硅塊切片的制造方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型提供了一種硅塊切片機(jī)，包括：第一導(dǎo)輪；第二導(dǎo)輪，與第一導(dǎo)輪平行地設(shè)置，第一導(dǎo)輪和第二導(dǎo)輪的外側(cè)纏繞有切割線；第一冷卻機(jī)構(gòu)，具有第一冷卻液噴嘴，第一冷卻液噴嘴的噴液方向指向切割線用于切割待切硅塊的切割位置。本實(shí)用新型提供的硅塊切片機(jī)由于第一冷卻機(jī)構(gòu)的第一冷卻液噴嘴的噴液方向指向切割線用于切割待切硅塊的切割位置，所以能夠?qū)⒗鋮s液直接噴射到待切硅塊的被切割的位置，能夠直接對(duì)硅塊的切割位置進(jìn)行降溫，與現(xiàn)有技術(shù)中將噴嘴朝向切割線噴射而時(shí)間間接降溫的方式相比，能夠更加有效地將切割部分產(chǎn)生的大量熱量帶走，使得切割部位迅速冷卻，保證切割的順利完成。
【專(zhuān)利說(shuō)明】硅塊切片機(jī)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及太陽(yáng)能電池加工設(shè)備領(lǐng)域，特別地，涉及一種硅塊切片機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]在太陽(yáng)能電池組件的加工制作過(guò)程中，有一道作業(yè)流程是切片流程。其主要目的是將硅塊進(jìn)行切片作業(yè)，以便后續(xù)電池工序進(jìn)一步加工。目前切片作業(yè)的主流工藝方法是使用普通鋼線攜帶砂漿進(jìn)行切割作業(yè)。但前沿技術(shù)是使用金剛線進(jìn)行切片作業(yè)。但是，無(wú)論采用何種切割工藝，切割過(guò)程中，硅塊的切割部位會(huì)產(chǎn)生大量的熱量，這就需要冷卻液噴嘴噴灑冷卻液對(duì)切割部位進(jìn)行冷卻。然而，現(xiàn)有砂漿噴嘴是開(kāi)口朝下設(shè)計(jì)的，冷卻液都是直接噴灑到切割線上，再由切割線將切割部位的熱量帶走，這樣的設(shè)計(jì)，在切割線高速切割時(shí)不利于將切割部位的大量熱量帶走。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]本實(shí)用新型目的在于提供一種硅塊切片機(jī)，以解決現(xiàn)有硅塊切片機(jī)對(duì)硅塊的切割部分冷卻效果差的技術(shù)問(wèn)題。
[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供了一種硅塊切片機(jī)，包括:第一導(dǎo)輪；第二導(dǎo)輪，與第一導(dǎo)輪平行地設(shè)置，第一導(dǎo)輪和第二導(dǎo)輪的外側(cè)纏繞有切割線；第一冷卻機(jī)構(gòu)，具有第一冷卻液噴嘴，第一冷卻液噴嘴的噴液方向指向切割線用于切割待切硅塊的切割位置。
[0005]進(jìn)一步地，第一冷卻機(jī)構(gòu)包括:冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體，沿待切硅塊進(jìn)入切割位置的運(yùn)動(dòng)軌跡延伸，第一冷卻液噴嘴設(shè)置在冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體的朝向待切硅塊的一側(cè)的底部。
[0006]進(jìn)一步地，第一冷卻液噴嘴沿冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體的延伸方向貫通地布置在冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體的朝向待切硅塊的一側(cè)的底部。
[0007]進(jìn)一步地，冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體的朝向待切硅塊的側(cè)壁包括由上至下逐漸向外側(cè)傾斜地伸出的第一導(dǎo)流壁和第二導(dǎo)流壁；第一冷卻液噴嘴沿與切割線平行的方向伸出。
[0008]進(jìn)一步地，冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體內(nèi)設(shè)置有與冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體同方向延伸的冷卻液存儲(chǔ)緩沖槽，冷卻液存儲(chǔ)緩沖槽的槽壁與冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體的內(nèi)壁之間形成有用于使冷卻液存儲(chǔ)緩沖槽內(nèi)的冷卻液溢流至第一冷卻液噴嘴的溢流間隙。
