掩膜板清潔系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種掩膜板清潔系統(tǒng)，包括清潔腔和設(shè)置在所述清潔腔內(nèi)的用于清潔掩膜板的清潔裝置，所述掩膜板清潔系統(tǒng)還包括異物采集裝置，所述異物采集裝置設(shè)置在所述清潔腔內(nèi)，用于采集所述掩膜板表面的異物。本發(fā)明使用清潔裝置對掩膜板進(jìn)行清潔，同時(shí)使用異物采集裝置對粘附性強(qiáng)的異物進(jìn)行采集分析，不僅達(dá)到了快速且無二次污染的清潔效果，而且達(dá)到了對異物來源進(jìn)行分析的技術(shù)效果，有效保證了曝光工藝的精確性。此外，本發(fā)明使用控制器對系統(tǒng)內(nèi)的各個(gè)裝置進(jìn)行控制，能夠?qū)崿F(xiàn)對掩膜板的自動(dòng)清潔，以及對異物的自動(dòng)采集，節(jié)省了大量的人力成本。
【專利說明】
掩膜板清潔系統(tǒng)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示設(shè)備制造【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種掩膜板清潔系統(tǒng)。

【背景技術(shù)】
[0002]在顯示面板的制造工藝中經(jīng)常會(huì)用到掩膜板。目前，大部分生產(chǎn)廠家在清潔掩膜板時(shí)采用人工清潔的方式，例如使用氣槍、離子槍、清潔布等工具對掩膜板進(jìn)行清潔。
[0003]上述清潔方法不僅耗時(shí)耗力，而且難以達(dá)到預(yù)期的效果。此外，人工清潔容易造成掩膜板劃傷，從而導(dǎo)致顯示面板在制造過程中產(chǎn)生二次缺陷，嚴(yán)重影響產(chǎn)品品質(zhì)。
[0004]目前，現(xiàn)有技術(shù)中已有采用風(fēng)淋方式的掩膜板清潔系統(tǒng)，但是對于粘附性較強(qiáng)的顆粒物，通過風(fēng)淋方式難以將其去除，并且現(xiàn)有掩膜板清潔系統(tǒng)無法對異物來源進(jìn)行分析，為后續(xù)生產(chǎn)過程造成隱患。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種掩膜板清潔系統(tǒng)，以提高對掩膜板的清潔效率，并實(shí)現(xiàn)對異物的采集和對異物來源的分析。
[0006]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種掩膜板清潔系統(tǒng)，包括清潔腔和設(shè)置在所述清潔腔內(nèi)的用于清潔掩膜板的清潔裝置，所述掩膜板清潔系統(tǒng)還包括異物采集裝置，所述異物采集裝置設(shè)置在所述清潔腔內(nèi)，用于采集所述掩膜板表面的異物。
[0007]優(yōu)選地，所述掩膜板包括襯底面和掩膜面，所述異物采集裝置包括用于設(shè)置在所述襯底面一側(cè)的真空吸附部和用于設(shè)置在所述掩膜面一側(cè)的靜電吸附部，所述真空吸附部用于吸附位于所述襯底面上的異物，所述靜電吸附部用于吸附位于所述掩膜面上的異物。
[0008]優(yōu)選地，所述真空吸附部包括用于抽真空的管道和位于所述管道入口外圍的第一粘附件，所述第一粘附件能夠粘附異物。
[0009]優(yōu)選地，所述真空吸附部還包括安裝板，所述安裝板環(huán)繞所述管道的入口設(shè)置，所述第一粘附件可拆卸地設(shè)置在所述安裝板上。
[0010]優(yōu)選地，所述真空吸附部還包括第一距離傳感器，所述第一距離傳感器用于檢測所述第一粘附件與所述襯底面之間的距離。
[0011]優(yōu)選地，所述真空吸附部還包括設(shè)置在所述管道中的過濾層，所述過濾層用于過濾異物。
[0012]優(yōu)選地，所述靜電吸附部包括靜電發(fā)生器，所述靜電發(fā)生器包括吸附表面，且所述靜電發(fā)生器用于在所述吸附表面上產(chǎn)生能夠吸附異物的靜電。
