專利名稱：新型采光瓦制備裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種機(jī)械設(shè)備，尤其涉及一種新型采光瓦制備裝置。
背景技術(shù)：
在采光瓦的制備領(lǐng)域，現(xiàn)有的制備設(shè)備一般結(jié)構(gòu)包括機(jī)床、進(jìn)料控制裝置、上薄 膜、下薄膜和與上薄膜、下薄膜分別對(duì)應(yīng)的上導(dǎo)輪和下導(dǎo)輪，使用時(shí)， 一般是，在下薄膜起始 端加入液態(tài)的化學(xué)配料，根據(jù)需要制備的采光瓦的質(zhì)量要求，采用進(jìn)料控制裝置控制化學(xué) 配料的量，經(jīng)進(jìn)料控制裝置輸出的化學(xué)原料，在機(jī)床的傳送作用下，進(jìn)入下一個(gè)環(huán)節(jié)，即與 玻纖進(jìn)行混合反應(yīng)5-15分鐘，然后經(jīng)過(guò)上導(dǎo)輪和下導(dǎo)輪的壓制，以控制需要的采光瓦的厚 薄，同時(shí)上薄膜壓制于加工瓦的上表面，經(jīng)過(guò)壓制的半成品進(jìn)入下一個(gè)環(huán)節(jié)，由于采光瓦一 般需要固定的寬度，但是，經(jīng)過(guò)上導(dǎo)輪和下導(dǎo)輪壓制后的半成品常常寬于需要的寬度，需要 再次切割才能形成成品。這樣，一方面工序更多，生產(chǎn)效率低，另一方面，由于化學(xué)原料與玻 纖的組合物在15分鐘左右即冷卻成型，不能再次利用，即切割下來(lái)的廢料不能再次使用， 浪費(fèi)了材料，使生產(chǎn)成本增大，同時(shí)化學(xué)廢料對(duì)環(huán)境污染嚴(yán)重，不利于環(huán)保。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的就在于提供一種解決上述問(wèn)題的可控制采光瓦寬度減少原料 浪費(fèi)的新型采光瓦制備裝置。 為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是這樣的包括機(jī)床、進(jìn)料控制裝 置、上導(dǎo)輪、下導(dǎo)輪、上薄膜和下薄膜，還包括在機(jī)床縱向上兩組左右對(duì)稱的限料裝置，所述 限料裝置位于機(jī)床縱向的兩側(cè)、進(jìn)料控制裝置和下導(dǎo)輪之間且靠近下導(dǎo)輪的位置，所述限 料裝置包括基架、支架和限料擋板，所述支架一端與限料擋板固定連接，另一端與基架可伸 縮連接，所述限料擋板由外擋板和伸入板組成，所述外擋板的一邊沿機(jī)床的水平方向長(zhǎng)度 為5-10cm，高度為l-2cm，另一邊沿上薄膜的方向長(zhǎng)度為1. 5-3cm，且所述外擋板與上薄膜 和下薄膜在下導(dǎo)輪處圍成的輪廓一致，所述伸入板高度為0. 15-0. 2cm，且伸入上導(dǎo)輪和下 導(dǎo)輪之間的空隙內(nèi)2-3cm。 作為優(yōu)選所述外擋板和伸入板外壁光滑。 與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于由于在上導(dǎo)輪和下導(dǎo)輪附近設(shè)置了與 薄膜相配合的限料裝置，可以防止液體化學(xué)原料在壓制時(shí)向兩側(cè)外泄，從而保證壓制的采 光瓦具有一定寬度而不用再次切割，從而一次成型，減少了工序，同時(shí)也杜絕了材料浪費(fèi)， 節(jié)約了成本，減輕了環(huán)境污染，同時(shí)，限料裝置在支架的支撐下，懸空于上薄膜和下薄膜之 間，不影響薄膜的向前推進(jìn)，同時(shí)外擋板和伸入板外壁光滑，不會(huì)損壞薄膜，另外，支架和基 架支架可伸縮，從而可以通過(guò)調(diào)節(jié)支架伸出的長(zhǎng)短以滿足不同寬度的采光瓦制備時(shí)限料的 需要，本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)新穎，制造簡(jiǎn)單，使用方便，同時(shí)節(jié)約環(huán)保。
圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2為實(shí)施例1中限料擋板的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式下面將結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明。