[0009]進(jìn)一步地，冷卻液存儲(chǔ)緩沖槽可擺動(dòng)地設(shè)置在冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體內(nèi)。
[0010]進(jìn)一步地，冷卻液存儲(chǔ)緩沖槽為橫截面呈弧形的弧形槽。
[0011]進(jìn)一步地，第一冷卻機(jī)構(gòu)還包括:橫向冷卻液導(dǎo)入管，設(shè)置在冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體的上方并與冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體同向延伸；縱向冷卻液導(dǎo)入管，上端與橫向冷卻液導(dǎo)入管的流出端相連通，下端與冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體相連通。
[0012]進(jìn)一步地，本實(shí)用新型提供的硅塊切片機(jī)，還包括:第二冷卻機(jī)構(gòu)，設(shè)置在第一冷卻機(jī)構(gòu)的遠(yuǎn)離待切硅塊的一側(cè)，第二冷卻機(jī)構(gòu)具有噴流方向垂直于切割線的第二冷卻液噴嘴。
[0013]進(jìn)一步地，第一冷卻機(jī)構(gòu)的數(shù)量為兩個(gè)，兩個(gè)第一冷卻機(jī)構(gòu)沿切割線的延伸方向分別位于待切硅塊的兩側(cè)；第二冷卻機(jī)構(gòu)的數(shù)量為兩個(gè)，兩個(gè)第二冷卻機(jī)構(gòu)分別位于第一導(dǎo)輪和第二導(dǎo)輪的上方。
[0014]本實(shí)用新型具有以下有益效果:
[0015]本實(shí)用新型提供了一種硅塊切片機(jī)，包括:第一導(dǎo)輪；第二導(dǎo)輪，與第一導(dǎo)輪平行地設(shè)置，第一導(dǎo)輪和第二導(dǎo)輪的外側(cè)纏繞有切割線；第一冷卻機(jī)構(gòu)，具有第一冷卻液噴嘴，第一冷卻液噴嘴的噴液方向指向切割線用于切割待切硅塊的切割位置。本實(shí)用新型提供的娃塊切片機(jī)由于第一冷卻機(jī)構(gòu)的第一冷卻液噴嘴的噴液方向指向切割線用于切割待切娃塊的切割位置，所以能夠?qū)⒗鋮s液直接噴射到待切硅塊的被切割的位置，能夠直接對(duì)硅塊的切割位置進(jìn)行降溫，與現(xiàn)有技術(shù)中將噴嘴朝向切割線噴射而時(shí)間間接降溫的方式相比，能夠更加有效地將切割部分產(chǎn)生的大量熱量帶走，使得切割部位迅速冷卻，保證切割的順利完成。
[0016]除了上面所描述的目的、特征和優(yōu)點(diǎn)之外，本實(shí)用新型還有其它的目的、特征和優(yōu)點(diǎn)。下面將參照?qǐng)D，對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0017]構(gòu)成本申請(qǐng)的一部分的附圖用來(lái)提供對(duì)本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解，本實(shí)用新型的示意性實(shí)施例及其說(shuō)明用于解釋本實(shí)用新型，并不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的不當(dāng)限定。在附圖中:
[0018]圖1是本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例的硅塊切片機(jī)的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0019]以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明，但是本實(shí)用新型可以由權(quán)利要求限定和覆蓋的多種不同方式實(shí)施。
