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含有稀土和二氧化硅的二氧化鈦納米薄膜及其制法的制作方法

文檔序號:1863272閱讀:195來源:國知局
專利名稱:含有稀土和二氧化硅的二氧化鈦納米薄膜及其制法的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種二氧化鈦納米薄膜及其制法,特別涉及一種在二氧化鈦納米薄膜摻雜的納米薄膜及其制法。
但TiO2薄膜表面在暗處或沒有紫外線照射時(shí)很快失去光催化活性和親水性,表現(xiàn)為親水角很快變大,需要不斷的紫外線或陽光照射,這給實(shí)際應(yīng)用帶來可困難。為此人們對TiO2薄膜進(jìn)行摻雜處理以提高薄膜的超親水效果,如TiO2與SiO2復(fù)合薄膜可有效提高TiO2薄膜親水持續(xù)時(shí)間。
TiO2薄膜本身具有光催化活性和親水性兩種功能,這兩種功能同時(shí)發(fā)生,二者互相影響。表面親水性具有透明防霧、自清潔的效果,光催化可降解灰塵等有機(jī)污物,有利于維持表面的自清潔效果。SiO2添加10~20%左右時(shí)薄膜具有最高的光催化活性,但SiO2添加40%~50%時(shí)親水持續(xù)效應(yīng)才明顯增加,SiO2含量很高時(shí)薄膜的親水持續(xù)效應(yīng)是由于SiO2本身為蓄水材料所致。SiO2為絕緣體,本身不具有光催化活性,因此SiO2增加減少了TiO2的有效面積,此時(shí)親水持續(xù)效應(yīng)增加,但光催化活性降低,不利于表面自清潔效應(yīng)的維持和透明性。
本發(fā)明的薄膜的組分和摩爾百分比含量包括TiO280~89.97%SiO210~19.97%稀土氧化物 0.03~0.06%所說的稀土元素包括鈰或鑭。
優(yōu)選的摩爾百分比含量包括TiO280~84.97%SiO215~19.97%稀土氧化物 0.03~0.04%。
本發(fā)明提供的TiO2/SiO2/稀土復(fù)合薄膜,使光催化活性和超親水性同步增加,并且超親水性在暗中可維持較長時(shí)間。
本發(fā)明的薄膜的制備方法包括如下步驟按照前述比例,將C2~C4的鈦酸脂、C1~C2的硅酸脂、稀土鹽、溶劑和酸性物質(zhì)構(gòu)成的溶膠涂布于硬質(zhì)物體,如玻璃表面或釉面磚表面,在600℃~1000℃進(jìn)行燒結(jié),燒結(jié)時(shí)間為0.5~3小時(shí),即制得本發(fā)明的薄膜。
按照本發(fā)明,在燒結(jié)前最好先進(jìn)行250℃烘干,烘干溫度為200~350℃。
酸性物質(zhì)用于水解催化劑,其加入量以使溶膠的pH值為2~4為適宜;優(yōu)選的鈦酸脂為鈦酸丁脂;優(yōu)選的硅酸脂為硅酸甲脂;優(yōu)選的稀土鹽為為鈰鹽或鑭鹽,如硝酸亞鈰或硝酸鑭;所說的溶劑包括乙醇;按以上步驟——涂膜—烘干—熱處理重復(fù)操作可得到不同層數(shù)及厚度的薄膜。
按以上步驟——涂膜—烘干—600℃加熱重復(fù)操作得到2層薄膜。
所獲得的TiO2/SiO2/稀土復(fù)合薄膜,使光催化活性和超親水性同步增加,并且超親水性在暗中可維持較長時(shí)間。
親水性實(shí)驗(yàn)采用由水滴直徑測量計(jì)算接觸角的方法進(jìn)行。利用微量進(jìn)樣器在薄膜表面上滴1μL的水滴,在讀數(shù)顯微鏡下測量水滴的直徑。假使水滴在表面呈球冠形,通過球冠體積公式可以算出水滴與薄膜表面的接觸角。
表1薄膜表面親水性薄膜種類 TiO2TiO2/SiO2TiO2/SiO2/Ce2O3TiO2/SiO2/La2O3水滴接觸角/(°) 16 9 3 3紫外光照射30min水滴接觸角/(°) 10 8 3 3紫外光照射60 min后水滴接觸角/(°) 30 15 6 8暗中存放24h后實(shí)施例3~4采用實(shí)施例相同的方法和條件,以鈦酸乙酯取代鈦酸四丁酯、以正硅酸甲脂取代正硅酸乙酯,所獲得的TiO2/SiO2/稀土復(fù)合薄膜,使光催化活性和超親水性同步增加,并且超親水性在暗中可維持較長時(shí)間。
表2薄膜表面親水性薄膜種類 TiO2TiO2/SiO2TiO2/SiO2/Ce2O3TiO2/SiO2/La2O3水滴接觸角/(°)18 11 5 5紫外光照射30min后水滴接觸角/(°)10 7 3 3紫外光照射60min后水滴接觸角/(°)38 16 8 8暗中存放24h后
權(quán)利要求
1.含有稀土和二氧化硅的二氧化鈦納米薄膜,其特征在于,組分和摩爾百分比含量包括TiO280~89.97%SiO210~19.97%稀土氧化物 0.03~0.06%。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜,其特征在于,摩爾百分比含量包括TiO280~84.97%SiO215~19.97%稀土氧化物 0.03~0.04%。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的薄膜,其特征在于,所說的稀土元素包括鈰或鑭。
4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的薄膜的制備方法,其特征在于,包括如下步驟按比例將C2~C4的鈦酸脂、C1~C2的硅酸脂、稀土鹽、溶劑和酸性物質(zhì)構(gòu)成的溶膠涂布于硬質(zhì)物體表面進(jìn)行燒結(jié),即制得本發(fā)明的薄膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其特征在于,燒結(jié)溫度為600℃~1000℃。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其特征在于,燒結(jié)時(shí)間為0.5~3小時(shí)。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其特征在于,在燒結(jié)前先進(jìn)行烘干。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其特征在于,酸性物質(zhì)加入量以使溶膠的pH值為2~4。
9.根據(jù)權(quán)利要求4~8所述的方法,其特征在于,鈦酸脂為鈦酸丁脂;硅酸脂為硅酸甲脂;稀土鹽為鈰鹽或鑭鹽;溶劑包括乙醇。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其特征在于,稀土鹽為硝酸亞鈰或硝酸鑭。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種含有稀土和二氧化硅的二氧化鈦納米薄膜及其制法。摻雜稀土可改變納米半導(dǎo)體的物理性質(zhì)從而可大幅度提高其光催化活性和親水性。添加微量稀土元素就可提高TiO
文檔編號C04B35/46GK1424282SQ0311475
公開日2003年6月18日 申請日期2003年1月6日 優(yōu)先權(quán)日2003年1月6日
發(fā)明者關(guān)凱書, 王志文, 徐宏 申請人:華東理工大學(xué)
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