發(fā)生脫層的可能性幾乎為零。這里所述切割線在圖3a和4a中用數(shù)字49a、49b、49c表示，類似于圖3和4，只是所示多層光學(xué)膜體40有一個(gè)靠近第二襯墊44的可撕裂外層40d。這些切割線可代替圖5中每對(duì)熔化區(qū)68和點(diǎn)66上的打孔線，以方便將窗口區(qū)67分成獨(dú)立的片。周邊62a-d(見圖5)也可用這種切割線，或者，如果需要，可用激光輻射在圖3-4所示位置切穿整個(gè)多層光學(xué)膜體(包括可撕裂外層)。
可借助邊64a、64b確定的對(duì)位孔將一個(gè)或多個(gè)多層光學(xué)膜體片60置于注模機(jī)中。如圖6中剖面圖所示，可在片60周圍的一系列盒子或框架114中形成熔融聚合物材料。冷卻后，沿點(diǎn)66所確定的打孔線用機(jī)械方法切割多層膜體60，制成一個(gè)個(gè)濾光器裝置。這些濾光器裝置及其應(yīng)用的詳細(xì)情況見美國專利申請(qǐng)10/152546，題目是《光探測(cè)器系統(tǒng)及其濾光器》，登記于2002年5月21日。濾光框可含有一個(gè)孔，以安裝光探測(cè)器。光探測(cè)器/濾光器組合裝置構(gòu)成了光譜性質(zhì)得到改進(jìn)的探測(cè)系統(tǒng)，這部分得自光探測(cè)器的光譜性質(zhì)，部分得自多層光學(xué)膜的光譜透射性。
用所述方法將多層光學(xué)膜體片材細(xì)分成塊時(shí)，該方法不限于形成這種材料的條形產(chǎn)品，以用于箱式濾光器。在由較大的片材或卷材形成一個(gè)或多個(gè)多層光學(xué)膜體片(特別是很多片，例如至少10片，至少50片，或至少100片)時(shí)，特別是當(dāng)多層光學(xué)膜體邊緣的脫層會(huì)帶來麻煩，需要整片多層光學(xué)膜體的表面清潔時(shí)，都可以采用這種方法。
圖7所示為干凈、快速地將多層光學(xué)膜體片材轉(zhuǎn)化為多層光學(xué)膜體片的卷-卷工藝200。展開卷202，提供層合膜204，該膜基本上由聚合物多層光學(xué)膜體(例如圖3中的元件40)和黏著在多層光學(xué)膜體的一個(gè)主表面(姑且稱作第二主表面)上的第二襯墊(例如圖3中的襯墊44)。在未示出的前一步驟中，將第二襯墊裝在多層光學(xué)膜體的第二主表面上，例如通過靜電引力或利用少量低黏性黏合劑。層合膜204繞過惰輥206，這樣多層光學(xué)膜體就與輥206接觸。層合膜204接著穿過扭力驅(qū)動(dòng)嚙合輥208、210。第一襯墊212(例如圖3中的元件42)從輥214上展開，由惰輥216帶動(dòng)，與層合膜204靠近，使膜通過傳統(tǒng)的靜電棒218，這樣襯墊就貼合在層合膜204的多層光學(xué)膜體組分上。靜電棒218提供的靜電引力使第一襯墊與多層光學(xué)膜的第一主表面緊密接觸。膜組合204/212(“網(wǎng)”)接著通過激光輻射站220，來自激光控制模塊222的激光輻射網(wǎng)，將多層光學(xué)膜體和第一襯墊切成分立片224，如圖3所示。平臺(tái)226上有一些呈蜂窩狀排列的孔，這些孔與真空源228連接，使網(wǎng)在激光切割期間沿其寬度(橫穿網(wǎng)的方向)和大部分長度(縱穿網(wǎng)的方向)區(qū)域的平整度均勻。激光模塊222包含光束整形和控制器件，可按具有預(yù)定圖案的切割線進(jìn)行切割，每條切割線都以預(yù)定功率設(shè)置切割，而網(wǎng)以恒定速率移動(dòng)。或者，在激光模塊222按具有第一種圖案的切割線切割時(shí)，可使網(wǎng)停止移動(dòng)，然后前進(jìn)一段距離再停下來，使激光模塊按具有第二種圖案的切割線切割，如此以分步-重復(fù)的方式進(jìn)行下去。激光輻射站220宜包含排氣罩230，其結(jié)構(gòu)適合于沿指定方向?yàn)榫W(wǎng)提供強(qiáng)氣流。氣流有助于減少激光切割時(shí)產(chǎn)生的煙和碎屑引起的光學(xué)變形。在切割期間，激光模塊222中的光束控制器件宜使激光切割點(diǎn)在網(wǎng)上沿這種方向移動(dòng)，即基本上沒有光線平行于氣流的方向，從而進(jìn)一步避免煙和碎屑引起變形。
