專利名稱：線性涂膠噴嘴的清洗裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
線性涂膠噴嘴的清洗裝置技術(shù)領(lǐng)域[0001]本實用新型涉及液晶顯示器制造的線性涂膠技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種線性涂膠噴嘴的清洗裝置。
背景技術(shù)：
[0002]目前，在顯示面板生產(chǎn)過程的光刻膠涂膠工藝中，有線性涂膠和旋轉(zhuǎn)涂膠兩種方式。由于線性涂膠方式與旋轉(zhuǎn)涂膠方式相比速度更快，更有利于提高產(chǎn)能，因而更適合大尺寸玻璃面板的生產(chǎn)。[0003]在涂膠工藝中，對涂膠噴嘴的清洗十分重要。如圖1所示，現(xiàn)有技術(shù)中常采用外形與噴嘴形狀相適應(yīng)的容置件6對線性涂膠噴嘴5進行清洗，該容置件6通過金屬槽7設(shè)置在機械滑道4中。然而這種容置件6的高度有限，其頂部并不能完全接觸到線性涂膠噴嘴 5，因此對線性涂膠噴嘴5的清洗并不徹底；此外長期使用，光刻膠會沉積在容置件6的底部，容置件6與線性涂膠噴嘴5之間的接觸會變得不那么緊密，再次使用該容置件6對線性涂膠噴嘴5進行清洗時，也會導(dǎo)致容置件6不能貼緊線性涂膠噴嘴5，導(dǎo)致對線性涂膠噴嘴 5的清理不徹底，造成線性涂膠噴嘴5的下一次涂膠不均勻，從而引起工藝不良。另一方面由于金屬槽7為固定設(shè)置，不具備彈性，因此光刻膠的殘留也容易使容置件6發(fā)生形變。因此常常需要暫停設(shè)備，人工定期清理噴嘴，降低了生產(chǎn)效率，耗費大量人力。實用新型內(nèi)容[0004](一 )要解決的技術(shù)問題[0005]本實用新型要解決的技術(shù)問題是如何徹底高效的清洗線性涂膠噴嘴，提高生產(chǎn)效率，避免因噴嘴的清理不徹底引起的工藝不良。[0006]( 二 )技術(shù)方案[0007]為了解決上述技術(shù)問題，本實用新型提供了一種線性涂膠噴嘴的清洗裝置，包括[0008]清洗模塊，包括容置件和作為底邊的刮膠模塊，所述清洗模塊的形狀與線性涂膠噴嘴的形狀相適應(yīng)，所述刮膠模塊設(shè)有供膠體流出的通道；[0009]機械滑道，位于所述線性涂膠噴嘴的下方，與所述清洗模塊連接。[0010]在進一步地技術(shù)方案中，所述刮膠模塊包括間隔設(shè)置的若干個刮片，所述通道為若干個所述刮片之間的間隙。[0011]還包括[0012]支架，可滑動的設(shè)置在所述機械滑道上；[0013]兩個彈性部件，其兩端分別抵靠在所述清洗模塊的兩外側(cè)和所述支架兩內(nèi)側(cè)上。[0014]優(yōu)選地，兩個所述彈性部件分別垂直于與其連接的容置件的外側(cè)面。[0015]所述支架呈U型。[0016]各個所述刮片傾斜設(shè)置。[0017]所述機械滑道的長度至少與線性涂膠噴嘴的長度相等。[0018]所述容置件與刮膠模塊一體式成型。[0019]該容置件為一橡膠塊。[0020](三)有益效果[0021]上述技術(shù)方案具有如下優(yōu)點本實用新型實施例提供的清洗裝置，能夠避免光刻膠在清洗裝置上的殘留，進而有效徹底的清理線性涂膠噴嘴上殘留的光刻膠，延長容置件的使用壽命，節(jié)省了人力，降低了成本，避免了因光刻膠清理不徹底引起的工藝不良。


[0022]圖1是現(xiàn)有技術(shù)中線性涂膠噴嘴的清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；[0023]圖2是本實用新型實施例的線性涂膠噴嘴的清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；[0024]圖3是本實用新型實施例的線性涂膠噴嘴的清洗裝置的俯視圖；[0025]圖4是本實用新型實施例的線性涂膠噴嘴的清洗裝置的剖面圖；[0026]圖5是本實用新型實施例的刮膠模塊的結(jié)構(gòu)示意圖。[0027]其中，1 清洗模塊；11 容置件；12 刮膠模塊；2 彈性部件；3 支架；4 機械滑道；5 線性涂膠噴嘴；6 容置件；7 金屬槽。
具體實施方式
[0028]
以下結(jié)合附圖和實施例，對本實用新型的具體實施方式
