專利名稱：自動清潔和處理墊系統(tǒng)和方法
技術領域：
本發(fā)明的實施例大體上涉及墊處理組件以及利用該組件的方法。特別地，本發(fā)明 的實施例涉及用于清潔墊的系統(tǒng)和方法。
背景技術：
大多數(shù)工廠依靠墊來提高工作場所的衛(wèi)生狀況并來改善工人的工作環(huán)境。例如， 地板墊可以用于食品行業(yè)、制造以及衛(wèi)生保健設施中以減小腿和下背部勞損、降低由滑移 和疲勞所導致的發(fā)病率、并限制生物和化學污染以及蟲害。用于清潔墊的傳統(tǒng)的設備和技 術需要繁復的手工處置墊，這可能造成工人的背部勞損或其它病癥。另外，傳統(tǒng)的清潔系統(tǒng) 是費時和費能的。由于這些限制，現(xiàn)有技術的清潔設備和技術抑制了墊和幕被正確清潔的 效率，并且在某些情況中，傳統(tǒng)的方法實際上使得工作場所、公眾區(qū)域或居室的衛(wèi)生狀況降 級。因而，有利的是提供用于清潔墊的系統(tǒng)和方法，其通過減少用于清洗和干燥墊的 化學品、水和能量的量而更加節(jié)能。墊清潔系統(tǒng)同樣有利地通過人體工程學設計以及通過 減少操作系統(tǒng)的工人數(shù)量而提高工人安全性。此外，有利的是，墊清潔系統(tǒng)通過減少磨損并 提供品質控制而延長墊的產(chǎn)品壽命。墊上的磨損和裂口可以通過減少墊的處置和/或通過 在清潔墊時降低水或流體壓力而被減少。盡管多種系統(tǒng)和方法已經(jīng)被制造并被用于清潔墊，但是相信針對本發(fā)明的現(xiàn)有技 術并沒有開放或采用權利要求書中記載的本發(fā)明技術方案。權利要求書全文。


盡管說明書總結了具體指出的并清楚保護本發(fā)明的權利要求書，但是相信本說明 書將通過以下結合附圖提出的特定實施例的說明而更好地得到理解。在附圖中，同樣的附 圖標記體現(xiàn)了同樣的元件。圖1示出了示意性實施例的墊清潔系統(tǒng)。圖2示出了圖1的墊清潔系統(tǒng)的裝載和振動模塊。圖3示出了氣浮工作臺。圖4示出了圖3的氣浮工作臺的俯視圖。圖5示出了與臟的墊接合的擊打輥組件。圖6示出了擊打輥組件的透視圖。圖7示出了擊打輥的透視圖。圖8示出了擊打輥的前視圖。
圖9示出了擊打輥的側視圖。圖10示出了擊打輥組件的前視圖。圖11示出了擊打輥組件的側視圖。圖12示出了支承板的前視圖。圖13示出了軸的側視圖。圖14示出了襯套的透視圖。圖15示出了襯套的側視圖。圖16示出了襯套的前視圖。圖17示出了圖1的墊清潔系統(tǒng)的清洗模塊。圖18示出了示意性實施例的清洗模塊的透視圖。圖19示出了圖1的墊清潔系統(tǒng)的干燥模塊。圖20示出了真空噴嘴的透視圖。圖21示出了圖20的真空噴嘴組的側視圖。圖22示出了圖20的沿線A-A的真空噴嘴組的剖視圖。圖23示出了圖20的真空噴嘴組中的安裝孔。圖M示出了圖22的真空噴嘴組中的凹槽和安裝孔。圖25示出了圖22的真空噴嘴組的角部。圖沈示出了真空噴嘴管座以及與線帶輸送機接合的兩個噴嘴組。圖27示出了帶支承件的前視圖。圖28示出了帶支承件的側視圖。圖四示出了根據(jù)一個實施例的熱空氣干燥機。圖30示出了圖1的墊清潔系統(tǒng)的排放模塊。圖31示出了示意性實施例的雙作用輸送機。圖32示出了排放設備。圖33示出了根據(jù)另一實施例的墊清潔系統(tǒng)。圖34示出了圖33的墊清潔系統(tǒng)的裝載、振動、清洗和干燥模塊。圖35示出了圖33的墊清潔系統(tǒng)的干燥和排放模塊。圖36示出了根據(jù)另一實施例的墊清潔系統(tǒng)。圖37示出了清潔墊的方法的流程圖。
具體實施例方式本申請的特定實施例的以下說明并不用于限制本發(fā)明的范圍。通過以下說明本領 域技術人員清楚本申請的其它實例、特點、方面、實施例和優(yōu)點，所述說明例如說明了實現(xiàn) 本發(fā)明的最佳的方法。正如所述，在不脫離本發(fā)明范圍的前提下，本發(fā)明適合于其它不同的 和顯然的方面。相應地，附圖和說明書被認為本質上是示意性的而非限制性的。在此所述的實例涉及毯或墊或其它需要周期性維護的大體上平坦的物品的清潔， 并且更具體地講涉及用于工業(yè)墊清潔的系統(tǒng)和方法。更具體地講，本說明書公開了用于清 潔和加工墊的系統(tǒng)和方法。正如在此所用，術語“墊”將指的是用于在所公開的清潔系統(tǒng)中 使用的任何平坦的物品，并且由于所提出的方法，包括但并不限于工業(yè)地板墊、毯或其它平坦的物品。另外，正如在此所用，術語“污垢”指的是任何在由系統(tǒng)100所清潔的墊上或中 出現(xiàn)的積屑，包括但不限于積屑、灰塵或任何其它微粒或不期望的物質。如圖1所示，墊清 潔系統(tǒng)100的一個實施例包括一個或多個模塊，所述模塊包括但不限于裝載模塊102、振動 模塊104、清洗模塊106、干燥模塊108和排放模塊110。