[0013]優(yōu)選地，所述靜電吸附部還包括第二粘附件，所述第二粘附件設(shè)置在所述吸附表面上。
[0014]優(yōu)選地，所述第二粘附件可拆卸地設(shè)置在所述吸附表面上。
[0015]優(yōu)選地，所述靜電吸附部還包括第二距離傳感器，所述第二距離傳感器用于檢測所述第二粘附件與所述掩膜面之間的距離。
[0016]優(yōu)選地，所述掩膜板清潔系統(tǒng)還包括異物分析裝置，用于對所述異物采集裝置采集的異物進(jìn)行分析。
[0017]優(yōu)選地，所述異物分析裝置包括紅外光譜儀。
[0018]優(yōu)選地，所述清潔腔內(nèi)設(shè)置有至少一條導(dǎo)軌，所述真空吸附部和所述靜電吸附部能夠沿所述導(dǎo)軌移動(dòng)。
[0019]優(yōu)選地，所述清潔裝置包括多個(gè)風(fēng)刀，使得所述襯底面一側(cè)設(shè)置有至少一個(gè)所述風(fēng)刀，所述掩膜面一側(cè)設(shè)置有至少一個(gè)所述風(fēng)刀。
[0020]優(yōu)選地，設(shè)置在所述襯底面一側(cè)的所述風(fēng)刀發(fā)出的氣體的氣壓大于設(shè)置在所述掩膜面一側(cè)的所述風(fēng)刀發(fā)出的氣體的氣壓。
[0021]優(yōu)選地，所述掩膜板清潔系統(tǒng)還包括:
[0022]控制器；
[0023]異物檢測裝置，設(shè)置在所述清潔腔內(nèi)，用于檢測所述掩膜板表面的異物的數(shù)目、分布、大小信息，并將檢測到的所述掩膜板表面的異物的數(shù)目、分布、大小信息反饋給所述控制器；
[0024]其中，所述控制器用于根據(jù)所述異物檢測裝置發(fā)出的所述掩膜板表面的異物的數(shù)目、分布、大小信息判斷所述掩膜板表面潔凈度是否滿足生產(chǎn)要求，當(dāng)所述掩膜板表面潔凈度不滿足生產(chǎn)要求時(shí)，所述控制器控制所述清潔裝置對所述掩膜板進(jìn)行清潔。
[0025]本發(fā)明使用清潔裝置對掩膜板進(jìn)行清潔，同時(shí)使用異物采集裝置對粘附性強(qiáng)的異物進(jìn)行采集分析，不僅達(dá)到了快速且無二次污染的清潔效果，而且達(dá)到了對異物來源進(jìn)行分析的技術(shù)效果，有效保證了曝光工藝的精確性。此外，本發(fā)明使用控制器對系統(tǒng)內(nèi)的各個(gè)裝置進(jìn)行控制，能夠?qū)崿F(xiàn)對掩膜板的自動(dòng)清潔，以及對異物的自動(dòng)采集，節(jié)省了大量的人力成本。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0026]附圖是用來提供對本發(fā)明的進(jìn)一步理解，并且構(gòu)成說明書的一部分，與下面的【具體實(shí)施方式】一起用于解釋本發(fā)明，但并不構(gòu)成對本發(fā)明的限制。
[0027]圖1是本發(fā)明實(shí)施例中清潔腔內(nèi)的立體示意圖；
[0028]圖2是本發(fā)明實(shí)施例中清潔腔內(nèi)的側(cè)視示意圖；
[0029]圖3是真空吸附部和靜電吸附部的示意圖；
[0030]圖4是本發(fā)明實(shí)施例中掩膜板清潔系統(tǒng)的示意圖；
[0031]圖5是本發(fā)明實(shí)施例中掩膜板清潔系統(tǒng)的工作流程圖；
[0032]在附圖中，1:清潔腔；2:掩膜板；21:襯底面；22:掩膜面；31:真空吸附部；311:管道；312:第一粘附件；313:第一距離傳感器；314:過濾層；32:靜電吸附部；321:靜電發(fā)生器；322:第二粘附件；323:第二距離傳感器；41:風(fēng)刀；5:異物檢測裝置；6:排氣裝置；7:導(dǎo)軌；8:存儲(chǔ)裝置；9:機(jī)械手。

【具體實(shí)施方式】