作進一步詳細描述。以下實施例用于說明本實用新型，但不用來限制本實用新型的范圍。[0029]如圖2、圖3以及圖4所示，本實用新型實施例的線性涂膠噴嘴的清洗裝置包括 清洗模塊1，兩個彈性部件2、支架3和機械滑道4。[0030]其中，清洗模塊1的形狀為上開口面積大于底面積的槽，組成該槽的兩條側(cè)邊分別為兩個容置件11，組成該槽的底邊的是刮膠模塊12。容置件11和刮膠模塊12可以一體式成型。該槽的形狀與線性涂膠噴嘴5的形狀相適應(yīng)。該容置件11由橡膠材質(zhì)形成，該容置件為一橡膠塊。[0031]兩個容置件11的外側(cè)面分別通過兩個彈性部件2連接到支架3上，兩個彈性部件 2的兩端分別抵靠在清洗模塊1的兩外側(cè)和支架3的兩內(nèi)側(cè)；支架3為U型，可滑動的設(shè)置在機械滑道4中。機械滑道4的長度至少應(yīng)該與線性涂膠噴嘴5的長度相等。[0032]本實施例中，該彈性部件2具體為彈簧。彈簧給容置件11的彈性作用力使得容置件11多次使用的情況下也不會產(chǎn)生松動，保證了清洗裝置的使用壽命。該彈簧垂直于容置件11的外側(cè)面，以保證清洗模塊1受力均勻，不會產(chǎn)生晃動，從而保證了清洗模塊1與線性涂膠噴嘴5的緊密結(jié)合。[0033]刮膠模塊12上設(shè)有供光刻膠流出的通道。具體地，刮膠模塊12為一方形框，方形框里設(shè)置有若干個的刮片121，各個刮片121可以平行設(shè)置，各個刮片121之間形成空隙，該空隙即為光刻膠流出的通道。優(yōu)選地，各個刮片121以一定的傾斜角度設(shè)置。所述傾斜角度可以根據(jù)情況設(shè)置，只要能保證光刻膠順利流下即可。[0034]當(dāng)使用本實施例的清洗裝置對噴嘴進行清洗時，移動支架3使其在機械滑道4中滑動，容置件11和刮片121對線性涂膠噴嘴5周圍及頂端的光刻膠進行清理，刮片121刮掉的光刻膠可以通過刮片121之間的間隙排出，清洗模塊1可以在機械滑道4中反復(fù)滑動對線性涂膠噴嘴5進行清洗，直至將光刻膠清理徹底為止。[0035]由以上實施例可以看出，本實用新型實施例提供的清洗裝置，能夠避免光刻膠在清洗裝置上的殘留，進而有效徹底的清理線性涂膠噴嘴上殘留的光刻膠，延長容置件的使用壽命，節(jié)省了人力，降低了成本，避免了因光刻膠清理不徹底引起的工藝不良。[0036]以上所述僅是本實用新型的優(yōu)選實施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實用新型技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進和變型，這些改進和變型也應(yīng)視為本實用新型的保護范圍。
權(quán)利要求1.線性涂膠噴嘴的清洗裝置，其特征在于，包括清洗模塊，包括容置件和作為底邊的刮膠模塊，所述清洗模塊的形狀與線性涂膠噴嘴的形狀相適應(yīng)，所述刮膠模塊設(shè)有供膠體流出的通道；機械滑道，位于所述線性涂膠噴嘴的下方，與所述清洗模塊連接。
2.如權(quán)利要求1所述的線性涂膠噴嘴的清洗裝置，其特征在于，所述刮膠模塊包括間隔設(shè)置的若干個刮片，所述通道為若干個所述刮片之間的間隙。
3.如權(quán)利要求1所述的線性涂膠噴嘴的清洗裝置，其特征在于，還包括 支架，可滑動的設(shè)置在所述機械滑道上；兩個彈性部件，其兩端分別抵靠在所述清洗模塊的兩外側(cè)和所述支架兩內(nèi)側(cè)。
4.如權(quán)利要求3所述的線性涂膠噴嘴的清洗裝置，其特征在于，兩個所述彈性部件分別垂直于與其連接的容置件的外側(cè)面。
5.如權(quán)利要求3所述的線性涂膠噴嘴的清洗裝置，其特征在于，所述支架呈U型。
6.如權(quán)利要求1所述的線性涂膠噴嘴的清洗裝置，其特征在于，各個所述刮片傾斜設(shè)置。
7.如權(quán)利要求1所述的線性涂膠噴嘴的清洗裝置，其特征在于，所述機械滑道的長度至少與線性涂膠噴嘴的長度相等。
8.如權(quán)利要求1所述的線性涂膠噴嘴的清洗裝置，其特征在于，所述容置件與刮膠模塊一體式成型。
9.如權(quán)利要求1所述的線性涂膠噴嘴的清洗裝置，其特征在于，該容置件為一橡膠塊。
專利摘要本實用新型涉及液晶顯示器制造的線性涂膠技術(shù)領(lǐng)域，具體公開了一種線性涂膠噴嘴的清洗裝置，其包括清洗模塊，包括容置件和作為底邊的刮膠模塊，所述清洗模塊的形狀與線性涂膠噴嘴的形狀相適應(yīng)，所述刮膠模塊設(shè)有供膠體流出的通道；機械滑道，位于所述線性涂膠噴嘴的下方，與所述清洗模塊連接。本實用新型實施例提供的清洗裝置，能夠有效徹底的清理線性涂膠噴嘴上殘留的光刻膠，延長容置件的使用壽命，節(jié)省了人力，降低了成本，避免了因光刻膠清理不徹底引起的工藝不良。
文檔編號B08B1/00GK202290497SQ20112028041
公開日2012年7月4日 申請日期2011年8月3日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月3日
發(fā)明者于航, 張鋒, 惠官寶 申請人:京東方科技集團股份有限公司