一種襯底單面漂洗裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體集成電路制造領(lǐng)域，公開了一種襯底單面漂洗裝置。該裝載固定工具包括：第一漂洗槽、第二漂洗槽、第三漂洗槽、晾干槽和支架；所述第一漂洗槽、所述第二漂洗槽、所述第三漂洗槽和所述晾干槽的頂部開口處可拆卸地安裝有漂洗槽蓋，所述支架設(shè)置在所述第一漂洗槽、所述第二漂洗槽、所述第三漂洗槽和所述晾干槽的下方，所述漂洗槽蓋采用上下雙層式的結(jié)構(gòu)。本實(shí)用新型所提供的襯底單面漂洗裝置不僅結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，而且通過支撐柱的設(shè)置使得襯底與下層板有一定距離，避免襯底因?yàn)橐后w表面張力的作用，造成其貼合在下層板上。本實(shí)用新型成本低，使用過程具有簡(jiǎn)便、高效、精確的特點(diǎn)，適用范圍廣泛。
【專利說明】一種襯底單面漂洗裝置【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體集成電路制造領(lǐng)域，尤其涉及一種襯底單面漂洗裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，在集成電路制造工藝中對(duì)硅片表面質(zhì)量的要求越來越高，除了對(duì)硅片有嚴(yán)格的尺寸要求外，任何污染的硅片表面都可能影響半導(dǎo)體器件的制造和性能，因此需要對(duì)硅片進(jìn)行表面清洗。硅片的清洗可能在工藝前、工藝過程某階段，或者工藝后，而在清洗分類中，硅片的單面清洗要求更高、難度更大。
[0003]例如，在光伏產(chǎn)業(yè)中為了提高電池的光電轉(zhuǎn)化效率，引入了 ALD (英文名稱為Atomic Layer Deposition,中文名稱為原子層沉積)的工藝制備三氧化二招薄膜,使用ALD的工藝制備三氧化二鋁薄膜時(shí)，為了有效的提高ALD的設(shè)備的利用率，增加設(shè)備的生產(chǎn)效率，裝載襯底多采用兩片襯底背靠背貼合的方式，在理想的狀態(tài)下，三氧化二鋁薄膜只沉積在襯底的兩個(gè)不貼合的外表面上；但是，在制備生產(chǎn)過程中，也有部分互相貼合的襯底背面也沉積上了三氧化二鋁薄膜，為了保證下道工藝的正常進(jìn)行，需要將這些襯底背面的三氧化二鋁薄膜清洗掉，而在清洗過程中，襯底正面沉積上的三氧化二鋁薄膜不會(huì)產(chǎn)生任何破壞和污染。
[0004]同樣，在傳統(tǒng)晶體硅太陽能電池制造中，硅片表面還有氮化硅顆粒等污染物，因此在硅片放入太陽能電池印刷機(jī)內(nèi)印刷前，需要去除這些氮化硅顆?！，F(xiàn)階段，市場(chǎng)上半導(dǎo)體襯底單面清洗的裝置種類繁多，但結(jié)構(gòu)復(fù)雜，價(jià)格昂貴，在集成電路制造裝置的基礎(chǔ)上增加襯底單面清洗裝置，必然造成生產(chǎn)成本增加，使得集成電路制造裝置的競(jìng)爭(zhēng)力減弱。
[0005]因此，針對(duì)以上不足，需要提供一種襯底單面漂洗裝置。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0006]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是現(xiàn)階段襯底單面漂洗的裝置結(jié)構(gòu)復(fù)雜且成本高昂。
[0007]為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供了一種襯底單面漂洗裝置，包括:第一漂洗槽、第二漂洗槽、第三漂洗槽、晾干槽和支架；所述第一漂洗槽、所述第二漂洗槽、所述第三漂洗槽和所述晾干槽的頂部開口處可拆卸地安裝有漂洗槽蓋，所述支架設(shè)置在所述第一漂洗槽、所述第二漂洗槽、所述第三漂洗槽和所述晾干槽的下方，所述漂洗槽蓋采用上下雙層式的結(jié)構(gòu)。
