專利名稱：玻璃磁控多弧離子鍍膜機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及玻璃加工技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及到玻璃鍍膜機(jī)。
背景技術(shù)：
玻璃鍍膜是在玻璃的表面鍍上ー層或多層金屬、合金或金屬化合物薄膜，改變玻璃的光學(xué)性能，以滿足某種特定要求的生產(chǎn)エ藝。磁控濺射鍍膜是在真空室中，利用荷能粒子轟擊靶材表面，使其原子獲得足夠的能量而濺出進(jìn)入氣相，然后在エ件表面沉積成膜。多弧離子鍍膜是把陰極靶作為蒸發(fā)源，通過靶與陽極之間的弧光放電，使靶材蒸發(fā)，從而在空間中形成等離子體，對エ件進(jìn)行沉積成膜。目前，傳統(tǒng)的玻璃離子鍍膜機(jī)無論是筒體式或臥式，都只是單腔室，毎次鍍膜完畢，都要對鍍膜室進(jìn)行抽真空處理，生產(chǎn)效率低。而且鍍膜室內(nèi)大都是設(shè)置ー種鍍膜源，鍍膜的選材比較單一，難以適應(yīng)多層復(fù)合鍍膜玻璃的エ藝要求。

實用新型內(nèi)容本實用新型要解決的技術(shù)問題是提供ー種生產(chǎn)效率高，可復(fù)合多層鍍膜的玻璃鍍膜機(jī)。本實用新型所要解決的技術(shù)問題是通過以下的技術(shù)方案來實現(xiàn)ー種玻璃磁控多弧離子鍍膜機(jī)，包括真空鍍膜室，其特征在干所述真空鍍膜室的前后兩端分別連接有真空入料加熱室以及真空出料室，所述真空入料加熱室和真空出料室分別通過真空鎖與真空鍍膜室連通和隔離，所述真空鍍膜室、真空入料加熱室以及真空出料室的室腔內(nèi)底部均設(shè)有傳動機(jī)構(gòu)，其中所述真空鍍膜室的傳動機(jī)構(gòu)設(shè)成往復(fù)傳動，所述真空鍍膜室的室腔內(nèi)頂部設(shè)有若干電弧蒸發(fā)離化源和若干磁控濺射源。采用本實用新型所帯來的有益效果由于本實用新型在真空鍍膜室的前后兩端設(shè)有分別設(shè)有真空入料加熱室以及真空出料室，通過真空入料加熱室和真空出料室完成玻璃入料和出料的真空過渡。真空鍍膜室完成一次抽真空后，就可以連續(xù)地分批對玻璃進(jìn)行鍍膜處理，在真空鍍膜室進(jìn)行鍍膜的過程中，可同時對真空入料加熱室和真空出料室在入料后和出料后進(jìn)行抽真空處理，實現(xiàn)玻璃鍍膜的連續(xù)作業(yè)，提高效率，適合大批量鍍膜玻璃的生產(chǎn)。并且真空鍍膜室同時設(shè)有電弧蒸發(fā)離化源和磁控濺射源，可同時對玻璃進(jìn)行多層鍍膜的復(fù)合，以適應(yīng)不同鍍膜玻璃的エ藝要求。

圖I為本實用新型玻璃磁控多弧離子鍍膜機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
如圖I所示，ー種玻璃磁控多弧離子鍍膜機(jī)，包括真空鍍膜室I，所述真空鍍膜室I的前后兩端分別連接有真空入料加熱室2以及真空出料室3，所述真空入料加熱室2和真空出料室3分別通過真空鎖4、5與真空鍍膜室I連通和隔離，所述真空鍍膜室I、真空入料加熱室2以及真空出料室3的室腔內(nèi)底部均設(shè)有傳動機(jī)構(gòu)6，其中所述真空鍍膜室I的傳動機(jī)構(gòu)6設(shè)成往復(fù)傳動，所述真空鍍膜室I的室腔內(nèi)頂部設(shè)有若干電弧蒸發(fā)離化源7和若干磁控濺射源8。工作流程首先將要鍍膜的玻璃放入到專用耐高溫傳送托盤9，由傳送機(jī)構(gòu)6把托盤9送入到真空入料加熱室2中，對玻璃進(jìn)行加熱保溫，然后打開真空鎖4，把裝有玻璃的托盤9傳送到真空鍍膜室I中，在關(guān)閉真空鎖4。利用真空鍍膜室I的傳送機(jī)構(gòu)6的往程和返程先后進(jìn)行磁控濺射鍍膜和多弧離子鍍膜，每種鍍膜的時間和次數(shù)按エ藝要求設(shè)定。完成鍍膜后，打開真空鎖5，把裝有玻璃的托盤8傳送到真空出料室3，然后關(guān)閉真空鎖5，卸下已鍍膜玻璃。真空鍍膜室I在完成一次抽真空后，就可以連續(xù)進(jìn)行鍍膜作業(yè)，在工作過程中，只 需對真空入料加熱室2和真空出料室3在入料后和出料后進(jìn)行抽真空處理，可實現(xiàn)玻璃鍍膜的連續(xù)作業(yè)。
權(quán)利要求1.ー種玻璃磁控多弧離子鍍膜機(jī)，包括真空鍍膜室，其特征在于所述真空鍍膜室的前后兩端分別連接有真空入料加熱室以及真空出料室，所述真空入料加熱室和真空出料室分別通過真空鎖與真空鍍膜室連通和隔離，所述真空鍍膜室、真空入料加熱室以及真空出料室的室腔內(nèi)底部均設(shè)有傳動機(jī)構(gòu)，其中所述真空鍍膜室的傳動機(jī)構(gòu)設(shè)成往復(fù)傳動，所述真空鍍膜室的室腔內(nèi)頂部設(shè)有若干電弧蒸發(fā)離化源和若干磁控濺射源。
專利摘要本實用新型公開一種玻璃磁控多弧離子鍍膜機(jī)，真空鍍膜室的前后兩端分別連接有真空入料加熱室以及真空出料室，入料加熱室和出料室分別通過真空鎖與鍍膜室連通和隔離，鍍膜室、入料加熱室以及出料室的室腔內(nèi)底部均設(shè)有傳動機(jī)構(gòu)，其中鍍膜室的傳動機(jī)構(gòu)設(shè)成往復(fù)傳動，鍍膜室的室腔內(nèi)頂部設(shè)有若干電弧蒸發(fā)離化源和若干磁控濺射源。本實用新型通過入料加熱室和出料室完成玻璃入料和出料的真空過渡。鍍膜室完成一次抽真空后，就可以連續(xù)地分批對玻璃進(jìn)行鍍膜處理，實現(xiàn)玻璃鍍膜的連續(xù)作業(yè)。并且鍍膜室同時設(shè)有電弧蒸發(fā)離化源和磁控濺射源，可同時對玻璃進(jìn)行多層鍍膜的復(fù)合，以適應(yīng)不同鍍膜玻璃的工藝要求。
文檔編號C03C17/00GK202482421SQ201220044869
公開日2012年10月10日 申請日期2012年2月11日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月11日
發(fā)明者伍振良 申請人:伍振良