[0033]以下結(jié)合附圖對本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解的是，此處所描述的【具體實(shí)施方式】僅用于說明和解釋本發(fā)明，并不用于限制本發(fā)明。
[0034]本發(fā)明提供一種掩膜板清潔系統(tǒng)，包括清潔腔和設(shè)置在所述清潔腔內(nèi)的用于清潔掩膜板的清潔裝置，所述掩膜板清潔系統(tǒng)還包括異物采集裝置，所述異物采集裝置也設(shè)置在所述清潔腔內(nèi)，用于采集所述掩膜板表面的異物。
[0035]本發(fā)明中使用的清潔裝置可以是風(fēng)淋式清潔裝置，本發(fā)明使用清潔裝置對掩膜板進(jìn)行清潔，同時(shí)使用異物采集裝置對粘附性強(qiáng)的異物進(jìn)行采集，達(dá)到了快速且無二次污染的清潔效果。并且，本發(fā)明可以對采集到的異物進(jìn)行來源分析，從源頭進(jìn)行控制，防止同樣的污染反復(fù)發(fā)生，有效保證了曝光工藝的精確性。
[0036]圖1和圖2分別是本發(fā)明實(shí)施例中清潔腔內(nèi)的立體示意圖和側(cè)視示意圖。在清潔腔I中，所述清潔裝置包括用于對掩膜板2進(jìn)行風(fēng)淋的多個(gè)風(fēng)刀41，掩膜板2包括襯底面(Upper Surface) 21和掩膜面(Pellicle Surface) 22。所述異物采集裝置包括用于設(shè)置在襯底面21 —側(cè)的真空吸附部31和用于設(shè)置在掩膜面22 —側(cè)的靜電吸附部32。其中，真空吸附部31用于吸附位于襯底面21上的異物，靜電吸附部32用于吸附位于掩膜面22上的異物。
[0037]對于一些粘附性較強(qiáng)的異物，僅使用清潔裝置難以將其去除。由于掩膜板2的襯底面21硬度較高，通常是玻璃面，因此本發(fā)明中采用真空吸附的方式對襯底面21上的異物進(jìn)行采集，真空吸附方式能夠產(chǎn)生較強(qiáng)的吸附力，對于去除粘附性較強(qiáng)的異物效果顯著。相比之下，掩膜面22通常是薄膜面，并且掩膜面22的清潔程度和完整程度直接影響曝光工藝的效果，因此本發(fā)明中采用靜電吸附的方式對掩膜面22上的異物進(jìn)行采集，不僅能夠?qū)⒄掣叫暂^強(qiáng)的微小異物去除，而且不會(huì)對掩膜面22造成影響。
[0038]通常情況下，先使用清潔裝置對掩膜板2表面的異物進(jìn)行清潔，然后通過異物檢測裝置5對掩膜板2表面的潔凈度進(jìn)行判斷，如果掩膜板2表面的潔凈度不滿足生產(chǎn)要求，再使用異物采集裝置對粘附性較強(qiáng)的異物進(jìn)行去除和采集。本發(fā)明對于粘附性不同的異物采用組合式清潔方法，兼顧了清潔時(shí)間和清潔效果，同時(shí)完成了對頑固異物的采集，以便于后續(xù)對異物來源進(jìn)行分析。
[0039]圖3是真空吸附部和靜電吸附部的示意圖。真空吸附部31包括用于抽真空的管道311和位于管道311入口外圍的第一粘附件312，第一粘附件312能夠粘附異物。當(dāng)對管道311抽真空時(shí)，位于掩膜板2的襯底面21上的異物被采集到第一粘附件312上。
[0040]或者，真空吸附部31還包括安裝板，所述安裝板環(huán)繞管道311的入口設(shè)置，第一粘附件312可拆卸地設(shè)置在所述安裝板上。第一粘附件312可以是膠帶，當(dāng)異物采集完畢，可以將所述膠帶拆卸下來，便于后續(xù)對采集到的異物進(jìn)行來源分析。并且，由于膠帶成本很低，更換方便，非常適合量產(chǎn)工藝。
[0041]為了防止真空吸附部31與掩膜板2接觸，真空吸附部31還包括第一距離傳感器313，用于檢測第一粘附件312與襯底面21之間的距離，避免兩者接觸造成的二次污染。
[0042]作為本發(fā)明的一種優(yōu)選實(shí)施方式，可以將第一距離傳感器313與報(bào)警裝置相連，當(dāng)?shù)谝痪嚯x傳感器313檢測到第一粘附件312與襯底面21之間的距離小于預(yù)定值時(shí)，則向所述報(bào)警裝置發(fā)出信號，所述報(bào)警裝置根據(jù)接收到的信號發(fā)出相應(yīng)的報(bào)警信號，提醒操作人員。
