專利名稱：一種供料道的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及日用玻璃行業(yè)能耗管理領(lǐng)域，特別涉及一種供料道。
背景技術(shù)：
在日用玻璃行業(yè)能耗管理領(lǐng)域，工作池、供料道料液的下中層溫度遠(yuǎn)高于成型溫度，且料液溫度經(jīng)歷先降溫后升溫，加上大量吹風(fēng)強(qiáng)制冷卻，導(dǎo)致料液溫度不均勻，影響產(chǎn)品質(zhì)量，增加成型難度?，F(xiàn)有技術(shù)常常采用在供料道底部設(shè)有冷卻孔洞，以獲得散熱效果， 減少能源消耗。但是孔洞式供料道散熱面積小，不能滿足生產(chǎn)的需要，而且供料道統(tǒng)一散熱管理，不能根據(jù)供料道各區(qū)的溫度需要進(jìn)行調(diào)節(jié)。另外，供料道頂部常常需要保溫處理，以減少燃?xì)鈸p耗，但現(xiàn)有技術(shù)方案不能滿足此需求。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型實(shí)施例所要解決的技術(shù)問題在于，提供一種供料道，所述供料道散熱快，可實(shí)現(xiàn)各區(qū)溫度的獨(dú)立控制，有效減少供料道能源消耗，有利于成型料溫的均勻，提高
廣品質(zhì)量。為達(dá)到上述技術(shù)效果，本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種供料道，所述供料道底部設(shè)有冷卻孔洞和冷卻槽，所述冷卻槽設(shè)有區(qū)間隔離磚。優(yōu)選地，所述冷卻槽寬為200180mm，所述區(qū)間隔離磚寬為10(Tl50mm。優(yōu)選地，所述冷卻槽設(shè)在供料道底部中線鐵槽至料道槽磚上。優(yōu)選地，所述供料道還包括在料道頂部設(shè)有的復(fù)合硅層。實(shí)施本實(shí)用新型具有如下有益效果本實(shí)用新型供料道散熱快、效果好，有效減少供料道能源消耗，有利于成型料溫的均勻，提高產(chǎn)品質(zhì)量。所述供料道設(shè)有冷卻槽，散熱面積比孔洞式增加20倍左右，散熱速度快、效果好， 有效對(duì)料道底層料溫進(jìn)行控制，從而適當(dāng)減少工作池吹風(fēng)冷卻，充分利用工作池溫度效應(yīng)， 達(dá)到減少料道燃燒加熱的效果。冷卻槽設(shè)有區(qū)間隔離磚，各區(qū)利用冷卻風(fēng)分別冷卻，實(shí)現(xiàn)料道各區(qū)溫度的獨(dú)立調(diào)節(jié)，以適應(yīng)料道不同區(qū)域的不同溫度要求。所述供料道還包括在料道易冷卻的頂部設(shè)有的復(fù)合硅層，滿足供料道頂部所需的保溫處理，減少熱能散發(fā)、減少燃?xì)鈸p耗。因此，此供料道較好地針對(duì)高出料量的情況下的溫度分布情況，即供料道的中間和底部料液相對(duì)料道兩側(cè)的料液流速快、溫度高的溫度分布情況，利用冷卻槽有效散熱和區(qū)間隔離磚分區(qū)調(diào)控溫度等措施解決了料道溫度不均勻、成型難等問題，提高了產(chǎn)品質(zhì)量，減少產(chǎn)品偏底、玻璃分布不均、抗沖擊差、不耐內(nèi)壓等缺陷。

圖1為本實(shí)用新型一種供料道的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實(shí)用新型一種供料道的截面示意圖。CN 202246382 U說明書2/2 頁
具體實(shí)施方式
為使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步地詳細(xì)描述。結(jié)合圖1和圖2，本實(shí)用新型提供了一種供料道，所述供料道底部設(shè)有冷卻孔洞1 和冷卻槽2，所述冷卻槽2設(shè)有區(qū)間隔離磚3。冷卻槽2散熱面積比孔洞式增加20倍左右，散熱速度快、效果好，有效對(duì)料道底層料溫進(jìn)行控制，從而適當(dāng)減少工作池吹風(fēng)冷卻，充分利用工作池溫度效應(yīng)，達(dá)到減少料道燃燒加熱的效果。冷卻槽2設(shè)有區(qū)間隔離磚3，各區(qū)利用冷卻風(fēng)分別冷卻，實(shí)現(xiàn)料道各區(qū)溫度的獨(dú)立調(diào)節(jié)，以適應(yīng)料道不同區(qū)域的不同溫度要求。所述冷卻槽2寬為200180mm，所述區(qū)間隔離磚3寬為10(Tl50mm。優(yōu)選地，所述冷卻槽2寬為22(T260mm，所述區(qū)間隔離磚3寬為ll(Tl30mm。進(jìn)一步優(yōu)選地，所述冷卻槽2寬為MOmm，所述區(qū)間隔離磚3寬為120mm。所述冷卻槽2設(shè)在供料道底部中線鐵槽至料道槽磚上。所述供料道還包括在料道頂部設(shè)有的復(fù)合硅層4。復(fù)合硅層4滿足供料道頂部所需的保溫處理，減少熱能散發(fā)、減少燃?xì)鈸p耗。本實(shí)用新型供料道較好地針對(duì)供料道高出料量的情況下的溫度分布情況，即供料道的中間和底部料液相對(duì)料道兩側(cè)的料液流速快、溫度高的溫度分布情況，利用冷卻槽有效散熱和區(qū)間隔離磚分區(qū)調(diào)控溫度等措施解決了料道溫度不均勻、成型難等問題，提高了產(chǎn)品質(zhì)量，減少產(chǎn)品偏底、玻璃分布不均、抗沖擊差、不耐內(nèi)壓等缺陷。以上所揭露的僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例而已，當(dāng)然不能以此來限定本實(shí)用新型之權(quán)利范圍，因此依本實(shí)用新型申請(qǐng)專利范圍所作的等同變化，仍屬本實(shí)用新型所涵蓋的范圍。
權(quán)利要求1.一種供料道，其特征在于，所述供料道底部設(shè)有冷卻孔洞和冷卻槽，所述冷卻槽設(shè)有區(qū)間隔離磚。
2.如權(quán)利要求1所述的供料道，其特征在于，所述冷卻槽寬為200180mm，所述區(qū)間隔離磚寬為10(Tl50mm。
3.如權(quán)利要求2所述的供料道，其特征在于，所述冷卻槽設(shè)在供料道底部中線鐵槽至料道槽磚上。
4.如權(quán)利要求3所述的供料道，其特征在于，所述供料道還包括在料道頂部設(shè)有的復(fù)合硅層。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種供料道，所述供料道底部設(shè)有冷卻孔洞和冷卻槽，所述冷卻槽設(shè)有區(qū)間隔離磚。采用本實(shí)用新型，所述供料道散熱快，可實(shí)現(xiàn)各區(qū)溫度的獨(dú)立控制，有效減少供料道能源消耗，有利于成型料溫的均勻，提高產(chǎn)品質(zhì)量。
文檔編號(hào)C03B7/02GK202246382SQ201120374138
公開日2012年5月30日 申請(qǐng)日期2011年9月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月29日
發(fā)明者李智校 申請(qǐng)人:佛山華興玻璃有限公司