每個被清潔的墊被引導經(jīng)過每個模 塊。盡管該實施例公開了特定次序的模塊，但是應該清楚的是墊可以被引導經(jīng)過任何合適 次序的模塊。例如，振動模塊104可以在清洗模塊106之后。構成墊清潔系統(tǒng)100的模塊 將在以下進一步說明。I.裝載模塊圖2示出了如圖1所示的系統(tǒng)100的裝載模塊102。裝載模塊102包括氣浮工作 臺112，墊可以安放在所述氣浮工作臺上。正如本領域技術人員所清楚的，任何其它合適的 工作臺、輸送機或替代物可以被用于將墊輸送經(jīng)過系統(tǒng)100。例如，工作臺112可以是重力 輸送機，其中所述重力輸送機利用重力將墊輸送經(jīng)過模塊。工作臺112可以具有用于裝載 墊的第一端部114以及與下一個模塊接合的第二端部116，其中所述下一個模塊在該實施 例中為振動模塊104。如圖3和4所示，工作臺112還可以包括多個有助于墊裝載和清潔的 結構。例如，工作臺112可以包括一個或多個加載輥118，其中所述加載輥可以旋轉以有助 于使用者將墊裝載到系統(tǒng)100中。在墊被輸送到工作臺112上時，加載輥118還可以有助 于使得墊平直和/或平坦。盡管加載輥118在該實例中在工作臺112的第一端部114附近 被定位，但是應該清楚的是輥118可以沿工作臺112被定位在任何其它合適的部位。除了 加載輥118以外，工作臺112還可以包括一個或多個邊緣引導件120，其中所述邊緣引導件 沿工作臺112的邊緣設置，以有助于沿工作臺112引導所裝載的墊。任何合適的墊可以被裝載到系統(tǒng)100中?？梢杂上到y(tǒng)100清潔的墊的尺寸取決于 系統(tǒng)100的尺寸。例如，在該示意性實施例中，具有最大五英尺寬度的任何墊可以被輸送到 系統(tǒng)100中。更大尺寸的墊可以被裝載到其它規(guī)格的系統(tǒng)100中。墊可以包括至少兩個表 面，下側和絨側(pile side)。絨側可以是在墊使用過程中墊的大體上被暴露的那側。墊可 以以本領域技術人員所知的任何合適的方式被輸送到系統(tǒng)100中，并且更具體地講被輸送 到裝載模塊102中。例如，為了更好地清潔墊的絨側，墊可以以絨側朝向工作臺112向下定 位的方式被裝載。如該示意性實例所示，氣浮工作臺112還可以包括多個開口 122，其中空氣經(jīng)過所 述開口可以被吹送，以容易地并人體工程學地將墊輸送經(jīng)過模塊102并進入到下一個模塊 中。在另一個實例中，工作臺112的表面的至少一部分還可以包括柵格、濾網(wǎng)或重力輸送 機，其中所述重力輸送機限定多個開口，污垢可以經(jīng)過所述開口掉落。在這種情況中，在墊 被裝載到工作臺112上時，在裝載過程中從墊擺脫的任何污垢可以經(jīng)過開口 122掉落，以由 收集溝槽1 收集，其中所述收集溝槽可以位于工作臺112下方。除了在墊被裝載時收集 離開墊的任何污垢以外，收集溝槽IM還可以收集由鼓風機1 從所裝載的墊吹落的任何 污垢，其中所述鼓風機可以位于工作臺112下方。鼓風機1 可以被設置成從工作臺112 的下方吹送空氣并經(jīng)過開口 122以去除所裝載的墊上的污垢。鼓風機1 還可以與氣浮工 作臺112 —起使用，以有助于將墊輸送至系統(tǒng)中的下一個模塊。除了將墊裝載并定位到工作臺112上以外，裝載模塊102還可以包括在裝載過程 之前或過程中進行的品質控制檢查。任何合適的品質控制檢查可以被采用。例如，品質控制檢查可以包括檢測墊的裂口、勞損、磨損點或任何其它與品質有關的創(chuàng)口。檢查可以包括 檢查整個墊的兩側?？蛇x地，檢查可以僅僅包括檢查墊的絨側或下側。進一步，墊的絨側的 檢查可以在將墊絨側向下翻并輸送墊到工作臺112上之前進行?？梢栽趯|以絨側向下方 式裝載到氣浮工作臺112上之后檢查墊的下側部分。而且，品質控制檢查還可以包括墊上 的勞損或污漬的預處理和/或將受損害的墊從系統(tǒng)100去除。當然，上述裝載模塊102僅僅是一個實例。任何其它合適類型的裝載模塊102和 相關的部件也可以采用。僅僅例如，裝載模塊102還可以包括激光瞄準具，其被用于檢測需 要在進一步輸送經(jīng)過系統(tǒng)100之前被拉直的波狀的或褶皺的墊。可選地，裝載模塊102可 以具有任何其它合適的部件、結構、構造、功能、操作性等。本領域技術人員在了解了這里的 技術啟示之后將清楚裝載模塊102和相關的部件的其它合適的改型。II.振動模塊除了裝載模塊102以外，該示意性實施例的墊清潔系統(tǒng)100還包括如圖2所示的 振動模塊104。例如，在利用裝載模塊102將墊輸送到系統(tǒng)100中之后，并且優(yōu)選在已經(jīng)實 現(xiàn)品質控制檢查之后，墊可以在工作臺112的第二端部116處被引至振動模塊104。