[0043]作為本發(fā)明的另一種優(yōu)選實(shí)施方式，第一距離傳感器313還可以與顯示裝置相連，所述顯示裝置能夠?qū)崟r(shí)顯示第一距離傳感器313檢測到的第一粘附件312與襯底面21之間的距離，操作人員根據(jù)所述顯示裝置顯示的距離來調(diào)節(jié)真空吸附部31與掩膜板2之間的距離。
[0044]此外，真空吸附部31還包括設(shè)置在管道311中的過濾層314，過濾層314用于過濾異物，使得在抽真空的過程中，異物不會(huì)進(jìn)入管道311中，以免造成管道311被污染或者堵塞。第一粘附件312與過濾層314的交疊處設(shè)置有氣孔，以便于氣流通過。其中，過濾層314可以為過濾網(wǎng)或者其它既可以透氣又可以防止異物進(jìn)入抽真空系統(tǒng)中的元件。
[0045]靜電吸附部32包括靜電發(fā)生器321，靜電發(fā)生器321包括吸附表面，且靜電發(fā)生器321用于在所述吸附表面上產(chǎn)生能夠吸附異物的靜電。本發(fā)明中所使用的靜電發(fā)生器321可以是任意可以通過商購獲得的靜電發(fā)生器。
[0046]所述吸附表面本身能夠粘附異物，或者，靜電吸附部32還包括第二粘附件322，第二粘附件322設(shè)置在所述吸附表面上，用來粘附異物。
[0047]優(yōu)選地，第二粘附件322可拆卸地設(shè)置在所述吸附表面上。第二粘附件322也可以是能夠反復(fù)粘貼的膠帶，當(dāng)異物采集完畢后，將所述膠帶拆卸下來，便于后續(xù)對采集到的異物進(jìn)行來源分析。
[0048]同樣地，為了防止靜電吸附部32與掩膜板2接觸，靜電吸附部32還包括第二距離傳感器323，用于檢測第二粘附件322與掩膜面22之間的距離，避免兩者接觸造成的二次污染。第二距離傳感器323的工作原理與上述第一距離傳感器313的工作原理相似，這里不再贅述。
[0049]為了對采集的異物進(jìn)行分析，本發(fā)明提供的掩膜板清潔系統(tǒng)還包括異物分析裝置。所述異物分析裝置包括紅外光譜儀，對于需要多次清潔才能去除的粘附性較強(qiáng)的異物，可以使用紅外光譜儀辨別異物的成分，以排查異物的發(fā)生源，防止后續(xù)發(fā)生類似的異物污染，節(jié)省清潔工序的時(shí)間。
[0050]具體地，可以利用紅外光譜儀辨別異物的金屬成分和/或有機(jī)成分。其中，異物中的金屬成分可能來自于機(jī)械設(shè)備的磨損，此時(shí)需要對機(jī)械設(shè)備進(jìn)行檢測，而異物中的有機(jī)成分可能來自于頭發(fā)、碎屑、膠類等，此時(shí)需要對生產(chǎn)過程中相關(guān)人員的操作規(guī)范進(jìn)行管控。
[0051]在本發(fā)明中，真空吸附部31能夠沿襯底面21移動(dòng)，靜電吸附部32能夠沿掩膜面32移動(dòng)，以使得位于掩膜板2表面各個(gè)位置的異物均能夠被去除，得到最優(yōu)的清潔效果。
[0052]具體地，以圖1為例，清潔腔I內(nèi)設(shè)置有至少一條導(dǎo)軌7，導(dǎo)軌7沿Y方向設(shè)置，真空吸附部31和靜電吸附部32能夠沿導(dǎo)軌7移動(dòng)。此外，風(fēng)刀41也可以設(shè)置在導(dǎo)軌7上，即真空吸附部31或靜電吸附部32可以與風(fēng)刀41共用沿Y方向的導(dǎo)軌7。此外，還可以在清潔腔I內(nèi)設(shè)置多條沿X方向的導(dǎo)軌，使得真空吸附部31和靜電吸附部32能夠沿X方向移動(dòng)，從而采集到掩膜板2任意位置的異物，其實(shí)現(xiàn)方法較為簡單，圖中未示出。
