專利名稱：一種清洗太陽能硅片的水池設(shè)計(jì)及使用方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種清洗太陽能硅片的水池設(shè)計(jì)及使用方法。
背景技術(shù)：
目前，在太陽能硅片的清洗過程中，需要采用水池，即在水池中放入硅片，然后通 過設(shè)置在水池側(cè)邊的直水管，將清水噴入水池，并加入清洗液，待水漲到一定程度時(shí)，從水 溢流口流出。這種方法由于清洗液會(huì)殘留在太陽能硅片的表面，在制絨后硅片表面有白斑， 且刷鋁漿后有鼓包現(xiàn)象。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供能有效減少清洗液殘留在太陽能硅片表面的一種清洗太陽 能硅片的水池設(shè)計(jì)及使用方法。本發(fā)明采取的技術(shù)方案是一種清洗太陽能硅片的水池設(shè)計(jì)及使用方法，其特征 在于在水池的某側(cè)邊安裝U型且具有網(wǎng)狀孔的水管，在水池底部安裝帶有若干個(gè)氣孔的通 氣管，且在水管相對(duì)應(yīng)的水池側(cè)面開溢流口，并保持一定的水流量。所述的水流量彡14L/H。采用本發(fā)明方法，由于采用U型且具有網(wǎng)狀孔的水管，提供的加熱水均勻分布，溫 度恒定，可防止清洗液在硅片表面結(jié)晶，同時(shí)，通氣管在水池底部產(chǎn)生浪花，把水池底部的 殘留液帶到水面上，并保持一定的水流量，有利于清洗液快速流出。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合具體的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說明。1、在具有一定容積的水池的某個(gè)側(cè)邊安裝U型且具有網(wǎng)狀孔的水管，使提供的加 熱水均勻分布，溫度恒定。2、在水池底部安裝帶有若干個(gè)氣孔的通氣管用于通氣，在底部造成浪花，將底部 的殘留液帶到水面上，便于水流帶走。3、在U型水管相對(duì)應(yīng)的水池測(cè)面上開若干個(gè)溢流口，減少水流死角，且溢流口的 水流量保證> 14L/H,以便增加池內(nèi)水的更換量，減少殘留液。4、一般每清洗3根晶棒后，將水排放完后重新開始。
權(quán)利要求
一種清洗太陽能硅片的水池設(shè)計(jì)及使用方法，其特征在于在水池的某側(cè)邊安裝U型且具有網(wǎng)狀孔的水管，在水池底部安裝帶有若干個(gè)氣孔的通氣管，且在水管相對(duì)應(yīng)的水池側(cè)面開溢流口，并保持一定的水流量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種清洗太陽能硅片的水池設(shè)計(jì)及使用方法，其特征在于所 述的水流量> 14L/H。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種清洗太陽能硅片的水池設(shè)計(jì)及使用方法，該方法在水池的某側(cè)邊安裝U型且具有網(wǎng)狀孔的水管，在水池底部安裝帶有若干個(gè)氣孔的通氣管，且在水管相對(duì)應(yīng)的水池側(cè)面開溢流口，并保持水流量≥14L/H。采用本發(fā)明方法，由于采用U型且具有網(wǎng)狀孔的水管，提供的加熱水均勻分布，溫度恒定，可防止清洗液在硅片表面結(jié)晶，同時(shí)，通氣管在水池底部產(chǎn)生浪花，把水池底部的殘留液帶到水面上，并保持一定的水流量，有利于清洗液快速流出。
文檔編號(hào)E03B7/04GK101881084SQ201010139900
公開日2010年11月10日 申請(qǐng)日期2010年4月1日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月1日
發(fā)明者周景文, 徐增宏 申請(qǐng)人:浙江硅宏電子科技有限公司