如圖5 所示，振動模塊104可以包括輸送機128以及至少一個擊打輥130。在墊被輸送經(jīng)過裝載 模塊102之后，墊可以被定位到輸送機1 上。輸送機1 可以被用于將墊輸送經(jīng)過系統(tǒng) 100。在操作過程中，如圖5所示，至少一個擊打輥130和輸送機1 接合墊從而去除任 何在墊上或中出現(xiàn)的污垢132。例如，擊打輥130可以在墊由輸送機1 移動的同時或隨后 接觸墊。如圖5所示，擊打輥130可以接觸墊的下側或可選地接觸墊的絨側。使得擊打輥 130接觸墊可以使得污垢從墊疏松并去除。輸送機1 不僅可以用于輸送墊經(jīng)過系統(tǒng)100， 還可以通過輸送機1 上的開口，允許收集在由擊打輥130所造成的振動作用的過程中從 墊被疏松或被去除的任何污垢。應該清楚的是，模塊104的任何合適的振動頻率可以被用 于將污垢從墊抖出或去除。在一個實施例中，振動頻率至少是60Hz，并可以調至120Hz。優(yōu) 選地，頻率范圍從70至100Hz。模塊104的最佳的振動頻率可以由在振動模塊104中所包 含的擊打輥130的數(shù)量以及模塊104的相應的轉速決定。圖5和6示出了示意性擊打輥組 件134，其可以包括至少一個擊打輥130以及各種不同的其它部件。擊打輥130的一個實例在圖7至9中示出。擊打輥130可以包括一對密封的高速 軸承160以及大體上圓柱形的軸136，其中所述軸限定了中央容腔或孔138。圖10和11示 出了包括多個擊打輥130的擊打輥組件134。單個擊打輥130或組件134可以在振動模塊 104中被使用，以使得灰塵從墊疏松和/或去除。除了擊打輥130以外，擊打輥組件134還 可以包括支承板140以及軸142。支承板140可以是具有合適厚度的大體圓形板，其如圖 12所示具有由一個或多個位于周邊的孔146包圍的中央容腔144。如圖13所示具有大體 上圓柱形形狀的軸142可以被定位穿過支承板140中的中央容腔144。具有第一端部148 和第二端部150的擊打輥130可以以端至端的方式安置在兩個支承板140之間并通過以下 措施被固定，即將一個或多個緊固件例如銷釘安置穿過支承板140中的一個或多個位于周 邊的孔146。另外，擊打輥組件134可以包括如圖14至16所示那樣的襯套158。這種襯套158 可以被定位穿過支承板140的中央容腔144，以有助于軸142的定位。襯套158可以被定位穿過在組件134中所包含的每個支承板140。在這種情況中，擊打輥組件134可以被組裝具有多個擊打輥130，其中所述多個擊 打輥130位于多個支承板140之間，其中所述多個支承板通過中央軸142被固定在一起，其 中所述中央軸延伸穿過支承板140中的容腔144。擊打輥組件134可以包括任何數(shù)量的擊 打輥130和支承板140。例如，如圖10和11所示，組件134可以包括四個支承板140以及 總共二十四個擊打輥130。組件134內的二十四個擊打輥130可以被劃分成三組152、巧4 和156，每組八個擊打輥，其中八個擊打輥130在軸142周圍并在任何兩個支承板140之間 被定位。第一組152的八個擊打輥130在圖10中示出。正如本領域技術人員所理解的那 樣，擊打輥組件134可以包括任何數(shù)量的擊打輥130和支承板140。僅僅例如，圖10和11 示出了包括二十四個擊打輥130和四個支承板140的組件134。另外，振動模塊104可以包 括任何數(shù)量的擊打輥組件134。在操作過程中，擊打輥組件134可以沿輸送機1 脈動和/或旋轉，以去除或疏松 墊上的污垢。擊打輥組件134的最佳脈動深度可以由在擊打輥組件134內所包含的擊打輥 130的數(shù)量決定。例如，脈動深度可以平均為0. 100英寸，并且脈動深度可以取決于由系統(tǒng) 所清潔的墊而調整。擊打輥130和/或擊打輥組件134可以接觸輸送機1 上的墊?？蛇x 地，擊打輥130和/或擊打輥組件134可以接觸輸送機128的下側。振動模塊104還可以包括用于收集從墊抖落或松掉的污垢的設備。任何合適的設 備可以被使用并以任何合適的方式被定位。例如，一盤可以與擊打輥130對正地在輸送機 128下方被定位。盤可以收集任何由于輸送機128的運動和/或由于與擊打輥130的接觸 而從墊被去除的污垢。進一步，污垢收集器可以在振動模塊104下方并沿著振動模塊的長 度被定位。當然，如上所述的振動模塊104僅僅是一個實例。任何其它合適類型的振動模塊 104和相關的部件可以被使用。僅僅例如，振動模塊104還可以包括用于將污垢從系統(tǒng)100 輸出的真空裝置?？蛇x地，振動模塊104可以具有任何其它合適的部件、結構、構造、功能、 操作性等。本領域技術人員在了解了這里的技術啟示之后將清楚振動模塊104和相關的部 件的其它合適的改型。III.