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低輻射隔熱玻璃的制作方法

文檔序號(hào):1872840閱讀:277來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:低輻射隔熱玻璃的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種低輻射隔熱玻璃,尤其涉及一種由浮法玻璃在線加工形成的低輻射隔熱玻璃。
背景技術(shù)
隨著社會(huì)的發(fā)展和進(jìn)步,玻璃在寫字樓、商場(chǎng)等現(xiàn)代建筑中的應(yīng)用已經(jīng)越來(lái)越普及。在滿足基本使用要求的前提下,為適應(yīng)節(jié)能環(huán)保的可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略,一般又要求玻璃具有隔熱功能。目前較為常用的方法是采用雙層玻璃的方式來(lái)降低玻璃的熱傳導(dǎo),但是這種方式并不能有效地解決玻璃透光所產(chǎn)生的問(wèn)題,如在夏季,紅外線可透過(guò)玻璃照射進(jìn)室內(nèi),帶來(lái)大量的熱量而降低室內(nèi)制冷設(shè)備,如空調(diào)的制冷效果,由此,將大幅增加制冷設(shè)備的能耗。
實(shí)用新型內(nèi)容有鑒于此,提供一種低輻射隔熱玻璃,以解決現(xiàn)有技術(shù)中透光性不良以及隔熱性不足等問(wèn)題。一種低輻射隔熱玻璃,其包括浮法玻璃,所述浮法玻璃具有一用于與空氣接觸的空氣面,所述浮法玻璃的空氣面上具有一層防擴(kuò)散膜以及疊置于所述防擴(kuò)散膜上的低輻射膜。優(yōu)選地,所述防擴(kuò)散膜為納米氧化硅膜層或納米氧化鈦摻雜于氧化硅中的二氧化
鈦-二氧化硅膜層。優(yōu)選地,所述防擴(kuò)散膜的厚度為8(Γ200納米。更優(yōu)選地,所述防擴(kuò)散膜為納米氧化硅,其厚度為80納米。優(yōu)選地,所述低輻射膜為摻氟于氧化錫中的FTO膜層或摻銻于氧化錫中的ATO膜層。優(yōu)選地,所述低輻射膜的厚度為10(Γ180納米。更優(yōu)選地,所述低輻射層為ATO膜層,其厚度為150納米。進(jìn)一步地,所述防擴(kuò)散膜為用于降低反射,由相間的高折射率和低折射率組成的膜層。相較于現(xiàn)有技術(shù),該低輻射隔熱玻璃在浮法玻璃的空氣面上先后形成防擴(kuò)散膜和低輻射膜,利用其中的防擴(kuò)散膜可以減少可見(jiàn)光的反射,有效地提升整體的光透過(guò)率,獲得較好的采光效果;同時(shí)利用其中的低輻射膜可以有效地反射近紅外線,起到隔熱節(jié)能的效果,在保證采光的前提下盡可能的隔斷不需要的紅外線。所述低輻射隔熱玻璃可廣泛應(yīng)用于建筑門窗和幕墻上。

圖I為本實(shí)用新型一實(shí)施方式提供的低輻射隔熱玻璃的示意圖。
具體實(shí)施方式
以下基于附圖對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施例進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解,此處所描述的具體實(shí)施例僅僅作為實(shí)例,并不用于限定本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。請(qǐng)參閱圖1,本實(shí)用新型一實(shí)施方式提供一種低輻射隔熱玻璃10,其由浮法玻璃11在線加工形成,所述低輻射隔熱玻璃10包括浮法玻璃11、防擴(kuò)散膜13和低輻射膜15。所述低輻射膜15疊置于所述防擴(kuò)散膜13上。所述浮法玻璃11為所述低輻射隔熱玻璃10的基體,例如,以普通鈉鈣硅系統(tǒng)玻璃作為玻璃本體層。所述浮法玻璃11具有一個(gè)空氣面111。所述防擴(kuò)散層13和所述低輻射膜15依次形成于所述浮法玻璃11的空氣面111上。所述防擴(kuò)散膜13和所述低輻射膜15在浮法玻璃生產(chǎn)線的退火窯內(nèi)采用具有供液系統(tǒng) 和噴槍的噴涂設(shè)備先后鍍制于所述浮法玻璃11的空氣面111上。所述防擴(kuò)散膜13由相間 的高折射率和低折射率組成的膜層,具有減反射效果,用于減少可見(jiàn)光的反射。具體地,高折射率膜為折射率在2. 2 2. 4范圍內(nèi)的氧化物膜,例如折射率約為2. 30的TiO2膜;低折射率膜為折射率在I. 40 I. 55范圍內(nèi)的氧化物膜,例如折射率約為I. 46的SiO2膜。所述低輻射膜15可反射近紅外線,用于減少紅外線的透過(guò)率。優(yōu)選地,所述防擴(kuò)散膜13為納米氧化硅或納米氧化鈦摻雜于氧化硅中的二氧化鈦-二氧化硅膜層,用于降低輻射,其厚度為8(T200nm。更優(yōu)選地,所述低輻射膜15為摻氟或摻銻的氧化錫膜層,即為FTO膜層或ATO膜層,其厚度為10(Tl80nm。鍍制所述防擴(kuò)散膜13和所述低輻射膜15時(shí),形成所述防擴(kuò)散膜13的噴涂液含有質(zhì)量百分比為O. 5^3. 0%的納米氧化硅的醇溶液;形成所述低輻射膜15的噴涂液含有質(zhì)量百分比為O. 5^2. 5%的摻氟或摻銻的氧化錫的醇溶液。浮法玻璃生產(chǎn)線的退火窯內(nèi)溫度為580°C 650°C,噴槍距離玻璃表面為300mm,噴霧角度75°,噴涂設(shè)備的兩只噴槍分別以
