專利名稱：整體式衛(wèi)浴室的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種具有排水結(jié)構(gòu)的整體式衛(wèi)浴室。
背景技術：
我們知道以往的由配備有沐浴裝置的沐浴區(qū)、配備有便器的廁所區(qū)、以及配備有盥洗臺的盥洗區(qū)等構(gòu)成的整體式衛(wèi)浴室。所述整體式衛(wèi)浴室的地面，包括沐浴區(qū)的淋濕區(qū)域和廁所區(qū)及盥洗區(qū)的干燥區(qū)域。在所述整體式衛(wèi)浴室中，為了在使用沐浴裝置時防止水從淋濕區(qū)域流向干燥區(qū)域，專利文獻I公開了如下結(jié)構(gòu):使沐浴空間比廁所空間低落，沿整體式衛(wèi)浴室的墻面設置排水溝，并在洗浴區(qū)內(nèi)角落部設有排水口及排水口蓋。另外，專利文獻2還公開了一種整體式衛(wèi)浴室:將整體式衛(wèi)浴室的地面形成略平的平面，在沐浴空間與廁所空間的邊界部分設置排水溝及排水溝蓋，而且在內(nèi)壁側(cè)設有排水口及排水口蓋，在整體式衛(wèi)浴室的出入口部分設置排水溝及排水溝蓋作為水流盡頭。先行技術文獻專利文 獻專利文獻I日本國特許公開平8-254028號公報專利文獻2日本國特許公開2000-336955號公報實用新型要解決的技術課題在專利文獻I記載的以往技術中，由于在沐浴區(qū)內(nèi)配置了排水溝及排水口蓋，使本就狹窄的沐浴區(qū)域的地面面積更小。由于形成了排水溝的凹部，使得地面難以清掃，且不夠美觀。另外還將排水口配置在沐浴區(qū)內(nèi)的角落部，這樣就會由于整體式衛(wèi)浴室的左右墻面的阻礙，導致排水口內(nèi)部難以清掃等的問題。在專利文獻2記載的以往技術中，由于設置了排水溝蓋，因而部件數(shù)量增加，提高了制造成本。隨著排水溝蓋的清掃次數(shù)的增加，使得清掃操作更加麻煩。排水口被設置在靠近整體式衛(wèi)浴室墻面的沐浴空間與廁所空間的邊界部分，因而會防礙排水口內(nèi)部的清掃操作。另外，整體式衛(wèi)浴室地面被多個排水溝蓋分割，因而還存在不夠美觀的問題。

實用新型內(nèi)容鑒于上述以往的問題點，本實用新型的目的在于，提供一種在沐浴區(qū)的地面上不設置排水溝及排水溝蓋，讓沐浴區(qū)的地面在最大限度上為平面結(jié)構(gòu)，從而提高易清掃性、方便性及美觀性，同時提高排水口內(nèi)部的易清掃性，并且可以阻止水從沐浴區(qū)域出入口流出的整體式衛(wèi)浴室。為實現(xiàn)上述目的，采用了以下結(jié)構(gòu):本實用新型提供一種在淋濕區(qū)域比干燥區(qū)域的地面低落的整體式衛(wèi)浴室中，將淋濕區(qū)域的排水口及覆蓋其上部的排水口蓋設置在干燥區(qū)域側(cè)。而且，排水口及排水口蓋被配置在遠離整體式衛(wèi)浴室墻面的位置。另外，排水口蓋與所述干燥區(qū)域的地面處于略平等的面。[0016]另外，在所述淋濕區(qū)域的地面中，使用者載放足部使用的范圍的地面，呈整面將向排水口方向的排水傾斜面設置為一面。另外，朝向淋濕區(qū)域的出入口開口地面部分，在開口面闊方向比干燥區(qū)域地面向上方突出。另外，排水口蓋的高度，被限制為與來自淋濕區(qū)域的水流入排水口的開口高度略相同的高度。