[0053]如上文所述，清潔裝置包括多個(gè)風(fēng)刀41，使得襯底面21 —側(cè)設(shè)置有至少一個(gè)風(fēng)刀41，掩膜面22 —側(cè)設(shè)置有至少一個(gè)風(fēng)刀41。優(yōu)選地，在襯底面21 —側(cè)和掩膜面22 —側(cè)均設(shè)置有多個(gè)均勻排布的風(fēng)刀41，以達(dá)到較好的清潔效果。
[0054]由于襯底面21硬度較高，通常為玻璃面，而掩膜面22通常為薄膜面，因此，設(shè)置在襯底面21 —側(cè)的風(fēng)刀41發(fā)出的氣體的氣壓應(yīng)該大于設(shè)置在掩膜面22 —側(cè)的風(fēng)刀41發(fā)出的氣體的氣壓。這樣設(shè)置的目的是盡可能去除異物的同時(shí)保護(hù)掩膜面22不受損傷。
[0055]為了達(dá)到最優(yōu)的清潔效果，風(fēng)刀41的出風(fēng)面與水平面的夾角優(yōu)選設(shè)置為45°。
[0056]在本發(fā)明中，所述掩膜板清潔系統(tǒng)還包括控制器和異物檢測裝置。所述控制器通過可編程邏輯控制器集成，能夠?qū)ζ渌b置進(jìn)行控制。以圖1為例，異物檢測裝置5設(shè)置在清潔腔I內(nèi)，用于檢測掩膜板2表面的異物的數(shù)目、分布、大小等信息，并將檢測到的上述信息反饋給所述控制器。
[0057]其中，所述控制器用于根據(jù)上述信息判斷掩膜板表面潔凈度是否滿足生產(chǎn)要求，當(dāng)掩膜板表面潔凈度不滿足生產(chǎn)要求時(shí)，所述控制器控制所述清潔裝置對其進(jìn)行清潔。
[0058]在圖1所示的實(shí)施例中，異物檢測裝置5包括兩個(gè)條形的檢測器，兩個(gè)所述條形檢測器均位于清潔腔I的入口處，在掩膜板2進(jìn)出清潔腔I的過程中，對掩膜板2的兩個(gè)表面進(jìn)行光學(xué)掃描。其中一個(gè)所述條形檢測器設(shè)置在襯底面21 —側(cè)，用于檢測襯底面21表面的異物的數(shù)目、分布、大小等信息；另一個(gè)所述條形檢測器設(shè)置在掩膜面22 —側(cè)，用于檢測掩膜面22表面的異物的數(shù)目、分布、大小等信息。
[0059]圖4是本發(fā)明實(shí)施例中掩膜板清潔系統(tǒng)的示意圖，本發(fā)明所提供的掩膜板清潔系統(tǒng)還包括:
[0060]存儲(chǔ)裝置8，用于臨時(shí)或長期存放掩膜板；
[0061]機(jī)械手9，用于將掩膜板送入/送出清潔腔1，以及將掩膜板送入/送出存儲(chǔ)裝置8。
[0062]如圖1和圖2中所示，所述掩膜板清潔系統(tǒng)還包括排氣裝置6，排氣裝置6包括多個(gè)條形的排氣管，所述排氣管的一端位于清潔腔I中，另一端將清潔腔I內(nèi)的氣體排出至清潔腔I外部。
[0063]此外，所述掩膜板清潔系統(tǒng)還包括電氣提供裝置，用于向該系統(tǒng)中的各裝置提供電力和潔凈空氣等。
[0064]本發(fā)明提供的掩膜板清潔系統(tǒng)可以獨(dú)立使用，也可以與曝光設(shè)備組合使用，即機(jī)械手可以直接將滿足潔凈度要求的掩膜板傳送至曝光設(shè)備的載臺上進(jìn)行使用。
[0065]所述掩膜板清潔系統(tǒng)的工作流程如圖5所示，包括以下步驟:
[0066]S1、使用機(jī)械手將待檢測的掩膜板送入清潔腔內(nèi)，所述清潔腔內(nèi)設(shè)置有清潔裝置、異物采集裝置和異物檢測裝置；
[0067]S2、使用異物檢測裝置對所述掩膜板表面進(jìn)行掃描，并將異物的數(shù)目、分布、大小信息反饋給控制裝置，由所述控制裝置判斷所述掩膜板表面潔凈度是否滿足生產(chǎn)要求；
[0068]S3、如果所述掩膜板表面潔凈度滿足生產(chǎn)要求，則所述機(jī)械手將所述掩膜板傳送至存儲(chǔ)裝置備用(等待曝光用)，如果所述掩膜板表面潔凈度不滿足生產(chǎn)要求，則進(jìn)行步驟S4；
[0069]S4、使用清潔裝置對所述掩膜板進(jìn)行清潔，重復(fù)步驟S2 ；