[0020]如圖1所示，本實(shí)用新型提供了一種硅塊切片機(jī)，包括:第一導(dǎo)輪10 ;第二導(dǎo)輪20，與第一導(dǎo)輪10平行地設(shè)置，第一導(dǎo)輪10和第二導(dǎo)輪20的外側(cè)纏繞有切割線30 ;第一冷卻機(jī)構(gòu)40，通過(guò)支承機(jī)構(gòu)(圖中未示出)設(shè)置在切割線30的上方，第一冷卻機(jī)構(gòu)40具有第一冷卻液噴嘴41，第一冷卻液噴嘴41的噴液方向指向切割線30用于切割待切硅塊50的切割位置。本實(shí)用新型提供的硅塊切片機(jī)，由于將第一冷卻機(jī)構(gòu)40的第一冷卻液噴嘴41的噴液方向指向切割線30用于切割待切硅塊50的切割位置，能夠?qū)⒗鋮s液直接噴射到待切硅塊的被切割的位置，能夠直接對(duì)硅塊的切割位置進(jìn)行降溫，與現(xiàn)有技術(shù)中將噴嘴朝向切割線噴射而時(shí)間間接降溫的方式相比，能夠更加有效地將切割部分產(chǎn)生的大量熱量帶走，使得切割部位迅速冷卻，保證切割的順利完成。
[0021 ] 第一冷卻機(jī)構(gòu)40包括冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體43，該冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體43用于存儲(chǔ)一定的冷卻液并保證冷卻液能夠勻速地流動(dòng)到第一冷卻液噴嘴41處并最終噴出。冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體43沿待切硅塊50進(jìn)入切割位置的運(yùn)動(dòng)軌跡延伸，第一冷卻液噴嘴41設(shè)置在冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體43的朝向待切硅塊50的一側(cè)的底部。實(shí)際上，待切硅塊50放置在切割線30上的位置是固定的，每次利用搬運(yùn)并固定待切硅塊50的裝置將待切硅塊50移動(dòng)至切割位置，從圖1中看，待切硅塊50進(jìn)入切割位置的運(yùn)動(dòng)軌跡就是待切硅塊50從紙面外向紙面內(nèi)垂直移動(dòng)的運(yùn)動(dòng)軌跡。
[0022]由于待切硅塊50具有一定的長(zhǎng)度，所以為了保證每條切割線與待切硅塊50的切割位置都能夠被較好地降溫，第一冷卻液噴嘴41實(shí)際上為一個(gè)沿冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體43的延伸方向貫穿布置的呈狹長(zhǎng)狀的噴嘴，使得待切硅塊50的所有被切割的部位都能夠被冷卻，保證每個(gè)切割位置都能夠被降溫。
[0023]冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體43的朝向待切硅塊50的側(cè)壁包括由上至下逐漸向外側(cè)傾斜的第一導(dǎo)流壁43a和第二導(dǎo)流壁43c，第二導(dǎo)流壁43c的斜率大于第一導(dǎo)流壁43a的斜率；冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體43的底壁朝向待切硅塊50延伸形成噴嘴底壁41a，噴嘴底壁41a上方設(shè)置有由第二導(dǎo)流壁43c的下端沿與噴嘴下壁41a平行伸出的噴嘴上壁41c。第一導(dǎo)流壁43a和第二導(dǎo)流壁43c呈逐漸向外傾斜地設(shè)置，能對(duì)流入到第一冷卻液噴嘴41的冷卻起到一定的導(dǎo)流和限流的作用，使第一冷卻液噴嘴41的入口出形成類(lèi)似喇叭狀的結(jié)構(gòu)，使冷卻液逐漸匯集到噴嘴出，起到限流的作用。
[0024]為了起到緩沖的作用，冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體43內(nèi)設(shè)置有與冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體43同方向延伸的冷卻液存儲(chǔ)緩沖槽45，冷卻液存儲(chǔ)緩沖槽45的槽壁與冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體43的內(nèi)壁之間形成有用于保證冷卻液存儲(chǔ)緩沖槽45內(nèi)的冷卻液溢流至第一冷卻液噴嘴41的溢流間隙。冷卻液首先進(jìn)入到冷卻液存儲(chǔ)緩沖槽45內(nèi)，當(dāng)冷卻液積累到一定量之后，就會(huì)從冷卻液存儲(chǔ)緩沖槽45中溢出，以保證流入到各個(gè)第一冷卻液噴嘴41的冷卻液的流速和流量均勻。實(shí)際上，在正式切割之前，冷卻液存儲(chǔ)緩沖槽45內(nèi)的冷卻液必須滿足一定的流量，才能夠切割，否則機(jī)床會(huì)報(bào)警，不能實(shí)施切割作業(yè)。