另外，整體式衛(wèi)浴室內(nèi)分隔淋濕區(qū)域的隔板由透明的部件構(gòu)成。實用新型效果通過本實用新型，由于排水口及排水口蓋被設置在沐浴區(qū)域以外，因而可以使用同一部件形成平坦的地面。另外，沐浴區(qū)域的地面可以被更充分地利用，因而可以提高沐浴區(qū)域的易清掃性及使用者足底的舒適感。另外，排水口及排水口蓋設置于遠離墻面的位置，從而縮短了沐浴區(qū)端部與排水口的距離，同時縮短了排水傾斜的長度。這樣，可以使沐浴區(qū)地面的排水傾斜面為同一面，因而不必在該地面上設置排水溝及排水溝蓋。另外，沐浴區(qū)的地面可以被更充分地利用，提高排水口內(nèi)部的易清掃性、以及使用者使用沐浴區(qū)時的足底舒適感。另外，為了不讓沐浴區(qū)的水流入廁所區(qū)及盥洗區(qū)的干燥區(qū)域，沐浴區(qū)的地面部分呈低落狀，通過左右的隔板將水阻斷(即，通過隔板防止水的流入及流出)。作為沐浴區(qū)的出入口部分的水阻斷體，將出入口開口的地面高低差異部分設置為從廁所區(qū)及盥洗區(qū)的地上面凸起的護堤。這樣，不使用排水溝及排水溝蓋，即可以阻止水從沐浴區(qū)的出入口流出。排水口蓋的高度不限制從沐浴區(qū)向排水口的流路開口高度，這樣可以最大限度地發(fā)揮從沐浴區(qū)的排水性能。而且，由于整體式衛(wèi)浴室內(nèi)分隔淋濕區(qū)域的隔板由透明的部件構(gòu)成，這樣在使用沐浴區(qū)時不會有壓迫感。另外，還可以很容易發(fā)現(xiàn)沐浴區(qū)內(nèi)的排水存水彎阻塞等的異常。

圖1是表示本實用新型整體式衛(wèi)浴室的實施方式一的平面圖；圖2是表示淋濕區(qū)域地面與干燥區(qū)域地面的沐浴區(qū)隔板下的邊界部的斷面圖；圖3是表示圖1中斷面A-A的斷面圖；圖4是表示排水口蓋的平面圖；圖5是表示實施方式二的平面圖；圖6是表示從圖3的淋濕區(qū)域地面至排水存水彎的放大圖；圖7是表示實施方式一的淋濕區(qū)域的排水傾斜的排水方向的平面圖；圖8是表示沐浴區(qū)門下端部的放大圖。
具體實施方式
本實用新型的實施方式，是為了更好地理解發(fā)明主旨而進行的具體說明，在沒有特別指定的情況下，本實用新型不以此為限。下面基于實施方式對本實用新型進行說明。圖1是表示本實用新型實施方式一的整體式衛(wèi)浴室的平面圖；圖3是表示圖1中斷面A-A的斷面圖。如圖1及圖3所示，整體式衛(wèi)浴室I由地面17、墻壁al6a、墻壁bl6b、墻壁cl6c、墻壁dl6d、頂棚18、門19等外周部件構(gòu)成，具有空間。整體式衛(wèi)浴室I設有洗漱化妝臺6區(qū)、便器7區(qū)、以及具有固定在墻面上的淋浴裝置4的沐浴區(qū)構(gòu)成的地面11a。在地面I Ia上，形成有將淋浴裝置4流出的水通過沐浴區(qū)門2、沐浴區(qū)隔板a3a及沐浴區(qū)隔板b3b包圍的作為沐浴區(qū)的濕必區(qū)域5，在與所述沐浴區(qū)相對的位置，由洗漱化妝臺6區(qū)構(gòu)成干燥區(qū)域8。另外，在本實施方式中，與沐浴區(qū)同時設置的還有便器7區(qū)，共同構(gòu)成整體式衛(wèi)浴室I。構(gòu)成沐浴區(qū)的沐浴區(qū)隔板3a、沐浴區(qū)隔板3b、以及沐浴區(qū)門2，使用玻璃及樹脂等的透明材料。