清洗模塊在該實施例中，墊清潔系統(tǒng)100還可以包括如圖17和18所示的清洗模塊106。例 如，在墊在輸送機1 上經(jīng)過振動模塊104之后，墊可以接著輸送至清洗模塊106。清洗模 塊106可以包括輸送機170，其中所述輸送機170可以與振動模塊104的輸送機1 相同或 不同。此外，清洗模塊106可以包括一個或多個用于清洗和/或沖洗墊的裝置。一個用于清洗墊的示意性過程包括首先利用高容量、低壓噴嘴采用化學基洗液清 洗墊，以進一步清潔墊并去除任何殘留的不期望的物質。有利地，因為大量的污垢可以在振 動模塊104中被去除，所以與現(xiàn)有技術的清潔過程相比需要相對少量的化學洗液。此外，因 為墊已經(jīng)在裝載和振動模塊102、104中被部分地清潔，所以可以采用低壓清洗，其減小了 所清潔的墊的磨損量。墊優(yōu)選還可以利用高容量、低壓清水沖洗被沖洗。盡管低壓清洗被 公開，但是較高的壓力可以在說明書的范圍內使用，正如本領域技術人員所知的那樣。水在 清洗模塊106中可以被再次使用并被回收。再次使用的水可以以任何合適的方式被收集。 回收的水可以在其再次使用之前被凈化。另外，在清洗和沖洗墊之前，清洗模塊106可以包括吹風，其中，在清洗和沖洗之后仍殘留的過多的水或化學劑可以利用鼓風機從墊吹離。除 了水以外，其它試劑可以被用于清潔和/或洗凈墊，包括但不限于洗滌劑、抗靜電劑、抗應 變劑、除臭劑、芳香劑等。應該清楚的是，清洗和沖洗的溫度在模塊106內可以被改變。例如，因為該系統(tǒng) 100涉及將墊輸送經(jīng)過振動模塊104，在那里，污垢在將墊輸送經(jīng)過清洗模塊106之前從墊 被去除，所以較低溫度的清洗和/或沖洗可以高效清潔墊。此外，本領域技術人員將清楚墊 的每側或兩側可以在清洗模塊106內被清洗和/或被沖洗。另外，清洗模塊106可以包括 位于輸送機170的一個端部上的防翻輥條，以防止或避免墊翻轉。當然，上述清洗模塊106僅僅是一個示例。任何其它合適類型的清洗模塊106和 相關的部件可以采用。僅僅例如，清洗模塊106可以包括高容量、低壓力吹風裝置，因而空 氣在墊周圍被吹動，以去除殘留在墊上的任何化學洗液和/或水?？蛇x地或另外，干燥模塊 108可以包括該吹風階段。清洗模塊106可以具有任何其它合適的部件、結構、構造、功能、 操作性等。本領域技術人員在了解了這里的技術啟示之后將清楚清洗模塊106和相關的部 件的其它合適的改型。IV.干燥模塊除了裝載模塊102、振動模塊104和清洗模塊106以外，墊清潔系統(tǒng)100的該實例 還可以包括干燥模塊108。例如，在墊被輸送經(jīng)過清洗模塊106之后，所述墊可以運送至干 燥模塊108，以便被干燥。如圖19所示，干燥模塊108也可以包括輸送機180、振動擊打器 182、真空裝置184和干燥機186。干燥模塊108可以單獨地或以任何適當組合的方式包括這 些結構中的任何一個。例如，干燥模塊108可以僅僅包括振動擊打器182和真空裝置184。 輸送機180可以與振動模塊104的輸送機1 是類似的或相同的。在干燥模塊108的過程 中，墊可以碰撞振動擊打器182，其中所述振動擊打器接觸墊，以將在墊上自清洗模塊106 殘留的任何化學洗液和/或水洗滌劑振離。振動擊打器182可以與振動模塊104中所述的 擊打輥130或擊打輥組件134相同。振動擊打器182可以接觸輸送機180上的墊或者振動 擊打器可以接觸輸送機180的下側。模塊108可以以設定的頻率振動，以擠推墊并將自清 洗模塊106殘留在墊上或內的任何化學洗液和/或水洗滌劑抖落。任何合適的振動頻率可 以被采用。在一個實施例中，振動頻率至少是60Hz，并且可以調整至120Hz。優(yōu)選地，頻率 的范圍從70至IOOHz。真空裝置184也可以用于在清洗模塊106之后干燥墊，其中所述墊可以運送經(jīng)過 所述真空裝置。這種真空裝置184例如可以是雙區(qū)域真空裝置。另外，在一個實施例中，真 空裝置184可以包括噴嘴組188、帶支承件202以及噴嘴管密封件190。如圖19和四所 示，真空裝置184還可以包括通道和管183、濕旋風分離器185和渦輪式風扇187。如圖20 至22所示，噴嘴組188可以包括具有合適厚度的大體上矩形的板，沿該板的寬度具有凹槽 192。噴嘴組188可以由任何合適的材料制成，例如超高分子量塑料。另外，圖21和23示出 了噴嘴組188可以包括任何數(shù)量的埋頭的和槽形的安裝孔194。如圖M所示，安裝孔194 可以不具有恒定的寬度，而所述安裝孔透過噴嘴組188的大體矩形的板從第一表面196延 伸至第二表面198。而且，噴嘴組188可以包括板的邊緣上的圓角的邊緣200，如圖25所示。 圖26示出了真空裝置184的噴嘴管密封件190可以位于兩個噴嘴組188之間，而線帶輸送 器206在它們之間定位。