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一種陽(yáng)光瓦楞板的制作方法

文檔序號(hào):2017868閱讀:530來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:一種陽(yáng)光瓦楞板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種陽(yáng)光瓦楞板,即一種聚碳酸酯瓦楞板。
背景技術(shù)
陽(yáng)光板學(xué)名為聚碳酸酯板。塑料板材都存在受紫外光線照射而發(fā)生快速老 化的問(wèn)題,各生產(chǎn)企業(yè)都采用不同的方法解決這一問(wèn)題,以期延長(zhǎng)產(chǎn)品的使用 壽命,最實(shí)用和有效的方法是在產(chǎn)品中添加紫外線吸收劑,但是添加工藝的不 同又會(huì)造成實(shí)際使用效果的天壤之別。
最初大家都采用表面涂覆法,即在板材的表面涂上一層紫外線吸收劑,但
是由于PC和其他材料的相容性很差,所以安裝后雨水就很容易把表面的涂層沖
落,另外考慮到產(chǎn)品在儲(chǔ)運(yùn)過(guò)程中可能發(fā)生的損壞,生產(chǎn)時(shí)就在產(chǎn)品的兩面覆 上了保護(hù)膜,此保護(hù)膜在安裝結(jié)束后必須撕下,而由于保護(hù)膜有粘性,所以在 撕下過(guò)程中會(huì)粘落大量的表面涂覆的紫外線吸收劑,所以實(shí)際效果很差。
現(xiàn)在很多廠家采用混合添加法,即在PC主料中混入一定量的紫外線吸收劑 (約5%), —起經(jīng)高溫熔融擠出,這解決了分層脫落問(wèn)題,但由于板材表面的 很大部分還是裸露在太陽(yáng)光下,因此板材表面的老化還是不可避免地發(fā)生,此 外由于紫外線吸收劑量?jī)r(jià)格昂貴,添加如此高比例的吸收劑也造成了產(chǎn)品成本 的大幅度上升。

實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于提出一種新的陽(yáng)光瓦楞板,以解決現(xiàn)在的聚碳酸酯
瓦楞板存在的紫外線吸收劑層容易受損、分層脫落的問(wèn)題。
一種陽(yáng)光瓦楞板,其特征在于,包括陽(yáng)光瓦楞板本體,通過(guò)共擠出法在 所述陽(yáng)光瓦楞板本體的表面形成的一層紫外線吸收劑保護(hù)層,所述紫外線吸收
劑保護(hù)層厚30微米 50微米。
本實(shí)用新型采用共擠出法制造陽(yáng)光瓦楞板,所述陽(yáng)光瓦楞板不容易受損、 分層脫落,充分發(fā)揮了吸收劑的作用,并且降低了成本。
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
來(lái)進(jìn)一步說(shuō)明本實(shí)用新型。