這樣，在使用沐浴區(qū)時，使用者不會感到壓迫感。另外，在沐浴區(qū)內(nèi)可以很容易發(fā)現(xiàn)排水存水彎13阻塞等的異常。圖2是表示淋濕區(qū)域5的地面與干燥區(qū)域8的地面的沐浴區(qū)隔板(3a及3b)的邊界部的斷面圖。如圖2所示，淋濕區(qū)域5與干燥區(qū)域8的邊界部的沐浴區(qū)隔板3a及沐浴區(qū)隔板3b部的斷面結(jié)構(gòu)，在與干燥區(qū)域地面Ilb相差一個階段的位置(較低的位置)，設置有沐浴區(qū)隔板載放面11c。在與沐浴區(qū)載放面Ilc相差一個階段的位置(較低的位置)，設置有淋濕區(qū)域地面11a。這樣，可以阻止水從淋濕區(qū)域5流出至干燥區(qū)域8。而且，在設置沐浴區(qū)隔板3a及沐浴區(qū)隔板3b之后，進行硅樹脂14填縫。這樣可以進一步提聞防水性。如圖3所示，排水存水彎13及覆蓋它的排水口蓋9由沐浴區(qū)隔板3b隔開，被設置于干燥區(qū)域8側(cè)。這樣，就可以使淋濕區(qū)域地面Ila略為平坦。另外，排水存水彎13及排水口蓋9被配置在干燥區(qū)域8側(cè)且遠離墻壁16a的位置(沐浴區(qū)門側(cè)的位置)。且沐浴區(qū)門2被安裝為朝向便器7側(cè)。通過使用上述結(jié)構(gòu)形成的空間，使用者可以很容易取下排水口蓋9，容易地進行清掃操作。圖4是表示排水口蓋的平面圖。如圖4所示，排水口蓋9的外緣部設有凹形的手柄部10。這樣，使用者能夠容易地將手插入排水口，容易地安裝及取下排水口蓋9。干燥區(qū)域地面Ilb上設置的洗漱化妝臺6，設有腳部15。這樣，在進行清掃等操作時，可以防止因水接觸洗漱化妝臺6的木質(zhì)部等而產(chǎn)生的腐蝕等的問題。當然，洗漱化妝臺6也可以直接設置于干燥區(qū)域地面Ilb上。圖5是表示本實用新型實施方式二的整體式衛(wèi)浴室的平面圖。如圖5所示，排水口被沐浴區(qū)隔板3a隔離，被配置于干燥區(qū)域8側(cè)的位置。通過這樣的結(jié)構(gòu)，也可以獲得與實施方式一相同的效果。圖6是表示從圖3的淋濕區(qū)域地面至排水存水彎的水流的放大圖。如圖6的箭頭所示，使用沐浴裝置4時落到地面Ila的水，基于淋濕區(qū)域地面Ila上設置的傾斜，通過沐浴區(qū)隔板3b下方設置的排水開口 12。隨后，水直接流向干燥區(qū)域8側(cè)設置的排水存水彎13，并通過排水存水彎13向整體式衛(wèi)浴室I外部排水。在實施方式二中也同樣，水通過沐浴區(qū)隔板3a下設置的排水開口 12。隨后，水直接流向干燥區(qū)域8側(cè)設置的排水存水彎13，并通過排水存水彎13向整體式衛(wèi)浴室I外部排水。排水回水彎13設置有毛發(fā)收集器14。毛發(fā)收集器14可以阻止與水共同流入的毛發(fā)等，防止其流出至排水管，從而防止排水管阻塞。毛發(fā)收集器14可以取下，因而在清掃滯留的毛發(fā)等時，可以很容易清理滯貿(mào)的毛發(fā)等。排水口蓋9設置于比干燥區(qū)域地面Ilb略低的面上。另外，排水口蓋9的上面與干燥區(qū)域地面Ilb為略平等的面。這樣，具有排水口蓋9的干燥區(qū)域地面Ilb就可以是讓使用者有穩(wěn)定感及整體感的結(jié)構(gòu)。