在靜真空壓力由噴嘴組188中的氣流平衡時，可以實現(xiàn)真空干燥。例如，在靜真空壓力最小是5英寸Hg并且由每個噴嘴寬度英寸最小20CFM的氣流平衡時， 通過噴嘴管密封件190實現(xiàn)真空干燥的效率。此外，帶支承件202可以位于兩個噴嘴組188之間，如圖沈所示。帶支承件202可 以具有如圖27和28所示大體上T形的形狀，彎曲的切口 204位于帶支承件202的表面中， 以支承線帶輸送器206。帶支承件202的彎曲的表面204還可以提供真空條件下的彎曲的 輸送帶路徑。該彎曲的路徑可以開向墊的絨側或下側，以提高真空效率，除此之外還為輸送 帶206提供真空條件下的支承。噴嘴管密封件190被設置成通過旋轉線輸送帶206和噴嘴組188并在它們上方密 封而允許任何寬度的墊的恒定的真空壓力密封。該旋轉密封可以允許墊或任何平坦的物品 在任何寬度的墊上以恒定的真空吸力被真空吸氣。此外，旋轉密封由旋轉和可忽略的磨損 而提供更長的使用壽命。噴嘴組188還可以為噴嘴管密封件190提供匹配密封表面。噴嘴 組188可以精確控制真空氣流以及空氣速度。在墊通過線帶輸送器206與噴嘴管密封件 190之間時，真空氣流可以去除大量的水分。該水分可以通過噴嘴通道和管183被吸出，然 后水分通過濕旋風分離器185被分離，如圖19所示。分離的水分還可以被收集并被排出或 者被重新使用，并且干燥氣流可以繼續(xù)經(jīng)過渦輪式風扇187。除了真空裝置184以外，干燥模塊108還可以包括一個或多個其它干燥機186。通 常的干燥機186可以具有多個部件，包括但不限于渦輪、水分分離機、清洗罐和噴嘴。正如 本領域技術人員所清楚的那樣，任何合適的干燥機或干燥方法可以在干燥模塊108內被使 用。例如，干燥機186可以包括如下一種或多種冷空氣干燥機、高容量、低壓干燥機、加熱 式低速干燥機、以及熱空氣干燥機。在優(yōu)選實施例中，墊可以在干燥模塊108中遇到以下的 干燥機構冷空氣吹風干燥機、振動擊打器、熱空氣干燥機以及冷卻式干燥機。熱空氣干燥 機208的實例在圖四中示出。熱空氣干燥機208可以包括多個部件，包括但不限于氣體吸 收裝置(gas train) 210、熱耦裝置(thermocouple) 212以及滑動減振器214。熱空氣干燥 機208可以以任何合適的功率運行，但是優(yōu)選地以IMMBTU運行。另外，干燥機186和/或 208可以以任何合適的溫度運行。例如，干燥機186可以在最大427° F運行。與在此所述的其它模塊一樣，干燥模塊108內的部件和方法可以以任何本領域技 術人員所清楚的合適的次序被采用。例如，進入干燥模塊108的墊可以在沿輸送機108行進 之前就遇到振動擊打器182。在另一個實例中，干燥模塊108可以包括去除褶皺的展開輥， 其可以在真空干燥裝置之前與墊接合，以使得墊平坦，從而提高干燥效率。另外，干燥模塊 108的各部件和方法像所有其它模塊那樣可以單獨地被采用或者與一個或多個其它部件、 方法或模塊結合地被采用。當然，上述干燥模塊108僅僅是一個示例。任何其它合適類型 的干燥模塊108和相關的部件可以被采用。干燥模塊108可以包括任何其它合適的部件、 結構、構造、功能、操作性等。本領域技術人員在了解了這里的技術啟示之后將清楚干燥模 塊108和相關的部件的其它合適的改型。V.排放模塊在墊在干燥模塊108內已經(jīng)被干燥之后，墊可以從干燥機186輸出并從輸送機180 被卸載。墊清潔系統(tǒng)100所包括的第五個模塊是排放模塊110。例如，如圖30所示，在墊在 干燥模塊108內從干燥機186輸出并且從輸送機180被卸載之后，墊可以被輸送到排放模 塊110內的工作臺220上。工作臺220可以振動并被用于搖擺附著在工作臺220上的墊以便輸送和/或對正墊?？蛇x地，圖31和31 (a)示出了雙作用式輸送機222，墊在所述排放模 塊110中可以被輸送到所述雙作用式輸送機上。雙作用式輸送機222可以使用自由旋轉的 輥223或振動輥被驅動。自由旋轉的輥或振動輥的雙作用方式可以允許墊以干燥機輸送機 速度從干燥機186被排出并然后以不同的速度轉移至排放模塊110。排放模塊110還可以包括自動卷繞排放。自動卷繞排放可以借助于自動卷繞排放 設備2M實現(xiàn)，如圖32所示。在墊經(jīng)過排放模塊110時，這種排放設備2M可以使得墊分類 并卷繞。這種自動卷繞系統(tǒng)可以減少操作系統(tǒng)100所需的人數(shù)。排放設備2M還可以根據(jù) 本領域技術人員所知的任何合適的因素來進行歸類。例如，設備2M可以根據(jù)尺寸、重量、 材料類型或其它因素來使得墊分類。在排放之后，墊可以被安置在墊箱226內?？蛇x地，系 統(tǒng)100可以包括手工歸類。這種雙作用式輸送機222或振動工作臺220可以允許品質控制檢查和手工分類。 正如裝載模塊102中的可選的品質控制檢查那樣，任何合適的品質控制檢查可以在排放模 塊110的過程中被采用。