專利名稱：一種新型浴足裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種新型的浴足裝置。
背景技術(shù)：
浴足是一種健康生活方式，浴足同時(shí)進(jìn)行腳底按摩則更能達(dá)到放松的 效果。目前，人們只能走出家門到專業(yè)浴足的地方才能在浴足同時(shí)享受到
腳部按摩。但是這在時(shí)間和開銷上受到限制，而人的腳部有多達(dá)66個(gè)穴位， 經(jīng)常按摩這些穴位能起到強(qiáng)身健體的作用。于是我們需要開發(fā)一種方便的 浴足同時(shí)能讓腳部得到按摩的新型浴足裝置。

實(shí)用新型內(nèi)容
為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型公開了一種新型浴足裝置，包括基座、 座椅，座椅固定在基座頂部，基座下端則設(shè)有一抽拉式結(jié)構(gòu)的平臺(tái)，平臺(tái) 上設(shè)有浴足盆。浴足盆盆底均勻分布有凸點(diǎn)，凸點(diǎn)高不超過15mm，寬不 超過12mm，盆底中部則設(shè)有一凹槽，凹槽底部為光滑平面。
其中，浴足盆具備加熱恒溫功能。浴足盆加熱控制面板設(shè)置于座椅左 側(cè)扶手上，右側(cè)扶手上則設(shè)有一雜物盒。
本實(shí)用新型可以使人們?cè)谠∽愕耐瑫r(shí)，享受腳底按摩，同時(shí)由于在浴稍長(zhǎng)水便冷了。而且 使用完后，可以將浴足盆收進(jìn)去，從而節(jié)約了空間。


圖l為本實(shí)用新型立體圖； 圖2為圖1的AA剖視圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步說明。
參閱圖l、圖2， 一種新型浴足裝置，包括基座l、座椅2，座椅2固 定在基座1頂部，基座1下端則設(shè)有一抽拉式結(jié)構(gòu)的平臺(tái)3，平臺(tái)3上設(shè) 有浴足盆4。浴足盆4盆底均勻分布有凸點(diǎn)8,凸點(diǎn)8高不超過15mm，寬 不超過12mm，盆底中部則設(shè)有一凹槽7，凹槽7底部為光滑平面。
其中，本實(shí)用新型中設(shè)置有加熱恒溫系統(tǒng)，使浴足盆4具備加熱恒溫 功能。浴足盆4加熱恒溫控制面板6設(shè)置于座椅左側(cè)扶手上，右側(cè)扶手上 則設(shè)有一雜物盒5，用于存放如指甲刀、指甲油等小件物品。而在加熱恒 溫系統(tǒng)控制下，浴足盆4中水的溫度為20 6(TC可調(diào)。
使用時(shí)，我們可以通過控制面板6將水溫設(shè)置在一個(gè)合適的溫度，然 后通過盆底的凸點(diǎn)8進(jìn)行腳底按摩。因?yàn)槟_在水里泡久了，也會(huì)讓人感覺 不舒服。那么浴足時(shí)，我們可以只在盆底凹槽7內(nèi)裝水。這樣就可以把腳 底按摩和浴足分開進(jìn)行，浴足一會(huì)后我們可以將腳放在帶凸點(diǎn)8的盆底上 按摩，按摩一會(huì)后我們又可以將腳放在盆底凹槽7內(nèi)繼續(xù)浴足，使用極為方便。當(dāng)然，我們也可以將浴足和按摩同時(shí)進(jìn)行，使浴足盆4內(nèi)水多一些， 讓水漫過帶凸點(diǎn)8的盆底。這樣，我們就可以同時(shí)進(jìn)行浴足和腳底按摩。 另外，本實(shí)用新型帶有排水系統(tǒng)，通過管道連接浴足盆4。使用完后，通 過排水系統(tǒng)將盆中水排出，然后將平臺(tái)3收入基座1內(nèi)，就可以節(jié)約空間。
權(quán)利要求1.一種新型浴足裝置，其特征在于，包括基座、座椅，座椅固定在基座頂部，基座下端則設(shè)有一抽拉式結(jié)構(gòu)的平臺(tái)，平臺(tái)上設(shè)有浴足盆。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述一種新型浴足裝置，其特征在于，浴足盆盆底 均勻分布有凸點(diǎn)，凸點(diǎn)高不超過15mm，寬不超過12mm，盆底中部則設(shè)有 一凹槽。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述一種新型浴足裝置，其特征在于，凹槽底部為 光滑平面。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述一種新型浴足裝置， 其特征在于，浴足盆具備加熱恒溫功能。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述一種新型浴足裝置，其特征在于，座椅左側(cè)扶 手上設(shè)有浴足盆加熱恒溫控制面板，右側(cè)扶手上設(shè)有一雜物盒。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種新型浴足裝置，包括基座、座椅，座椅固定在基座頂部，基座下端則設(shè)有一抽拉式結(jié)構(gòu)的平臺(tái)，平臺(tái)上設(shè)有浴足盆。浴足盆盆底均勻分布有凸點(diǎn)，凸點(diǎn)高不超過15mm，寬不超過12mm，盆底中部則設(shè)有一凹槽，凹槽底部為光滑平面。并在浴足裝置中加入了加熱恒溫系統(tǒng)。因此，本實(shí)用新型可以使人們?cè)谠∽愕耐瑫r(shí)，享受腳底按摩，同時(shí)由于在浴盆上設(shè)置了加熱恒溫裝置，使人們不用擔(dān)心浴足時(shí)間稍長(zhǎng)水便冷了。而且使用完后，可以將浴足盆收進(jìn)去，從而節(jié)約了空間。
文檔編號(hào)A47C7/00GK201370511SQ20092007915
公開日2009年12月30日 申請(qǐng)日期2009年2月20日 優(yōu)先權(quán)日2009年2月20日
發(fā)明者勇 周 申請(qǐng)人:勇 周