排水口蓋9的下面的設置高度，被設置在與從淋濕區(qū)域5排出的水流入排水存水彎13的開口高度略相同的位置。這樣就不會給水的排出造成陰礙。圖7是表示實施方式一的淋濕區(qū)域的排水傾斜的排水方向的平面圖。如圖7的箭頭所示，淋濕區(qū)域5的排水傾斜，是設置在從墻壁16c側(cè)面向排水存水彎13的同一面上。另外，在距離排水開口 12約50mm的位置，從墻壁16b側(cè)及沐浴區(qū)門2側(cè)也面向排水開口 12設置了傾斜。即，設置有3個傾斜面。這樣，使用者在使用時，站立的地面為略平坦的面，淋濕區(qū)域地面Ila的水下側(cè)角落部分不會存水。在實施方式二中，也從墻壁16b側(cè)面向排水存水彎13設置了排水傾斜。此外與實施方式一的結(jié)構(gòu)相同在淋濕區(qū)域地面Ila中，在高度為0.5mm左右的微小凸部的上面，設有防滑圖案22。這樣，就可以在使用沐浴裝置4淋濕的狀態(tài)下、或洗浴時浴液等附著在足底的狀態(tài)下，防止使用者滑倒等。圖8是表示沐浴區(qū)門下端部的放大圖。如圖8所示，沐浴區(qū)門2的下端部與干燥區(qū)域Ilb之間，空出有20mm左右的間隙。這樣，就可以防止使用沐浴區(qū)的使用者用于擦腳而放置的布等妨礙沐浴區(qū)門2的開關。在上述結(jié)構(gòu)中，為了防止水從淋濕區(qū)域5流出至干燥區(qū)域8，在出入口開口地面部分，設置有從干燥區(qū)域地面Ilb呈傾斜狀向上方突出的出入口部護堤23。另外，在沐浴區(qū)門2關閉時，安裝在沐浴區(qū)門2的下端的墊片材料24與出入口護堤23抵接。這樣就可以保持較高的阻水性。墊片材料24使用橡膠等柔性材料制作。這樣，墊片材料24可以根據(jù)出入口護堤23的形狀與其緊貼。從而可以提高阻水性，防止墊片材料24妨礙沐浴區(qū)門2的開關。以上對本實用新型的理想實施方式進行了說明，但本實用新型并不限于上述實施方式。只要在不脫離本實用新型主旨的范圍內(nèi)，還可以對結(jié)構(gòu)進行附加、省略、替換等各種變更。本實用新型并不限定于上述的說明，僅限定于權利要求書所申請的范圍。符號說明I整體式衛(wèi)浴室2沐浴區(qū)門3a, 3b沐浴區(qū)隔板4沐浴裝置5淋濕區(qū)域6洗漱化妝臺[0072]7 便器8干燥區(qū)域9排水口蓋10手柄部(凹部)Ila淋濕區(qū)域地面Ilb干燥區(qū)域地面12排水開口13排水存水彎14毛發(fā)收集器15 腳部16a, 16b, 16c, 16d 墻壁17 地面18 頂棚19 門20照明器具21 硅膠22防滑圖案23出入口部護堤24墊片材料。
權利要求1.一種整體式衛(wèi)浴室，其特征在于: 在淋濕區(qū)域低于干燥區(qū)域的地面的整體式衛(wèi)浴室中，所述淋濕區(qū)域的排水口與覆蓋其上部的排水口蓋設置在所述干燥區(qū)域。
2.根據(jù)權利要求1所述的整體式衛(wèi)浴室，其特征在于: 其中，所述排水口及所述排水口蓋被配置于遠離墻面的位置。
3.根據(jù)權利要求1所述的整體式衛(wèi)浴室，其特征在于: 其中，所述排水口蓋與所述干燥區(qū)域的地面處于略平等的面。
4.根據(jù)權利要求2所述的整體式衛(wèi)浴室，其特征在于: 所述排水口蓋與所述干燥區(qū)域的地面處于略平等的面。