例如，品質控制檢查可以包括檢測墊的裂口、扭曲、磨損點或任何 與品質相關的項目。檢查可以包括檢查整個墊的兩側?？蛇x地，檢查可以僅僅包括檢查墊 的絨側或下側。而且，品質控制檢查還可以包括處理墊上的勞損或瑕疵和/或從系統(tǒng)100 去除受損害的墊。當然，上述排放模塊110僅僅是一個實例。任何其它類型的排放模塊110和相關的 部件可以被使用。僅僅例如，排放模塊110可以不包括自動卷繞排放。與在此所述的其它 模塊部件一樣，排放模塊2M僅僅是可選的，并且可以按照期望被改型、替代、補充或省略。 排放模塊110可以具有任何其它合適的部件、結構、構造、功能、操作性等。本領域技術人員 在了解了這里的技術啟示之后將清楚排放模塊110和相關的部件的其它合適的改型。此外，上述系統(tǒng)100僅僅是一個墊清潔系統(tǒng)的實例。任何其它類型的模塊和相關 的部件可以被使用。僅僅例如，上述模塊可以按照期望被改型、替代、補充或省略。例如，系 統(tǒng)100可以包括位于所有移動部件上的附加的安全結構，例如安全互鎖裝置、警衛(wèi)裝置和/ 或緊急停機裝置(e-stop)。系統(tǒng)100可以具有任何其它合適的部件、結構、構造、功能、操作 性等。本領域技術人員在了解了這里的技術啟示之后將清楚系統(tǒng)100和相關的部件的其它 合適的改型。在上述實施例中，附圖示出了各個模塊，其中在給定的圖中，墊經(jīng)過各模塊的運動 是從左至右的。例如，輸送機在圖30中大體上從左至右運送。這種方向絕對不是有意的， 并且不應該限制本發(fā)明的實踐。圖33至35示出了墊清潔系統(tǒng)300的具體實施例。該系統(tǒng)同樣包括裝載模塊302、 振動模塊304、清洗模塊306、干燥模塊308和排放模塊310。清洗模塊306可以包括多種不 同類型的清洗。例如，清洗模塊306包括高容量、低壓清洗312 ；高容量、低壓沖洗314 ；自 由沖洗316和高容量、低壓吹風干燥，其中，空氣在墊周圍吹送，以去除殘留在墊上的過多 的水或化學洗液。墊的清洗可以使用化學基處理劑來實現(xiàn)，而墊的沖洗可以使用水來實現(xiàn)。 干燥模塊308還包括多個子部件，包括但不限于振動干燥機320，其中所述振動干燥機包括 振動擊打器，其推擠所述墊，以去除殘留的水或化學洗液。真空干燥機322與熱空氣干燥機 3M可以被包括作為干燥模塊308的一部分。另外，排放模塊310可以包括雙作用式輸送機 326和排放設備328，以便在墊離開系統(tǒng)300時自由地卷起墊。
在上述實施例中，附圖示出了各模塊，其中在給定的圖中，墊經(jīng)過各模塊的運動是 從右至左的。例如，輸送機在圖34中大體上從右至左運送。這種方向絕對不是有意的，并 且不應該限制本發(fā)明的實踐。當然，上述系統(tǒng)300僅僅是墊清潔系統(tǒng)的一個實例。任何其它合適類型的模塊和 相關的部件可以被使用。任何其它類型的模塊和相關的部件可以被使用。僅僅例如，上述 模塊可以按照期望被改型、替代、補充或省略。系統(tǒng)300可以包括任何其它合適的部件、結 構、構造、功能、操作性等。本領域技術人員在了解了這里的技術啟示之后將清楚系統(tǒng)300 和相關的部件的其它合適的改型。圖36示出了用于清潔墊的系統(tǒng)400的另一個具體實施例。在如圖36所示的實施 例中，系統(tǒng)400包括裝載模塊402、振動模塊404、清洗模塊406、干燥模塊408和排放模塊 410。在裝載模塊420中，墊可以首先被裝載到重力輥工作臺412上，其中所述重力輥工作 臺采用重力以將墊輸送到系統(tǒng)400中。墊以絨側向下的方式被裝載。品質控制檢查可以在 墊上進行，這是在電由輸送機414輸送至下一個模塊之前完成的。如圖36所示，墊在離開裝載模塊之后移動至振動模塊404，其中所述振動模塊包 括兩個振動輥416。每個振動輥416推擠或敲打墊，以使得污垢從墊被去除。這種污垢掉入 位于振動模塊404下方的污垢盤418中。除了污垢盤418以外，鼓風機和真空裝置(未示 出)也可以位于振動模塊404下方，以收集和處置不期望的污垢。在離開振動模塊404之后，墊輸送至清洗模塊406，其中所述清洗模塊包括多個清 洗和/或沖洗。如圖36所示，清洗模塊406包括兩個沖洗循環(huán)420、接著第一清洗422和 第二清洗424、兩個沖洗循環(huán)426。墊可以使用回收的水被清洗。僅僅在第一清洗422過程 中，使用任何類型的化學洗液。在第二清洗4M過程中，沒有使用化學洗液。在清洗完成之 后，墊被再次沖洗兩次426。在沖洗420、似6的過程中，多個高容量、低壓空氣噴嘴可以向墊 噴水以將污垢從墊去除。在清洗模塊406之后，墊進入干燥模塊408中。干燥模塊408可以包括鼓風干燥 機4 和干燥真空裝置430。