網(wǎng)從激光輻射站220出來，部分切割成片224后，立即從傳統(tǒng)中和棒232附近通過。中和棒可消除或至少減少層合膜204的多層光學(xué)膜體片和第一襯墊片212之間的靜電引力。對(duì)應(yīng)片之間的結(jié)合力受到削弱后，膠帶234從卷236上展開，通過一對(duì)嚙合輥233、235，膠帶234上涂有黏合劑的一面壓向第一襯墊的不連續(xù)片224a。收卷238沿一個(gè)方向拉膠帶234，另一個(gè)收卷240沿另一個(gè)方向拉網(wǎng)，膠帶234將粘有碎屑的第一襯墊片224a從原始多層光學(xué)膜體片224b上分開并帶走。然后用涂有硅酮的PET襯墊242將網(wǎng)松散地卷起，在存儲(chǔ)和搬運(yùn)過程中起臨時(shí)保護(hù)的作用。在后面的步驟中，可大幅度彎折第二襯墊，使松散地卷起的多層光學(xué)膜體片224b完全從第二襯墊上分開。
可以恒定速度驅(qū)動(dòng)嚙合輥233、235，作為卷-卷系統(tǒng)200的速度環(huán)。根據(jù)激光模塊222制備的切割線的數(shù)量、密度、方向和類型，網(wǎng)(即膜組合204/212)的強(qiáng)度在激光輻射站220受到很大削弱。為防止網(wǎng)破裂，宜在網(wǎng)上至少留下一條，更宜在網(wǎng)的每邊留一條保持連續(xù)，不進(jìn)行切割，以增加其強(qiáng)度。這種連續(xù)網(wǎng)條在這里稱作“雜邊”，可在通過嚙合輥233、235之后立即扔掉，在圖中用數(shù)字244表示。
圖8為網(wǎng)250——包含夾在第一和第二襯墊之間的聚合物多層光學(xué)膜體——在激光輻射站220(見圖7)上的頂視圖。網(wǎng)250沿方向252移動(dòng)。排氣罩230形成氣流，氣流方向254垂直于網(wǎng)。將網(wǎng)250隔離成中央工作部分250a和雜邊部分250b，這些部分是通過切割線256從工作部分250a上分離出來的。如果切割線256是通切線，則可對(duì)網(wǎng)起到一定的增強(qiáng)作用。如果它們是吻切線，則可進(jìn)一步增加其強(qiáng)度，因?yàn)樵谶@種情況下，下面的襯墊44在工作部分250a和雜邊部分250b之間是完整的。其他切割線——宜為吻切線——確定了要切成片的代表性形狀258、260。為減少煙和蒸發(fā)材料引起的變形，可安排激光模塊222沿所示優(yōu)選方向258a、260a-b掃描激光切割點(diǎn)，其中有些方向反平行于氣流方向254。
任選地，網(wǎng)250在其每條邊上有兩個(gè)分開的雜邊部分，即圖8左邊的左外側(cè)雜邊部分和圖8右邊的右外側(cè)雜邊部分。通過激光模塊222形成的另一個(gè)貫通切口將這種外側(cè)雜邊部分從雜邊部分250b上分開，后者可描述為內(nèi)雜邊部分，并利用吻切線256。如果存在，外側(cè)雜邊部分可從內(nèi)側(cè)雜邊部分分開，通過激光切割站220后立即收集起來。這些外側(cè)雜邊部分有助于最終的成卷產(chǎn)品形成干凈、均勻的邊緣。同時(shí)，內(nèi)側(cè)雜邊部分與剩余部分的網(wǎng)一起通過上述嚙合輥233、235。