[0008]其中，所述漂洗槽蓋包括上層板、連接板和下層板；所述下層板通過所述連接板固定在所述上層板的下方，所述下層板上設(shè)有通孔，所述下層板正對(duì)于所述上層板的一面上設(shè)有支撐柱。
[0009]其中，所述上層板還設(shè)有觀察窗。
[0010]其中，所述上層板兩側(cè)還設(shè)有把手。
[0011]其中，所述晾干槽四周壁面設(shè)有通孔。[0012]本實(shí)用新型的上述技術(shù)方案具有如下優(yōu)點(diǎn):本實(shí)用新型所提供的襯底單面漂洗裝置不僅結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，而且通過支撐柱的設(shè)置使得襯底與下層板有一定距離，避免襯底因?yàn)橐后w表面張力的作用貼合在下層板上，防止進(jìn)入下道工序時(shí)，襯底浮力無法克服液體表面張力，造成其與下層板不能夠分離的狀況。本實(shí)用新型成本低，使用過程具有簡(jiǎn)便、高效、精確的特點(diǎn)，適用范圍廣泛。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例襯底單面漂洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0014]圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例漂洗槽蓋的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]圖中:1:第一漂洗槽；2:第二漂洗槽；3:第三漂洗槽；4:晾干槽；5:漂洗槽蓋；6:支架；7:上層板；8:把手；9:連接板；10:下層板；11:觀察窗；12:支撐柱。
【具體實(shí)施方式】
[0016]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)施例用于說明本實(shí)用新型，但不用來限制本實(shí)用新型的范圍。
[0017]如圖1所示，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的襯底單面漂洗裝置，其主體部分由第一漂洗槽1、第二漂洗槽2、第三漂洗槽3、晾干槽4和支架6組成。第一漂洗槽I用于盛放漂洗液，第二漂洗槽2用于盛放去離子水，第三漂洗槽3用于盛放有機(jī)溶劑，晾干槽4四周壁面設(shè)有通孔保證晾干槽4能夠通風(fēng)，第一漂洗槽1、第二漂洗槽2、第三漂洗槽3和晾干槽4采用能夠防止漂洗液和有機(jī)溶劑腐蝕的材料；第一漂洗槽1、第二漂洗槽2、第三漂洗槽3和晾干槽4的頂部開口處可拆卸地安裝有漂洗槽蓋5，支架6設(shè)置在第一漂洗槽1、第二漂洗槽
2、第三漂洗槽3和晾干槽4的下方，漂洗槽蓋5采用上下雙層式的結(jié)構(gòu)。
[0018]如圖2所示，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的漂洗槽蓋5，包括:上層板7、連接板9和下層板10 ;上層板上設(shè)有通孔，通孔處鑲嵌有透明的觀察窗11，觀察窗11兩側(cè)設(shè)有把手8，下層板10通過連接板9固定在上層板7的正下方，連接板9可控制襯底的活動(dòng)范圍，保證襯底不會(huì)四處漂浮，下層板10上設(shè)有通孔，保證漂洗液、去離子水和有機(jī)溶劑能夠順利通過下層板10，正對(duì)于上層板7的一面上設(shè)有支撐柱12 ;支撐柱12可以將襯底支撐在同一水平面上，使得襯底與下層板10有一定距離，避免襯底因?yàn)橐后w表面張力的作用貼合在下層板10上，防止下次進(jìn)入漂洗槽時(shí)，襯底浮力無法克服液體表面張力，造成襯底與下層板10不能夠分離，觀察窗11以及支撐柱12的材料均采用能夠防止漂洗液和有機(jī)溶劑腐蝕的材料。
[0019]本實(shí)用新型提供的襯底單面漂洗裝置，使用時(shí)，首先在第一漂洗槽1、第二漂洗槽2和第三漂洗槽3中分別盛入10%的Hcl、去離子水和95%以上的純酒精，液位要求為將漂洗槽蓋5放入漂洗槽時(shí)至少能夠淹沒支撐柱12為準(zhǔn)，將襯底平放在漂洗槽蓋5的下層板10上，需要漂洗的背面朝下，提把手8將漂洗槽蓋5蓋到第一漂洗槽I上，通過觀察窗11可以觀看到襯底在浮力的作用下漂浮在IOfficl上，連接板9可控制襯底的活動(dòng)范圍，保證襯底不會(huì)四處漂浮，待襯底背面清洗干凈后，從第一漂洗槽I中取出漂洗槽蓋5。