5.根據(jù)權利要求1所述的整體式衛(wèi)浴室，其特征在于: 在所述淋濕區(qū)域的地面中，使用者載放足部使用的范圍的地面，呈整面將向排水口方向的排水傾斜面設置為一面。
6.根據(jù)權利要求2所述的整體式衛(wèi)浴室，其特征在于: 在所述淋濕區(qū)域的地面中，使用者載放足部使用的范圍的地面，呈整面將向排水口方向的排水傾斜面設置為一面。
7.根據(jù)權利要求1所述的整體式衛(wèi)浴室，其特征在于: 朝向所述淋濕區(qū)域的出入口開口地面部分，在所述開口面闊方向比所述干燥區(qū)域地面向上方關出。
8.根據(jù)權利要求2所述的整體式衛(wèi)浴室，其特征在于: 朝向所述淋濕區(qū)域的出入口開口地面部分，在所述開口面闊方向比所述干燥區(qū)域地面向上方關出。
9.根據(jù)權利要求3所述的整體式衛(wèi)浴室，其特征在于: 朝向所述淋濕區(qū)域的出入口開口地面部分，在所述開口面闊方向比所述干燥區(qū)域地面向上方關出。
10.根據(jù)權利要求4所述的整體式衛(wèi)浴室，其特征在于: 朝向所述淋濕區(qū)域的出入口開口地面部分，在所述開口面闊方向比所述干燥區(qū)域地面向上方關出。
11.根據(jù)權利要求5所述的整體式衛(wèi)浴室，其特征在于: 朝向所述淋濕區(qū)域的出入口開口地面部分，在所述開口面闊方向比所述干燥區(qū)域地面向上方關出。
12.根據(jù)權利要求6所述的整體式衛(wèi)浴室，其特征在于: 朝向所述淋濕區(qū)域的出入口開口地面部分，在所述開口面闊方向比所述干燥區(qū)域地面向上方關出。
13.根據(jù)權利要求1所述的整體式衛(wèi)浴室，其特征在于: 所述排水口蓋的高度，被限制為與來自所述淋濕區(qū)域的水流入排水口的開口高度略相同的高度。
14.根據(jù)權利要求2所述的整體式衛(wèi)浴室，其特征在于: 所述排水口蓋的高度，被限制為與 來自所述淋濕區(qū)域的水流入排水口的開口高度略相同的高度。
15.根據(jù)權利要求3所述的整體式衛(wèi)浴室，其特征在于: 所述排水口蓋的高度，被限制為與來自所述淋濕區(qū)域的水流入排水口的開口高度略相同的高度。
16.根據(jù)權利要求4所述的整體式衛(wèi)浴室，其特征在于: 所述排水口蓋的高度，被限制為與來自所述淋濕區(qū)域的水流入排水口的開口高度略相同的高度。
17.根據(jù)權利要求1至權利要求16任一項所述的整體式衛(wèi)浴室，其特征在于: 所述淋濕區(qū)域的在所述 整體式衛(wèi)浴室內(nèi)分隔的隔板，由透明的部件構(gòu)成。
專利摘要本實用新型提供一種整體式衛(wèi)浴室，在設置于整體式衛(wèi)浴室的低落的沐浴區(qū)域的地面上，不設置排水口及排水溝，構(gòu)成平坦的地面，并通過將沐浴區(qū)域排水的排水口及排水口蓋設置在干燥區(qū)域側(cè)、且遠離整體式衛(wèi)浴室墻面的位置，從而縮短沐浴區(qū)域地面的排水傾斜的長度，不需要向排水口導水的排水溝，從而提高易清潔性、便利性及美觀性。
文檔編號E03F5/04GK202990458SQ20122033904
公開日2013年6月12日 申請日期2012年7月5日 優(yōu)先權日2012年7月5日
發(fā)明者田宮明, 內(nèi)田貴之, 宇佐美剛 申請人:株式會社好適特