[0025]為了冷卻液存儲(chǔ)緩沖槽45可擺動(dòng)地設(shè)置在冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體43內(nèi)。以保證冷卻液的量不是很多時(shí)仍然能夠從冷卻液存儲(chǔ)緩沖槽45內(nèi)流出。
[0026]為了實(shí)現(xiàn)擺動(dòng)，冷卻液存儲(chǔ)緩沖槽45為橫截面呈弧形的弧形槽。
[0027]為了實(shí)現(xiàn)冷卻液的進(jìn)入，第一冷卻機(jī)構(gòu)40還包括橫向冷卻液導(dǎo)入管47和縱向冷卻液導(dǎo)入管49，橫向冷卻液導(dǎo)入管47設(shè)置在冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體43的上方并與冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體43同向延伸；縱向冷卻液導(dǎo)入管49的上端與橫向冷卻液導(dǎo)入管47的流出端相連通，縱向冷卻液導(dǎo)入管49的下端與冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體43相連通。
[0028]另外，為了進(jìn)一步地提高硅塊切片機(jī)的冷卻效果，本實(shí)用新型提供的硅塊切片機(jī)還包括第二冷卻機(jī)構(gòu)60，第二冷卻機(jī)構(gòu)60設(shè)置在切割線30的上方并位于第一冷卻機(jī)構(gòu)40的遠(yuǎn)離待切硅塊50的一側(cè)，第二冷卻機(jī)構(gòu)60具有噴流方向垂直于切割線30的第二冷卻液噴嘴61。第二冷卻機(jī)構(gòu)60的第二冷卻液噴嘴61將冷卻液直接噴射在切割線30上，能夠?qū)α鹘?jīng)該冷卻液噴嘴的切割線進(jìn)行冷卻，與第一冷卻機(jī)構(gòu)40相互配合對(duì)切割線即待切硅塊50的切割位置進(jìn)行冷卻降溫，提高冷卻效率。
[0029]由于待切硅塊50的兩側(cè)會(huì)與切割線接觸，所以，第一冷卻機(jī)構(gòu)40的數(shù)量為兩個(gè)，兩個(gè)第一冷卻機(jī)構(gòu)40沿切割線30延伸的方向分別位于待切娃塊50的兩側(cè)；相應(yīng)地，第二冷卻機(jī)構(gòu)60的數(shù)量也為兩個(gè)，兩個(gè)第二冷卻機(jī)構(gòu)60分別位于第一導(dǎo)輪10和第二導(dǎo)輪20的上方。圖1中的箭頭表示出了第一冷卻機(jī)構(gòu)40的第一冷卻液噴嘴41和第二冷卻機(jī)構(gòu)60的第二冷卻液噴嘴61的冷卻液噴射方向。
[0030]以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本實(shí)用新型，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，本實(shí)用新型可以有各種更改和變化。凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種硅塊切片機(jī)，其特征在于，包括: 第一導(dǎo)輪(10)； 第二導(dǎo)輪(20)，與所述第一導(dǎo)輪(10)平行地設(shè)置，所述第一導(dǎo)輪(10)和所述第二導(dǎo)輪(20)的外側(cè)纏繞有切割線(30)； 第一冷卻機(jī)構(gòu)(40 )，具有第一冷卻液噴嘴(41)，所述第一冷卻液噴嘴(41)的噴液方向指向所述切割線(30)用于切割待切硅塊(50)的切割位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅塊切片機(jī)，其特征在于，所述第一冷卻機(jī)構(gòu)(40)包括: 冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體(43)，沿所述待切硅塊(50)進(jìn)入所述切割位置的運(yùn)動(dòng)軌跡延伸，所述第一冷卻液噴嘴(41)設(shè)置在所述冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體(43)的朝向所述待切硅塊(50)的一側(cè)的底部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硅塊切片機(jī)，其特征在于， 所述第一冷卻液噴嘴(41)沿所述冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體(43)的延伸方向貫通地布置在所述冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體(43)的朝向所述待切硅塊(50)的一側(cè)的底部。