墊首先被暴露至兩個鼓風干燥機428。在使用鼓風干燥機428 干燥墊之后，干燥真空裝置430可以被應用于墊。在離開干燥模塊408之后，墊可以輸送到 輸送機414上，從而在排放模塊410的過程中按照需要被分類或被處理。當然，上述系統(tǒng)400僅僅是墊清潔系統(tǒng)的一個實例。任何其它合適類型的模塊和 相關的部件可以被使用。任何其它類型的模塊和相關的部件可以被使用。僅僅例如，上述 模塊可以按照期望被改型、替代、補充或省略。系統(tǒng)400可以包括任何其它合適的部件、結 構、構造、功能、操作性等。本領域技術人員在了解了這里的技術啟示之后將清楚系統(tǒng)400 和相關的部件的其它合適的改型。清潔墊的方法圖37示出了清潔墊的方法500。涉及墊清潔系統(tǒng)的不同實施例100、300、400的 上述公開內容如果需要的話全文結合在此作為參考。方法500包括多個步驟，每個步驟可 以單獨地進行或者與任何其它步驟結合地進行。如圖37所示，清潔墊的一個方法500包 括裝載步驟502、振動步驟504、清洗步驟506、干燥步驟508和排放步驟510。在裝載步驟 502的過程中，使用者將墊輸送到系統(tǒng)中和工作臺上，其中所述工作臺例如可以是氣浮式工 作臺或重力輥工作臺。可選地，使用者可以將墊輸送到輸送機上。在裝載步驟502的過程中，墊可以由使用者或加載輥或邊緣弓I導件等被旋轉或拉直。使用者還可以在將墊輸送到 工作臺或輸送機上的之前、過程中或之后進行墊的品質控制檢查。任何合適的品質控制檢 查可以被采用。例如，品質控制檢查可以包括檢測墊的裂口、勞損、瑕疵或任何與品質相關 的項目。檢查可以包括檢查整個墊的兩側?？蛇x地，檢查可以僅僅包括檢查墊的絨側或下 側。甚至進一步，可以在將墊以絨側向下的方式翻轉并將墊輸送到工作臺或輸送機上之前 檢查墊的絨側。在將墊以絨側向下的方式裝載到工作臺或輸送機上之后，可以檢查墊的下 側部分。而且，品質控制檢查還可以包括墊上的勞損或瑕疵的預處理和/或從系統(tǒng)取出受 到損害的墊。在輸送經(jīng)過裝載步驟502之后，墊可以輸送經(jīng)過振動步驟504。例如，墊可以從氣 浮式工作臺或重力輥工作臺被運輸并被定位到輸送機上。在那里，墊可以由于輸送機的運 動而被抖動或被推擠。這可以使得污垢從墊被疏松或被去除。在振動步驟504的過程中， 墊也可以被輸送成與至少一個擊打輥組件接觸。與擊打輥組件的接觸也可以使得位于墊上 或內的任何污垢被疏松或被去除。疏松的和/或被去除的污垢可以被收集。例如，污垢收 集盤可以位于輸送機下方，以收集在振動步驟504的過程中從墊掉落的污垢。真空裝置或 等同的裝置也可以位于輸送機附近，以收集來自墊的污垢。在振動步驟504的過程中污垢從墊被疏松并被收集之后，墊可以輸送經(jīng)過清洗步 驟506。在那里，墊可以在輸送機上繼續(xù)運行。在清洗步驟504的過程中，墊可以經(jīng)歷一次 或多次清洗和/或沖洗。例如，墊可以首先使用高容量、低壓噴嘴借助于化學基處理劑被清 洗。在一次或多次化學清洗之后，墊可以使用水被沖洗一次或多次。水可以在清洗步驟506 中被重新使用和回收。重新使用的水可以以任何合適的方式被收集。回收的水可以在其進 一步使用之前被凈化?？蛇x地，墊可以在其被清洗之前被沖洗一次或多次。另外，在清洗和 沖洗墊之后，清洗步驟506可以包括將空氣或其它氣體吹送到墊上方和周圍，以去除在墊 上殘留的水或化學基處理劑。在墊在清洗步驟506中被清洗并被沖洗之后，墊可以輸送經(jīng)過干燥步驟508。該步 驟可以包括多個子步驟，包括但不限于使用輸送機和/或擊打器使得墊振動、使得墊經(jīng)過 真空裝置、并且使得墊經(jīng)過一個或多個干燥機。真空裝置可以獨立于干燥機或者是干燥機 的一部分，例如真空干燥機。在干燥步驟508中可以采用的其它干燥機包括但不限于冷空 氣干燥機；高容量、低壓干燥機；加熱式低速干燥機以及熱空氣干燥機。墊可以以任何合適 的次序被輸送經(jīng)過干燥步驟508的各子步驟，如本領域技術人員所知的那樣。例如，墊可以 首先被輸送經(jīng)過干燥機，并且然后被輸送經(jīng)過真空裝置。在墊被輸送經(jīng)過干燥步驟508，所述墊可以從輸送機被卸載。作為排放步驟510的 一部分，墊可以被安置在工作臺或雙作用輸送機上。排放步驟510包括與從系統(tǒng)排放、卷繞 和分類墊有關的子步驟。例如，排放步驟510可以包括在墊從輸送機或工作臺輸出時卷繞 墊。排放步驟510還可以包括分類步驟，因而墊可以根據(jù)任何合適的因素例如尺寸、重量、 材料類型等被手動地或自動地分類。在排放之后，墊可以被安置在墊盒內，以便存儲或運 輸。除了卷繞和/或分類以外，排放步驟510可以包括品質控制檢查。例如，品質控制檢查 可以包括檢測墊的裂口、勞損或任何與品質相關的項目。檢查可以包括檢查整個墊的兩側。 可選地，檢查可以僅僅包括檢查墊的絨側或下側。而且，品質控制檢查還可以包括墊上的勞 損或瑕疵的處理和/或從系統(tǒng)取出受到損害的墊。
