高分辨率x射線閃爍屏襯底的清潔方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種高分辨率X射線閃爍屏襯底的清潔方法，具體步驟包括：用浸有無水乙醇的棉球?qū)σr底進(jìn)行多次擦洗；將擦洗好的襯底放入無水乙醇內(nèi)沸煮；將第一次沸煮好的襯底用離子水沖洗；第二次沸煮：將第一次沖洗好的襯底放入酸溶液內(nèi)沸煮；將第二次沸煮好的襯底用離子水沖洗；將第二次沖洗好的襯底用高純氮?dú)夂娓?。本發(fā)明一種高分辨率X射線閃爍屏襯底的清潔方法通過以酸溶液將襯底徹底腐蝕，從而獲得新鮮的表面，使得其反射光能力更好。
【專利說明】高分辨率X射線閃爍屏襯底的清潔方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及數(shù)字成像領(lǐng)域，尤其涉及一種高分辨率X射線閃爍屏襯底的清潔方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在工業(yè)及醫(yī)療行業(yè)中X射線探測(cè)器被廣泛的應(yīng)用，作為X射線探測(cè)器必不可少的閃爍體部分也越來越重要。對(duì)于一些新型的醫(yī)用閃爍體，制備單晶時(shí)十分困難，發(fā)展多晶陶瓷閃爍體是目前最重要的研究方向，多晶陶瓷閃爍體具有成本低、加工性能好，易于進(jìn)行性能裁剪等優(yōu)點(diǎn)，是目前醫(yī)用閃爍體的首選。
[0003]在新的X射線診斷用探測(cè)器中，人們正在研發(fā)采用有源矩陣的平面探測(cè)器。在這種平面探測(cè)器中，利用閃爍層將探測(cè)到的X射線變換為可見光或熒光，再通過非晶硅光電二極管等光電變換元件將這一熒光變換成信號(hào)電荷，進(jìn)而將信號(hào)電荷轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號(hào)而輸出圖像。
[0004]作為閃爍層常用的材料通常有摻雜鈉的碘化銫(Cs1:Na)、摻雜鉈的碘化銫(Cs1:TL)、碘化鈉(NaI)、硫氧化釓(Gd2O2S)等，然而在襯底的清潔方面往往達(dá)不到要求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種高分辨率X射線閃爍屏襯底的清潔方法。
[0006]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是:高分辨率X射線閃爍屏襯底的清潔方法，具體步驟包括:
擦洗:用浸有無水乙醇的棉球?qū)σr底進(jìn)行多次擦洗；
第一次沸煮:將擦洗好的襯底放入無水乙醇內(nèi)沸煮；
第一次沖洗:將第一次沸煮好的襯底用離子水沖洗；
第二次沸煮:將第一次沖洗好的襯底放入酸溶液內(nèi)沸煮；
第二次沖洗:將第二次沸煮好的襯底用離子水沖洗；
烘干:將第二次沖洗好的襯底用高純氮?dú)夂娓伞?br> [0007]在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述第一次沸煮分為3次進(jìn)行，每次3-5分鐘。
[0008]在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述第二次沸煮中酸溶液的成分為&504和比?05，其中H2SO4 =H3PO5的體積比為3:1。
[0009]在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述第二次沸煮的時(shí)間為5-10分鐘。
[0010]本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明一種高分辨率X射線閃爍屏襯底的清潔方法通過以酸溶液將襯底徹底腐蝕，從而獲得新鮮的表面，使得其反射光能力更好。
【具體實(shí)施方式】
[0011 ] 下面對(duì)本發(fā)明的較佳實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)闡述，以使本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對(duì)本發(fā)明的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。[0012]本發(fā)明實(shí)施例包括:高分辨率X射線閃爍屏襯底的清潔方法，具體步驟包括:
擦洗:用浸有無水乙醇的棉球?qū)σr底進(jìn)行多次擦洗；
第一次沸煮:將擦洗好的襯底放入無水乙醇內(nèi)沸煮；
第一次沖洗:將第一次沸煮好的襯底用離子水沖洗；
第二次沸煮:將第一次沖洗好的襯底放入酸溶液內(nèi)沸煮；
第二次沖洗:將第二次沸煮好的襯底用離子水沖洗；
烘干:將第二次沖洗好的襯底用高純氮?dú)夂娓伞?br> [0013]所述第一次沸煮分為3次進(jìn)行，每次3-5分鐘。
[0014]所述第二次沸煮中酸溶液的成分為H2SO4和H3PO5，其中H2SO4 =H3PO5的體積比為3:
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[0015]在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述第二次沸煮的時(shí)間為5-10分鐘。
[0016]下面對(duì)本發(fā)明的一種高分辨率X射線閃爍屏襯底的清潔方法的工作原理進(jìn)行詳細(xì)介紹。
[0017]清潔時(shí)用浸有無水乙醇的棉球?qū)σr底進(jìn)行多次擦洗，然后將擦洗好的襯底放入無水乙醇內(nèi)沸煮3次，每次3-5分鐘，將沸煮好的襯底用離子水沖洗，再襯底放入H2SO4 =H3PO5的體積比為3:1的酸溶液內(nèi)沸煮5-10分鐘，去出沸煮好的襯底用離子水沖洗，最后用高純氮?dú)鈱⒁r底烘干。
[0018]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明一種高分辨率X射線閃爍屏襯底的清潔方法通過以酸溶液將襯底徹底腐蝕，從而獲得新鮮的表面，使得其反射光能力更好。
[0019]以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的【技術(shù)領(lǐng)域】，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.高分辨率X射線閃爍屏襯底的清潔方法，其特征在于，具體步驟包括: 擦洗:用浸有無水乙醇的棉球?qū)σr底進(jìn)行多次擦洗； 第一次沸煮:將擦洗好的襯底放入無水乙醇內(nèi)沸煮； 第一次沖洗:將第一次沸煮好的襯底用離子水沖洗； 第二次沸煮:將第一次沖洗好的襯底放入酸溶液內(nèi)沸煮； 第二次沖洗:將第二次沸煮好的襯底用離子水沖洗； 烘干:將第二次沖洗好的襯底用高純氮?dú)夂娓伞?br> 2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高分辨率X射線閃爍屏襯底的清潔方法，其特征在于:所述第一次沸煮分為3次進(jìn)行，每次3-5分鐘。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高分辨率X射線閃爍屏襯底的清潔方法，其特征在于:所述第二次沸煮中酸溶液的成分為H2SO4和H3PO5，其中H2SO4 =H3PO5的體積比為3:1。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高分辨率X射線閃爍屏襯底的清潔方法，其特征在于:所述第二次沸煮的時(shí)間為5-10分鐘。
【文檔編號(hào)】B08B7/04GK103817106SQ201310626941
【公開日】2014年5月28日 申請(qǐng)日期:2013年12月2日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月2日
【發(fā)明者】范波 申請(qǐng)人:江蘇龍信電子科技有限公司