實(shí)施例聚合物多層干涉膜通過如下方法制備在約277℃共擠出低熔點(diǎn)共PEN和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)交替層，形成的擠出物包含224個(gè)單層，這些單層夾在兩個(gè)由低熔點(diǎn)共PEN組成的外表層之間，其中共PEN由90/10的聚萘二甲酸乙二酯(PEN)/聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(PET)共聚物制成。這些層確定了基本上由112個(gè)單胞組成的光學(xué)組件，其沿垂直于堆積結(jié)構(gòu)的軸存在大致呈線性變化的厚度梯度。位于組件一側(cè)的最厚單胞比位于組件另一側(cè)的最薄單胞約厚1.3倍。對(duì)光學(xué)組件進(jìn)行不對(duì)稱加倍，得到含有448個(gè)單層的多層光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，2外表層和內(nèi)聚合物界層(PBL)位于組件之間。層加倍后，一個(gè)光學(xué)組件的總厚度約為另一個(gè)組件的1.3倍。擠出物在冷卻輥上淬火，形成鑄塑多層膜。隨后沿縱向(MD)和橫向(TD)拉伸鑄塑膜，拉伸比均為3.4∶1，最終得到的膜在共PEN層的平面內(nèi)折射指數(shù)(n1x、n1y)和平面外折射指數(shù)(n1z)分別約為1.744、1.720和1.508，PMMA層的平面內(nèi)折射指數(shù)(n2x、n2y)和平面外折射指數(shù)(n2z)分別約為1.495、1.495和1.495。所有指數(shù)都用Metricon表面波表征儀器在550nm下測(cè)定。最終的膜包含兩個(gè)光學(xué)組件，每個(gè)厚度為1/4波長，每個(gè)組件沿垂直于膜平面的軸向存在大致呈線性變化的厚度梯度，因而各自能夠反射一定波長范圍內(nèi)的光。最終膜中最厚的單胞的厚度約為最薄單胞的1.8倍，對(duì)應(yīng)的反射波長范圍約在665-1220nm之間。光學(xué)結(jié)構(gòu)外側(cè)的表層是低熔點(diǎn)共PEN，厚度約為11μm(0.43密耳)?？偰ず窦s為90μm(3.7密耳)。
根據(jù)光學(xué)性質(zhì)選擇用上述方法制備的兩卷基本相同的多層膜，用電暈處理，以提高黏著力。在其中一卷用電暈處理過的膜上涂敷可用UV引發(fā)的黏合劑，厚度約122μm(5密耳)，然后用UV光照射，激發(fā)黏合劑的固化過程。用熱熔擠出法制備的黏合劑是熱塑性組分(乙烯-乙烯乙酸酯)、可固化樹脂組分(環(huán)氧化物和多元醇的混合物)和光引發(fā)組分(三芳基锍六氟銻酸鹽)的均相混合物。然后將兩個(gè)多層膜層壓在一起，在25℃(80°F)熱浸泡10分鐘，以加速層合黏合劑的固化。所得膜體由兩個(gè)多層光學(xué)膜組成，中間夾有透明黏合劑層。該元件以成卷的形式存在，厚度約為12.4密耳(300μm)，寬度約為4英寸(100mm)，長度至少約為50英尺(超過10米)。
對(duì)于普通入射光，這樣得到的膜體或干涉元件在近紅外區(qū)有一個(gè)反射段，而在可見光區(qū)則表現(xiàn)為透射段。在約450-640nm范圍內(nèi)的透光率約為70％，在約700-1140nm范圍內(nèi)的透光率小于1％，在680-700nm和1140-1160nm范圍內(nèi)的透光率小于5％。
第二個(gè)襯墊是高模量紙，用強(qiáng)壓敏黏合劑在它上面黏著了一薄層聚乙烯。紙的厚度約為2密耳(50μm)，聚乙烯層的厚度約為1密耳(25μm)，第二個(gè)襯墊的總厚度約為3密耳(75μm)。涂有黏合劑的紙購自TLC Industrial Tape，Hardwood Heights，Illinois，零件號(hào)為CT1007。用嚙合輥通過連續(xù)工藝將聚乙烯層層壓到多層光學(xué)膜體的一個(gè)主表面上。在另一個(gè)步驟中，涂有黏合劑的紙層壓到聚乙烯層上。(或者，聚乙烯層在與多層光學(xué)膜體接觸的面上可包含一個(gè)低黏性黏合劑，然后再進(jìn)行同樣的步驟。)將它卷起來，存放數(shù)天。
第一個(gè)襯墊是厚度約為2密耳(50μm)的高摸量紙，一面用硅酮處理。該紙購自Litin Paper Company，Minneapolis，Minnesota。