圖1是實(shí)施例1中的陽(yáng)光瓦楞板的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是實(shí)施例2中的陽(yáng)光瓦楞板的結(jié)構(gòu)示意圖。 圖3是實(shí)施例3中的陽(yáng)光瓦楞板的結(jié)構(gòu)示意圖。 圖4是實(shí)施例4中的陽(yáng)光瓦楞板的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
為使本實(shí)用新型實(shí)現(xiàn)的技術(shù)手段、創(chuàng)作特征、達(dá)成目的與功效易于明白了 解,下面結(jié)合具體實(shí)施方式
,進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型。
本實(shí)用新型所述的陽(yáng)光瓦楞板的制造方法,PC主料和紫外線吸收劑各自 在擠出機(jī)中經(jīng)265。C 285'C和經(jīng)24(TC 265。C高溫熔融擠出,在模具中匯合;經(jīng) 三輥壓延機(jī)壓延后冷卻定型,上、中、下三輥的溫度分別為100 120°C、 110-13(TC、 120~140°C;再經(jīng)260 270'C高溫加熱并在成型模具中成型冷卻。
實(shí)施例1
一種陽(yáng)光瓦楞板,為梯型板,包括陽(yáng)光瓦楞板本體l,在陽(yáng)光瓦楞板本體的
上下表面各形成一層紫外線吸收劑保護(hù)層21、 22,紫外線吸收劑保護(hù)層21、 22 各厚30微米 50微米(視紫外線吸收劑濃度而定)。
實(shí)施例2
一種陽(yáng)光瓦楞板,為梯型板,包括陽(yáng)光瓦楞板本體l,在陽(yáng)光瓦楞板本體的 上表面形成一層紫外線吸收劑保護(hù)層21,紫外線吸收劑保護(hù)層21厚30微米 50 微米(視紫外線吸收劑濃度而定)。
實(shí)施例3
一種陽(yáng)光瓦楞板,為波型板,包括陽(yáng)光瓦楞板本體l,在陽(yáng)光瓦楞板本體的 上下表面各形成一層紫外線吸收劑保護(hù)層21、 22,紫外線吸收劑保護(hù)層21、 22 各厚30微米 50微米(視紫外線吸收劑濃度而定)。
實(shí)施例4
一種陽(yáng)光瓦楞板,為波型板,包括陽(yáng)光瓦楞板本體l,在陽(yáng)光瓦楞板本體的 上表面形成一層紫外線吸收劑保護(hù)層21,紫外線吸收劑保護(hù)層21厚30微米~50 微米(視紫外線吸收劑濃度而定)。
實(shí)施例5
釆用的紫外線吸收劑為K-6397,制造1.2cm厚的陽(yáng)光瓦楞板,其中紫外線 吸收劑層厚30微米。PC主料和紫外線吸收劑各自在擠出機(jī)中經(jīng)265'C和240°C
高溫熔融擠出,在模具中匯合,經(jīng)三輥壓延機(jī)壓延后冷卻定型,上、中、下三
輥的溫度分別為100°C、 115°C、 130°C,再經(jīng)260。C高溫加熱并在成型模具中成 型冷卻。
實(shí)施例6
采用的紫外線吸收劑為DP1-1816,制造lcm厚的陽(yáng)光瓦楞板,其中紫外線 吸收劑層厚50微米。PC主料和紫外線吸收劑各自在擠出機(jī)中經(jīng)275'C和250°C 高溫熔融擠出,在模具中匯合,經(jīng)三輥壓延機(jī)壓延后冷卻定型,上、中、下三 輥的溫度分別為105°C、 120°C、 135°C,再經(jīng)265-C高溫加熱并在成型模具中成 型冷卻。
實(shí)施例7
采用的紫外線吸收劑為ML3987,制造lcm厚的陽(yáng)光瓦楞板,其中紫外線 吸收劑層厚50微米。PC主料和紫外線吸收劑各自在擠出機(jī)中經(jīng)285'C和265°C 高溫熔融擠出,在模具中匯合,經(jīng)三輥壓延機(jī)壓延后冷卻定型,上、中、下三 輥的溫度分別為110°C、 125°C、 140°C,再經(jīng)27(TC高溫加熱并在成型模具中成 型冷卻。
以上顯示和描述了本實(shí)用新型的基本原理、主要特征和本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)。 本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解,本實(shí)用新型不受上述實(shí)施例的限制,上述實(shí)施例 和說(shuō)明書中描述的只是說(shuō)明本實(shí)用新型的原理,在不脫離本實(shí)用新型精神和范 圍的前提下本實(shí)用新型還會(huì)有各種變化和改進(jìn),這些變化和改進(jìn)都落入要求保 護(hù)的本實(shí)用新型范圍內(nèi)。本實(shí)用新型要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書及其等 同物界定。
權(quán)利要求1、一種陽(yáng)光瓦楞板,其特征在于,包括陽(yáng)光瓦楞板本體,通過(guò)共擠出法在所述陽(yáng)光瓦楞板本體的表面形成的一層紫外線吸收劑保護(hù)層,所述紫外線吸收劑保護(hù)層厚30微米~50微米。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種陽(yáng)光瓦楞板,即一種聚碳酸酯瓦楞板。一種陽(yáng)光瓦楞板,其特征在于,包括陽(yáng)光瓦楞板本體,通過(guò)共擠出法在所述陽(yáng)光瓦楞板本體的表面形成的一層紫外線吸收劑保護(hù)層,所述紫外線吸收劑保護(hù)層厚30微米~50微米。本實(shí)用新型采用共擠出法制造陽(yáng)光瓦楞板,依照上述方法制造的陽(yáng)光瓦楞板不容易受損、分層脫落,充分發(fā)揮了吸收劑的作用,并且降低了成本。
文檔編號(hào)E04D3/32GK201056793SQ20072006967
公開日2008年5月7日 申請(qǐng)日期2007年4月30日 優(yōu)先權(quán)日2007年4月30日
發(fā)明者朱偉峰, 李敏驊, 民 顧 申請(qǐng)人:上海匯麗-塔格板材有限公司
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