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膠盤清洗裝置的制作方法

文檔序號:1339911閱讀:307來源:國知局
專利名稱:膠盤清洗裝置的制作方法
技術領域
膠盤清洗裝置
技術領域
本實用新型涉及清洗設備,尤其涉及ー種可對盛裝膠水的膠盤進行清洗的清洗裝置。
背景技木在LED生產(chǎn)過程中,所使用的固晶膠水利用率很低,一般為30%,大量的報廢膠水殘留在盛裝膠水的膠盤里,給清洗帶來了極大的不便,如果清洗不徹底又會給產(chǎn)品帶來潛在的風險,慣用的清洗方法包括:膠水回收、擦拭、清洗、烘烤,耗時約30分鐘,不僅效率抵下、操作不便而且對銀的回收率很低。

發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的在于有效克服上述技術的不足,提供ー種可盛裝膠水的膠盤進行清洗的清洗裝置,提高了膠盤清洗效率及銀的回收率。本實用新型的技術方案是這樣實現(xiàn)的:一種膠盤清洗裝置,它包括一用以噴射高壓清洗液的高壓噴射裝置,ー用于驅(qū)動膠盤旋轉的旋轉裝置,一 Y型管及一沉降池;其中,所述Y型管由第一水管及第ニ 水管組成,所述第二水管的一端連接第一水管的中部形成Y型結構,另一端與所述沉降池連通;所述第一水管具有ー進水口及一可容納膠盤的出水ロ,所述進水口與所述高壓噴射裝置連通;所述第一水管中靠近進水口的一端內(nèi)設有ー擋板,擋板上設有一通孔。下面對上述技術方案進ー步闡述:所述沉降池的上部設有一回收ロ,所述回收ロ通過一回收管連接至所述高壓噴射裝置。所述擋板設置于所述第一水管的進水口和第一水管與第二水管的連接位置之間。本實用新型的有益效果在于:其一、本實用新型的膠盤清洗裝置,可對膠盤進行全面清洗,具體的,將膠盤固定于旋轉裝置上,井伸至第一水管的出水口中,通過密封組件將膠盤密封在第一水管出水ロ中,高壓噴射裝置將清洗液噴出形成高壓水柱,射向膠盤,使膠盤中的膠水脫落并混入清洗液中,隨清洗液經(jīng)第二水管流入至沉降池中,膠水中的銀沉淀于沉降池池底中,如此,可對沉降后的銀及清洗液進行回收,提高了清洗效率及回收效率;其ニ、在高壓水柱射向膠盤的同時,旋轉裝置驅(qū)動膠盤旋轉,如此,可對膠盤進行全面清洗,保證清洗更加干凈;其三、沉降池上部設置一回收ロ,回收ロ通過回收管與高壓噴射裝置連接,這樣,沉降池中的清洗液可通過回收管進入高壓噴射裝置,供高壓噴射裝置循環(huán)利用。