基本上按照?qǐng)D7所述方法加工這些元件，產(chǎn)生大致如圖5所示的許多條狀產(chǎn)物，不同之處是采用了更多的切割線和熔化區(qū)，劃分了8個(gè)活性窗口67，而不是4個(gè)，其他不同點(diǎn)如下所述。這些膜條寬約4.5mm，長約69mm，長度方向平行于網(wǎng)的縱向，熔化區(qū)平行于網(wǎng)的橫向。(或者膜條平行于網(wǎng)的橫向。)限制穿孔線的熔化區(qū)彼此間隔約1.5mm，限制窗口區(qū)域的熔化區(qū)彼此間隔約5.5mm。紙襯墊上用硅酮處理過的一面與層合膜204接觸。采用恒定的網(wǎng)速，約2-3ft/min(0.01-0.015m/s)。網(wǎng)穿過靜電棒218約1/2英寸(10mm)，將靜電棒控制在剛好低于電弧點(diǎn)的條件下。網(wǎng)同樣以類似距離通過中和棒232。在激光輻射站220，采用LaserSharp牌激光加工模塊，型號(hào)為LPM300。CO2激光的光斑直徑約為8密耳(0.2mm)，這樣制得的吻切和通切線寬約13-14密耳(0.35mm)。以下類型的切割線采用如下條件
在此表中，“CW”指橫向切割線，“DW”指縱向切割線。此外，功率設(shè)為100％，負(fù)載循環(huán)設(shè)定為50％，每種特征下的跳躍速度設(shè)定為5000mm/s。CW吻切條件用于切割膜條的次邊緣62b、62d(見圖5)，DW吻切條件用于切割膜條的主邊緣62a、62c，以及圓形邊緣64a、64b，CW穿孔條件用于打孔66，DW通切條件用于將工作部分從雜邊部分分開的切割線(圖8中的線256)，CW熔化區(qū)條件用于熔化區(qū)68。在熔化區(qū)條件產(chǎn)生的熔化區(qū)中，上多層光學(xué)膜(即靠近第一襯墊的多層光學(xué)膜)沿第一襯墊完全蒸發(fā)，而下多層光學(xué)膜(靠近第二襯墊的多層光學(xué)膜)不發(fā)生變化，但其組成層發(fā)生明顯的變形/起伏。
如圖8所示，對(duì)于雜邊部分，網(wǎng)的兩邊之一采用連續(xù)段，不同之處是在工作部分的每條邊上形成內(nèi)外雜邊部分，如前所述。每個(gè)內(nèi)雜邊部分的寬度約為1/8英寸(約3mm)。可將此與網(wǎng)的中央工作部分做比較，該部分的寬度約為3-3.5英寸(約75-90mm)。外側(cè)雜邊部分大約寬1/2英寸(約10mm)。將外側(cè)雜邊部分同網(wǎng)的剩余部分分開，在激光輻射站220和中和棒232之間收集起來。在激光輻射站220的縱向，膠帶234采用連續(xù)單邊黏性膠帶，其寬度約等于網(wǎng)的中央工作部分的寬度。膠帶是常見的3MTM油漆遮蔽帶。內(nèi)側(cè)雜邊部分通過嚙合輥233、235之后迅速與第二襯墊分離，然后連同膠帶和第二襯墊一起卷在卷輥238上。各片(條)多層光學(xué)膜體很容易用手從第二襯墊上取下來。經(jīng)檢查，各膜片在激光切割邊上幾乎沒有發(fā)生脫層現(xiàn)象。用手施加中等大小的張力，膜片可沿打孔線發(fā)生斷裂，從而得到更小的膜片。這樣切割的邊緣經(jīng)檢查后，發(fā)現(xiàn)有脫層現(xiàn)象，但沒有蔓延到熔化區(qū)68。
對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，在不背離本發(fā)明的范圍和實(shí)質(zhì)的情況下，很容易對(duì)本發(fā)明做出各種改進(jìn)和變通。應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明不受限于這里所述示例性實(shí)施方式。
權(quán)利要求
1.細(xì)分多層光學(xué)膜體的方法，它包括展開一卷多層光學(xué)膜體，提供至少包含一塊多層光學(xué)膜的多層光學(xué)膜體；在多層光學(xué)膜體相對(duì)的兩個(gè)主表面上安裝第一和第二襯墊；透過第一襯墊在多層光學(xué)膜體上輻射激光，激光輻射可產(chǎn)生許多切割線，使第一襯墊和多層光學(xué)膜體形成許多小片；從各片多層光學(xué)膜體上去除第一襯墊片，這時(shí)各片多層光學(xué)膜體由第二襯墊支撐；在輻射和去除步驟之后，將多層光學(xué)膜體和第二襯墊卷成一卷。