[0020]再將漂洗槽蓋5放入第二漂洗槽2中，待襯底背面的10%Hcl溶解到去離子水中后，從第二漂洗槽2中取出漂洗槽蓋5 ;再將漂洗槽蓋5放入第三漂3洗槽中，一段時(shí)間后，從第三漂洗槽3中取出漂洗槽蓋5 ;最后將漂洗槽蓋5放入晾干槽4中，由于襯底從第三漂洗槽3中取出時(shí)，襯底背面帶有酒精，因此在晾干槽4中可以加快襯底晾干速度，待襯底晾干后，從晾干槽4中取出漂洗槽蓋5，并從下層板10上取出晾干的襯底。
[0021]綜上所述，本實(shí)用新型所提供的襯底單面漂洗裝置不僅結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，而且通過支撐柱的設(shè)置使得襯底與下層板有一定距離，避免襯底因?yàn)橐后w表面張力的作用貼合在下層板上，防止進(jìn)入下道工序時(shí)，襯底浮力無法克服液體表面張力，造成其與下層板不能夠分離的狀況。本實(shí)用新型成本低，使用過程具有簡(jiǎn)便、高效、精確的特點(diǎn)，適用范圍廣泛。
[0022]以上實(shí)施例僅用以說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案，而非對(duì)其限制；盡管參照前述實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解:其依然可以對(duì)前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對(duì)其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本實(shí)用新型各實(shí)施例技術(shù)方案的精神和范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種襯底單面漂洗裝置，其特征在于，包括:第一漂洗槽(I)、第二漂洗槽(2)、第三漂洗槽(3)、晾干槽(4)和支架(6);所述第一漂洗槽(I)、所述第二漂洗槽(2)、所述第三漂洗槽(3 )和所述晾干槽(4 )的頂部開口處可拆卸地安裝有漂洗槽蓋(5 )，所述支架(6 )設(shè)置在所述第一漂洗槽(I)、所述第二漂洗槽(2)、所述第三漂洗槽(3)和所述晾干槽(4)的下方，所述漂洗槽蓋(5 )采用上下雙層式的結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底單面漂洗裝置，其特征在于:所述漂洗槽蓋(5)包括上層板(7)、連接板(9)和下層板(10);所述下層板(10)通過所述連接板(9)固定在所述上層板(7)的下方，所述下層板(10)上設(shè)有通孔，所述下層板(10)正對(duì)于所述上層板(7)的一面上設(shè)有支撐柱(12)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的襯底單面漂洗裝置，其特征在于:所述上層板(7)還設(shè)有觀察窗(11)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的襯底單面漂洗裝置，其特征在于:所述上層板(7)兩側(cè)還設(shè)有把手(8)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底單面漂洗裝置，其特征在于:所述晾干槽(4)四周壁面設(shè)有通孔。
【文檔編號(hào)】B08B3/08GK203737648SQ201320860244
【公開日】2014年7月30日 申請(qǐng)日期:2013年12月24日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月24日
【發(fā)明者】陳添明, 劉 東, 李春雷 申請(qǐng)人:北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司