圖1為本實用新型的結構示意圖;圖中:高壓噴射裝置I ;旋轉裝置2 ;沉降池3 ;第一水管4 ;第二水管5 ;擋板6 ;通孔61 ;回收管7 ;膠盤8。
具體實施方式
以下結合附圖和實施例對本實用新型作進ー步的描述。參照圖1所示,本實用新型的膠盤清洗裝置,包括一高壓噴射裝置1,ー旋轉裝置2,一 Y型管及一沉降池3 ;其中,所述高壓噴射裝置I用于噴射清洗液,使清洗液形成高壓水柱射出后清洗膠盤8 ;所述旋轉裝置2用以驅(qū)動膠盤8旋轉,所述Y型管由第一水管4及第二水管5組成,所述第二水管5的一端連接第一水管4的中部形成Y型結構,另一端與所述沉降池3連通;所述第一水管4具有ー進水口及一可容納膠盤8的出水ロ,所述進水ロ與所述高壓噴射裝置I連通,出水口指向旋轉裝置2,待清洗的膠盤8置于出水口中,高壓噴射裝置I噴射的高壓水柱經(jīng)由第一水管4噴射至膠盤8上。此外,所述第一水管4中靠近進水口的一端內(nèi)設有ー擋板6,擋板6上設有一通孔61,較佳的,所述擋板6設置于所述第一水管4的進水口和第一水管4與第二水管5的連接位置之間,高壓水柱經(jīng)擋板6的通孔61射至膠盤8后反向濺射出的清洗液被擋板6擋住,以利于匯聚后流入第二水管5。進ー步的,所述沉降池3的上部設有一回收ロ,所述回收ロ通過一回收管7連接至所述高壓噴射裝置1,如此,由第二水管5流入沉降池3中的清洗液可通過回收管7進入高壓噴射裝置I,供高壓噴射裝置I循環(huán)利用。具體工作工程中,將膠盤8固定于旋轉裝置2上,井伸至第一水管4的出水口中,通過密封組件將膠盤8密封在第一水管4出水口中,高壓噴射裝置I將清洗液噴出形成高壓水柱,射向膠盤8,同時膠盤8在旋轉裝置2的驅(qū)動下旋轉,使得膠盤8中的膠水脫落并混入清洗液中,隨清洗液經(jīng)第二水管5流入至沉降池3中,膠水中的銀沉淀于沉降池3池底中,如此,可對沉降后的銀及清洗液進行回收,提高了清洗效率及回收效率。以上所描述的僅 為本實用新型的較佳實施例,上述具體實施例不是對本實用新型的限制。在本實用新型的技術思想范疇內(nèi),可以出現(xiàn)各種變形及修改,凡本領域的普通技術人員根據(jù)以上描述所做的潤飾、修改或等同替換,均屬于本實用新型所保護的范圍。
權利要求1.一種膠盤清洗裝置,其特征在于:它包括一用以噴射高壓清洗液的高壓噴射裝置,ー用于驅(qū)動膠盤旋轉的旋轉裝置,一 Y型管及一沉降池;其中,所述Y型管由第一水管及第ニ水管組成,所述第二水管的一端連接第一水管的中部形成Y型結構,另一端與所述沉降池連通;所述第一水管具有ー進水口及一可容納膠盤的出水ロ,所述進水ロ與所述高壓噴射裝置連通;所述第一水管中靠近進水口的一端內(nèi)設有ー擋板,擋板上設有一通孔。
2.根據(jù)權利要求1所述的膠盤清洗裝置,其特征在于:所述沉降池的上部設有一回收ロ,所述回收ロ通過一回收管連接至所述高壓噴射裝置。
3.根據(jù)權利要求1所述的膠盤清洗裝置,其特征在于:所述擋板設置于所述第一水管的進水口和第一水管與第二水管的連接位置之間。
專利摘要本實用新型公開了一種膠盤清洗裝置,它包括一用以噴射高壓清洗液的高壓噴射裝置,一用于驅(qū)動膠盤旋轉的旋轉裝置,一Y型管及一沉降池;其中,所述Y型管由第一水管及第二水管組成,所述第二水管的一端連接第一水管的中部形成Y型結構,另一端與所述沉降池連通;所述第一水管具有一進水口及一可容納膠盤的出水口,所述進水口與所述高壓噴射裝置連通;所述第一水管中靠近進水口的一端內(nèi)設有一擋板,擋板上設有一通孔。其有益效果在于本實用新型的膠盤清洗裝置,利用高壓水柱可對膠盤進行全面清洗,并可對清洗后沉降的銀及清洗液進行回收,提高了清洗效率及回收效率。
文檔編號B08B3/02GK202943045SQ20122062004
公開日2013年5月22日 申請日期2012年11月21日 優(yōu)先權日2012年11月21日
發(fā)明者王建全, 馬婧, 李保霞 申請人:四川柏獅光電技術有限公司
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