[0010] 實(shí)施例1 : 參見(jiàn)圖l，包括機(jī)床1、進(jìn)料控制裝置2、上導(dǎo)輪31、下導(dǎo)輪32、上薄膜41和下薄膜42，還包括在機(jī)床1縱向上兩組左右對(duì)稱的限料裝置，限料裝置位于機(jī)床1縱向的兩側(cè)、進(jìn)料控制裝置2和下導(dǎo)輪32之間且靠近下導(dǎo)輪32的位置，限料裝置包括基架5、支架6和限料擋板，支架6 —端與限料擋板固定連接，另一端與基架5可伸縮連接，限料擋板由外擋板71和伸入板72組成，外擋板72的一邊沿機(jī)床1的水平方向長(zhǎng)度為8cm，高度為2cm，另一邊沿上薄膜41的方向長(zhǎng)度為2cm，且所述外擋板71與上薄膜41和下薄膜42在下導(dǎo)輪32處圍成的輪廓一致，整體成梯形，所述伸入板72高度為0. 2cm，且伸入上導(dǎo)輪31和下導(dǎo)輪32之間的空隙內(nèi)2cm，參見(jiàn)圖2 ;外擋板71和伸入板72外壁光滑。 使用時(shí)，在下薄膜42的起始端加入液體的化學(xué)配料，根據(jù)需要制備的采光瓦的質(zhì)量要求，采用進(jìn)料控制裝置2控制化學(xué)配料的量，經(jīng)進(jìn)料控制裝置2輸出的化學(xué)原料，在機(jī)床1的傳送作用下，進(jìn)入下一個(gè)環(huán)節(jié)，即與玻纖進(jìn)行混合反應(yīng)5-15分鐘，然后經(jīng)過(guò)上導(dǎo)輪31和下導(dǎo)輪32的壓制，以控制需要的采光瓦的厚薄，由于在上導(dǎo)輪31和下導(dǎo)輪32附近設(shè)置了與薄膜相配合的限料裝置，可以防止液體化學(xué)原料在壓制時(shí)向兩側(cè)外泄，從而保證壓制的采光瓦具有一定寬度而不用再次切割，從而一次成型，減少了工序，同時(shí)也杜絕了材料浪費(fèi)，節(jié)約了成本，減輕了環(huán)境污染，同時(shí)，限料裝置在支架6的支撐下，懸空于上薄膜41和下薄膜42之間，不影響薄膜的向前推進(jìn)，同時(shí)外擋板71和伸入板72外壁光滑，不會(huì)損壞上薄膜41和下薄膜42，另外，支架6和基架5可伸縮連接，從而可以通過(guò)調(diào)節(jié)支架6伸出的長(zhǎng)短滿足不同寬度的采光瓦制備時(shí)限料的需要，本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)新穎，制造簡(jiǎn)單，使用方便，同時(shí)節(jié)約環(huán)保。
權(quán)利要求新型采光瓦制備裝置，包括機(jī)床(1)、進(jìn)料控制裝置(2)、上導(dǎo)輪(31)、下導(dǎo)輪(32)、上薄膜(41)和下薄膜(42)，其特征在于還包括在機(jī)床(1)縱向上兩組左右對(duì)稱的限料裝置，所述限料裝置位于機(jī)床(1)縱向的兩側(cè)、進(jìn)料控制裝置(2)和下導(dǎo)輪(32)之間且靠近下導(dǎo)輪(32)的位置，所述限料裝置包括基架(5)、支架(6)和限料擋板，所述支架(6)一端與限料擋板固定連接，另一端與基架(5)可伸縮連接，所述限料擋板由外擋板(71)和伸入板(72)組成，所述外擋板(71)的一邊沿機(jī)床(1)的水平方向長(zhǎng)度為5-10cm，高度為1-2cm，另一邊沿上薄膜(41)的方向長(zhǎng)度為1.5-3cm，且所述外擋板(71)與上薄膜(41)和下薄膜(42)在下導(dǎo)輪(32)處圍成的輪廓一致，所述伸入板(72)高度為0.15-0.2cm，且伸入上導(dǎo)輪(31)和下導(dǎo)輪(32)之間的空隙內(nèi)2-3cm。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型采光瓦制備裝置，其特征在于所述外擋板(71)和伸入 板(72)外壁光滑。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種新型采光瓦制備裝置，包括機(jī)床(1)、進(jìn)料控制裝置(2)、上導(dǎo)輪(31)、下導(dǎo)輪(32)、上薄膜(41)和下薄膜(42)，還包括在機(jī)床(1)縱向上兩組左右對(duì)稱的限料裝置，限料裝置包括基架(5)、支架(6)和限料擋板；可以防止液體化學(xué)原料在壓制時(shí)向兩側(cè)外泄，從而保證壓制的采光瓦具有一定寬度而不用再次切割，同時(shí)，限料裝置在支架的支撐下，懸空于上薄膜和下薄膜之間，不影響薄膜的向前推進(jìn)，同時(shí)外擋板和伸入板外壁光滑，不會(huì)損壞薄膜，可以通過(guò)調(diào)節(jié)支架伸出的長(zhǎng)短以滿足不同寬度的采光瓦制備時(shí)限料的需要，本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)新穎，制造簡(jiǎn)單，使用方便，同時(shí)節(jié)約環(huán)保。
文檔編號(hào)B28B5/00GK201471580SQ200920169018
公開(kāi)日2010年5月19日 申請(qǐng)日期2009年8月12日 優(yōu)先權(quán)日2009年8月12日
發(fā)明者梁鵬 申請(qǐng)人:四川麥克威科技有限公司