[0070]S5、如果所述掩膜板表面潔凈度滿足生產(chǎn)要求，則所述機(jī)械手將所述掩膜板傳送至存儲(chǔ)裝置備用，如果所述掩膜板表面潔凈度不滿足生產(chǎn)要求，則進(jìn)行步驟S6 ；
[0071]S6、使用異物采集裝置采集所述掩膜板表面的異物，即吸附粘附性較強(qiáng)的異物，然后重復(fù)步驟S2，如果所述掩膜板表面潔凈度滿足生產(chǎn)要求，則所述機(jī)械手將所述掩膜板傳送至存儲(chǔ)裝置備用，如果所述掩膜板表面潔凈度不滿足生產(chǎn)要求，則繼續(xù)使用異物采集裝置采集所述掩膜板表面的異物，直至所述掩膜板表面潔凈度滿足生產(chǎn)要求；
[0072]S7、使用異物分析裝置對采集到的異物進(jìn)行來源分析，排查異物發(fā)生源。
[0073]本發(fā)明中通過控制器對各個(gè)裝置進(jìn)行參數(shù)設(shè)置，并且通過控制器控制上述過程中各動(dòng)作的完成，因此本發(fā)明能夠?qū)崿F(xiàn)對掩膜版的自動(dòng)檢測、自動(dòng)清潔、以及對異物的自動(dòng)采集，節(jié)省了大量的人力成本。
[0074]所述控制器設(shè)置的參數(shù)主要包括:潔凈空氣(CDA)壓力、風(fēng)刀發(fā)出氣體的流速和氣壓、排氣氣體的流速、真空吸附過程中的真空度、靜電吸附過程中的電場強(qiáng)度等。
[0075]本發(fā)明使用清潔裝置對掩膜板進(jìn)行清潔，同時(shí)使用異物采集裝置對粘附性強(qiáng)的異物進(jìn)行采集分析，不僅達(dá)到了快速且無二次污染的清潔效果，而且達(dá)到了對異物來源進(jìn)行分析的技術(shù)效果，有效保證了曝光工藝的精確性。
[0076]可以理解的是，以上實(shí)施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實(shí)施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實(shí)質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種掩膜板清潔系統(tǒng)，包括清潔腔和設(shè)置在所述清潔腔內(nèi)的用于清潔掩膜板的清潔裝置，其特征在于，所述掩膜板清潔系統(tǒng)還包括異物采集裝置，所述異物采集裝置設(shè)置在所述清潔腔內(nèi)，用于采集所述掩膜板表面的異物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板清潔系統(tǒng)，其特征在于，所述掩膜板包括襯底面和掩膜面，所述異物采集裝置包括用于設(shè)置在所述襯底面一側(cè)的真空吸附部和用于設(shè)置在所述掩膜面一側(cè)的靜電吸附部，所述真空吸附部用于吸附位于所述襯底面上的異物，所述靜電吸附部用于吸附位于所述掩膜面上的異物。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜板清潔系統(tǒng)，其特征在于，所述真空吸附部包括用于抽真空的管道和位于所述管道入口外圍的第一粘附件，所述第一粘附件能夠粘附異物。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩膜板清潔系統(tǒng)，其特征在于，所述真空吸附部還包括安裝板，所述安裝板環(huán)繞所述管道的入口設(shè)置，所述第一粘附件可拆卸地設(shè)置在所述安裝板上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掩膜板清潔系統(tǒng)，其特征在于，所述真空吸附部還包括第一距離傳感器，所述第一距離傳感器用于檢測所述第一粘附件與所述襯底面之間的距離。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的掩膜板清潔系統(tǒng)，其特征在于，所述真空吸附部還包括設(shè)置在所述管道中的過濾層，所述過濾層用于過濾異物。