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硅塊切片機(jī)，其特征在于， 所述冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體(43)的朝向所述待切硅塊(50)的側(cè)壁包括由上至下逐漸向外側(cè)傾斜地伸出的第一導(dǎo)流壁(43a)和第二導(dǎo)流壁(43c)； 所述第一冷卻液噴嘴(41)沿與所述切割線(30)平行的方向伸出。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硅塊切片機(jī)，其特征在于， 所述冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體(43)內(nèi)設(shè)置有與所述冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體(43)同方向延伸的冷卻液存儲(chǔ)緩沖槽(45)，所述冷卻液存儲(chǔ)緩沖槽(45)的槽壁與所述冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體(43)的內(nèi)壁之間形成有用于使所述冷卻液存儲(chǔ)緩沖槽(45)內(nèi)的冷卻液溢流至所述第一冷卻液噴嘴(41)的溢流間隙。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的硅塊切片機(jī)，其特征在于， 所述冷卻液存儲(chǔ)緩沖槽(45)可擺動(dòng)地設(shè)置在所述冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體(43)內(nèi)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的硅塊切片機(jī)，其特征在于， 所述冷卻液存儲(chǔ)緩沖槽(45)為橫截面呈弧形的弧形槽。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硅塊切片機(jī)，其特征在于，所述第一冷卻機(jī)構(gòu)(40)還包括: 橫向冷卻液導(dǎo)入管(47)，設(shè)置在所述冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體(43)的上方并與所述冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體(43)同向延伸； 縱向冷卻液導(dǎo)入管(49)，上端與所述橫向冷卻液導(dǎo)入管(47)的流出端相連通，下端與所述冷卻液存儲(chǔ)緩沖腔體(43)相連通。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的硅塊切片機(jī)，其特征在于，還包括: 第二冷卻機(jī)構(gòu)(60)，設(shè)置在所述第一冷卻機(jī)構(gòu)(40)的遠(yuǎn)離所述待切硅塊(50)的一側(cè)，所述第二冷卻機(jī)構(gòu)(60)具有噴流方向垂直于所述切割線(30)的第二冷卻液噴嘴(61)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的硅塊切片機(jī)，其特征在于， 所述第一冷卻機(jī)構(gòu)(40)的數(shù)量為兩個(gè)，兩個(gè)所述第一冷卻機(jī)構(gòu)(40)沿所述切割線(30)的延伸方向分別位于所述待切娃塊(50)的兩側(cè)； 所述第二冷卻機(jī)構(gòu)(60)的數(shù)量為兩個(gè)，兩個(gè)所述第二冷卻機(jī)構(gòu)(60)分別位于所述第一導(dǎo)輪(10)和所述第二導(dǎo)輪(20)的上方。
【文檔編號(hào)】B28D5/04GK203527673SQ201320725613
【公開(kāi)日】2014年4月9日 申請(qǐng)日期:2013年11月15日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月15日
【發(fā)明者】劉建茂, 尹青松, 魯曉輝, 郭博濤 申請(qǐng)人:英利能源（中國(guó)）有限公司