1.5m/s的速度在玻璃板寬方向上往返運(yùn)動(dòng),噴幅疊加為25%。優(yōu)選地,所述醇溶液為乙醇、異丙醇、正丙醇、乙二醇和丙三醇中的一種或多種。本實(shí)施例中,形成所述防擴(kuò)散膜13 (即減反射膜層)的噴涂液采用質(zhì)量百分含量為I. 5%的納米氧化硅的乙醇溶液,形成所述低輻射膜15的噴涂液采用質(zhì)量百分含量為
2.5%的摻銻的二氧化錫醇溶液,固化時(shí)間25min。具體地,所述防擴(kuò)散膜13為納米氧化硅,其厚度為80nm,所述低輻射層15為摻銻氧化錫膜層,其厚度為150nm。所述低輻射隔熱玻璃10在浮法玻璃11的空氣面111上在線先后形成防擴(kuò)散膜13和低輻射膜15,利用其中的防擴(kuò)散膜13可以減少可見(jiàn)光的反射,有效地提升整體的光透過(guò)率,獲得較好的采光效果;同時(shí)利用其中的低輻射膜15可以有效地反射近紅外線,起到隔熱節(jié)能的效果,在保證采光的前提下盡可能的隔斷不需要的紅外線。具體地,所述低輻射隔熱玻璃10的面電阻可以達(dá)到10. O 19. O歐姆,光透過(guò)率達(dá)到65 75%,輻射率可以達(dá)到O. 13 O. 25,反射近紅外的熱量,具有較好的隔熱效果,在建筑領(lǐng)域具有廣泛的用途。需要說(shuō)明的是,本實(shí)用新型并不局限于上述實(shí)施方式,根據(jù)本實(shí)用新型的創(chuàng)造精神,本領(lǐng)域技術(shù)人員還可以做出其他變化,這些依據(jù)本實(shí)用新型的創(chuàng)造精神所做的變化,都應(yīng)包含在本實(shí)用新型所要求保護(hù)的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種低輻射隔熱玻璃,其包括浮法玻璃,其特征在于,所述浮法玻璃具有一用于與空氣接觸的空氣面,所述浮法玻璃的空氣面上具有一層防擴(kuò)散膜以及疊置于所述防擴(kuò)散膜上的低輻射膜。
2.如權(quán)利要求I所述的低輻射隔熱玻璃,其特征在于,所述防擴(kuò)散膜為納米氧化硅膜層或納米氧化鈦摻雜于氧化硅中的二氧化鈦-二氧化硅膜層。
3.如權(quán)利要求I所述的低輻射隔熱玻璃,其特征在于,所述防擴(kuò)散膜的厚度為8(Γ200納米。
4.如權(quán)利要求I所述的低輻射隔熱玻璃,其特征在于,所述防擴(kuò)散膜為納米氧化硅,其厚度為80納米。
5.如權(quán)利要求I所述的低輻射隔熱玻璃,其特征在于,所述低輻射膜為摻氟于氧化錫中的FTO膜層或摻銻于氧化錫中的ATO膜層。
6.如權(quán)利要求I所述的低輻射隔熱玻璃,其特征在于,所述低輻射膜的厚度為10(Γ180納米。
7.如權(quán)利要求I所述的低輻射隔熱玻璃,其特征在于,所述低輻射層為ATO膜層,其厚度為150納米。
8.如權(quán)利要求I所述的低輻射隔熱玻璃,其特征在于,所述防擴(kuò)散膜為用于降低反射,由相間的高折射率和低折射率組成的膜層。
專利摘要本實(shí)用新型提出一種低輻射隔熱玻璃,其包括浮法玻璃,所述浮法玻璃具有一用于與空氣接觸的空氣面,所述浮法玻璃的空氣面上具有一層防擴(kuò)散膜以及疊置于所述防擴(kuò)散膜上的低輻射膜。所述低輻射隔熱玻璃利用其中的防擴(kuò)散膜可以降低可見(jiàn)光的反射,有效地提升整體的光透過(guò)率,獲得較好的采光效果;同時(shí)利用其中的低輻射膜可以有效地反射近紅外線,起到隔熱節(jié)能的效果,在保證采光的前提下盡可能的隔斷不需要的紅外線。
文檔編號(hào)C03C17/34GK202643562SQ20112052168
公開日2013年1月2日 申請(qǐng)日期2011年12月13日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月13日
發(fā)明者董清世, 辛崇飛 申請(qǐng)人:信義超薄玻璃(東莞)有限公司
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