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜板清潔系統(tǒng)，其特征在于，所述靜電吸附部包括靜電發(fā)生器，所述靜電發(fā)生器包括吸附表面，且所述靜電發(fā)生器用于在所述吸附表面上產(chǎn)生能夠吸附異物的靜電。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的掩膜板清潔系統(tǒng)，其特征在于，所述靜電吸附部還包括第二粘附件，所述第二粘附件設(shè)置在所述吸附表面上。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的掩膜板清潔系統(tǒng)，其特征在于，所述第二粘附件可拆卸地設(shè)置在所述吸附表面上。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的掩膜板清潔系統(tǒng)，其特征在于，所述靜電吸附部還包括第二距離傳感器，所述第二距離傳感器用于檢測所述第二粘附件與所述掩膜面之間的距離。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任意一項(xiàng)所述的掩膜板清潔系統(tǒng)，其特征在于，所述掩膜板清潔系統(tǒng)還包括異物分析裝置，用于對所述異物采集裝置采集的異物進(jìn)行分析。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的掩膜板清潔系統(tǒng)，其特征在于，所述異物分析裝置包括紅外光譜儀。
13.根據(jù)權(quán)利要求2至10中任意一項(xiàng)所述的掩膜板清潔系統(tǒng)，其特征在于，所述清潔腔內(nèi)設(shè)置有至少一條導(dǎo)軌，所述真空吸附部和所述靜電吸附部能夠沿所述導(dǎo)軌移動(dòng)。
14.根據(jù)權(quán)利要求2至10中任意一項(xiàng)所述的掩膜板清潔系統(tǒng)，其特征在于，所述清潔裝置包括多個(gè)風(fēng)刀，使得所述襯底面一側(cè)設(shè)置有至少一個(gè)所述風(fēng)刀，所述掩膜面一側(cè)設(shè)置有至少一個(gè)所述風(fēng)刀。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的掩膜板清潔系統(tǒng)，其特征在于，設(shè)置在所述襯底面一側(cè)的所述風(fēng)刀發(fā)出的氣體的氣壓大于設(shè)置在所述掩膜面一側(cè)的所述風(fēng)刀發(fā)出的氣體的氣壓。
16.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任意一項(xiàng)所述的掩膜板清潔系統(tǒng)，其特征在于，所述掩膜板清潔系統(tǒng)還包括: 控制器； 異物檢測裝置，設(shè)置在所述清潔腔內(nèi)，用于檢測所述掩膜板表面的異物的數(shù)目、分布、大小信息，并將檢測到的所述掩膜板表面的異物的數(shù)目、分布、大小信息反饋給所述控制器； 其中，所述控制器用于根據(jù)所述異物檢測裝置發(fā)出的所述掩膜板表面的異物的數(shù)目、分布、大小信息判斷所述掩膜板表面潔凈度是否滿足生產(chǎn)要求，當(dāng)所述掩膜板表面潔凈度不滿足生產(chǎn)要求時(shí)，所述控制器控制所述清潔裝置對所述掩膜板進(jìn)行清潔。
【文檔編號】B08B6/00GK104438226SQ201410722795
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2014年12月2日 優(yōu)先權(quán)日:2014年12月2日
【發(fā)明者】陳曦, 羅麗平, 劉明懸, 郭總杰 申請人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方顯示技術(shù)有限公司