2.權(quán)利要求1所述方法，其特征在于至少部分切割線完全穿過多層光學(xué)膜體，但沒有完全穿過第二襯墊。
3.將多層光學(xué)膜體切割成許多分立小片的方法，它包括提供包含至少一塊多層光學(xué)膜的多層光學(xué)膜體；在多層光學(xué)膜體上安裝第一襯墊；通過第一襯墊且至少部分通過多層光學(xué)膜體形成切割線，這些切割線形成許多分立小片；從各片多層光學(xué)膜體上去除第一襯墊片；至少在形成切割線和去除第一襯墊片的過程中，以第二襯墊支撐多層光學(xué)膜體；在形成和去除步驟之后，將多層光學(xué)膜體和第二襯墊卷成一卷。
4.權(quán)利要求3所述方法，其特征在于切割線通過激光輻射形成。
5.權(quán)利要求1或4所述方法，其特征在于第一襯墊通過靜電作用安裝在多層光學(xué)膜體上。
6.權(quán)利要求5所述方法，其特征在于它還包括在清除第一襯墊之前減小第一襯墊與多層光學(xué)膜體之間的靜電引力。
7.權(quán)利要求6所述方法，其特征在于減小靜電引力的步驟包括使第一襯墊和多層光學(xué)膜體近距離通過中和棒。
8.權(quán)利要求1或4所述方法，其特征在于提供多層光學(xué)膜體的步驟包括連續(xù)展開一卷多層光學(xué)膜體。
9.權(quán)利要求1或4所述方法，其特征在于安裝襯墊的步驟包括連續(xù)展開一卷第一襯墊。
10.權(quán)利要求8所述方法，其特征在于安裝襯墊的步驟包括使第一襯墊和多層光學(xué)膜體近距離通過靜電棒。
11.權(quán)利要求1或4所述方法，其特征在于清除襯墊的步驟包括展開一卷膠帶，使第一襯墊片與膠帶接觸，卷起黏著了第一襯墊片的膠帶。
12.權(quán)利要求1或4所述方法，其特征在于多層光學(xué)膜體包含聚合物微層。
13.權(quán)利要求1或4所述方法，其特征在于第一襯墊包含紙層。
14.權(quán)利要求13所述方法，其特征在于第一襯墊基本上由紙層組成。
15.權(quán)利要求13所述方法，其特征在于通過靜電作用將第一襯墊貼合到多層光學(xué)膜體上。
16.權(quán)利要求1或4所述方法，其特征在于第二襯墊包含紙層和聚合物層。
17.權(quán)利要求1或4所述方法，其特征在于控制激光輻射，使至少某些切割線不穿過第二襯墊。
18.權(quán)利要求1所述方法，其特征在于輻射步驟在激光切割站上進(jìn)行，輻射步驟還包括沿穿過激光站的第一方向提供氣流。
19.權(quán)利要求4所述方法，其特征在于形成切割線的步驟在激光切割站進(jìn)行，形成切割線的步驟還包括沿穿過激光切割站的第一方向提供氣流。
20.權(quán)利要求18或19所述方法，其特征在于激光輻射相對(duì)于多層光學(xué)膜體移動(dòng)時(shí)，基本上沒有輻射方向平行于第一方向。
21.權(quán)利要求1或4所述方法，其特征在于多層光學(xué)膜體包含可撕裂外層，至少有些切割線通過至少一塊多層光學(xué)膜形成，但沒有穿過可撕裂外層。
22.用權(quán)利要求1或4所述方法制備的多層光學(xué)膜體片。
全文摘要
聚合物多層光學(xué)膜和包含這種膜的層合體，可通過在多層光學(xué)膜的兩個(gè)相對(duì)主表面上貼合可去除的第一和第二襯墊將這些膜切割或細(xì)分成一個(gè)或多個(gè)分立的片。然后通過第一襯墊在多層光學(xué)膜上輻射激光，從而產(chǎn)生切割線，這些切割線使第一襯墊和多層光學(xué)膜形成許多小片。隨后，從多層光學(xué)膜片上去除第一襯墊片，而用第二襯墊支撐多層光學(xué)膜。在多層光學(xué)膜上貼合第一襯墊的步驟可通過靜電作用完成。
文檔編號(hào)B32B37/26GK1653387SQ03811357
公開日2005年8月10日 申請(qǐng)日期2003年4月30日 優(yōu)先權(quán)日2002年5月21日
發(fā)明者B·E·泰特, J·A·維特利, S·J·多布里辛斯基, D·K·莫滕森 申請(qǐng)人:3M創(chuàng)新有限公司