當然，上述方法500僅僅是墊清潔方法的一個實例。該方法500可以包括任何其它 合適的步驟以及模塊和相關的部件。僅僅例如，上述步驟可以按照需求被改型、替換、補充、 重新排序或省略。方法500可以具有任何其它合適的步驟、作用、部件、結構、構造、功能、操 作性等。其它合適的改型的方法500和相關的步驟對于本領域技術人員而言是明顯的。已經(jīng)示出并說明了本發(fā)明的不同的實施例，在此所述的方法和系統(tǒng)的進一步調整 可以由本領域技術人員在不脫離本發(fā)明的方法的前提下通過合適的改型而實現(xiàn)。多個這種 潛在的改型已經(jīng)提到，并且其它改型對于本領域技術人員而言是明顯的。例如，如上所述的 實例、實施例、材料、步驟等是示意性的并且是不需要的。因此，本發(fā)明的范圍并不限于在說 明書和附圖中所示和所述的結構和操作的細節(jié)。
權利要求
1.一種用于平坦物品的清潔系統(tǒng)，包括(a)用于將所述平坦物品輸送到輸送機上的裝載模塊；(b)振動模塊，用于將所述平坦物品與至少一個擊打輥相連，以從所述平坦物品去除物質；(c)用于清洗和沖洗所述平坦物品的清洗模塊；(d)用于干燥所述平坦物品的干燥模塊；(e)用于將所述平坦物品從所述系統(tǒng)卸載的排放模塊。
2.根據(jù)權利要求1所述的清潔系統(tǒng)，其特征在于，所述平坦物品是墊。
3.根據(jù)權利要求2所述的清潔系統(tǒng)，其特征在于，(a)所述裝載模塊包括工作臺，所述墊可以鋪放在所述工作臺上；(b)所述振動模塊包括輸送機以及至少一個擊打輥，所述輸送機自所述裝載模塊的工 作臺延伸；(c)所述清洗模塊包括輸送機、至少一個清洗工具以及至少一個沖洗工具，其中，所述 清洗模塊的輸送機自所述振動模塊的輸送機延伸；(d)所述干燥模塊包括輸送機、至少一個振動擊打器以及至少一個干燥機，所述干燥模 塊的輸送機自所述清洗模塊的輸送機延伸；以及(e)所述排放模塊包括雙作用式輸送機以及排放設備，其中，所述雙作用式輸送機自所 述干燥模塊的輸送機延伸。
4.根據(jù)權利要求3所述的清潔系統(tǒng)，其特征在于，所述裝載模塊的工作臺是氣浮式工 作臺，其中所述氣浮式工作臺包括多個延伸穿過所述工作臺的孔，空氣可以被吹送經(jīng)過所 述孔，以便人體工程學地輸送所述墊。
5.根據(jù)權利要求4所述的清潔系統(tǒng)，其特征在于，所述清潔系統(tǒng)還包括收集槽，其位于 所述氣浮式工作臺下方，以收集污垢。
6.根據(jù)權利要求3所述的清潔系統(tǒng)，其特征在于，所述裝載模塊的工作臺是重力輥工 作臺。
7.根據(jù)權利要求3所述的清潔系統(tǒng)，其特征在于，所述裝載模塊的工作臺包括至少一 個加載輥，其可以旋轉，以將在所述工作臺上鋪放的平坦物品拉直。
8.根據(jù)權利要求3所述的清潔系統(tǒng)，其特征在于，所述清洗模塊包括高容量、低壓噴 嘴，清洗溶液和沖洗溶液可以經(jīng)過所述噴嘴被噴灑。
9.根據(jù)權利要求3所述的清潔系統(tǒng)，其特征在于，在所述平坦物品離開所述系統(tǒng)時，所 述排放模塊的排放設備卷繞所述平坦物品。
10.根據(jù)權利要求7所述的清潔系統(tǒng)，其特征在于，在所述平坦物品離開所述系統(tǒng)時， 所述排放設備將所述平坦物品分類。
11.一種用于推擠平坦物品的振動模塊，其包括(a)輸送機，所述平坦物品可以鋪放在所述輸送機上；以及(b)至少一個擊打輥，所述至少一個擊打輥包括大致圓柱形的軸，其中所述軸限定一中 央孔；其中，所述至少一個擊打輥的旋轉使得其與所述平坦物品接觸。
12.根據(jù)權利要求11所述的振動模塊，其特征在于，所述至少一個擊打輥是擊打輥組件的一部分，所述擊打輥組件包括(a)大體圓柱形的軸；(b)支承板，其中所述支承板具有中央容腔以及多個位于周邊的孔，所述大體上圓柱形 的軸被定位穿過所述中央容腔；以及(c)至少一個擊打輥，其中所述至少一個擊打輥具有第一端部和第二端部以及一對密 封的高速軸承，所述第一端部或所述第二端部經(jīng)由所述多個位于周邊的孔中的一個被固定 至所述支承板。
13.根據(jù)權利要求11所述的振動模塊，其特征在于，所述振動模塊還包括污垢收集器， 其被定位成收集從所述輸送機掉落的污垢。
14.一種用于干燥平坦物品的干燥模塊，其包括(a)輸送機，所述平坦物品可以鋪放在所述輸送機上，所述輸送機適于以一頻率振動；(b)至少一個振動擊打器，所述至少一個振動擊打輥包括大致圓柱形的軸，其中所述軸 限定中央孔，所述至少一個振動擊打器的旋轉使得其與所述輸送機接觸；以及(c)干燥機，所述輸送機和所述至少一個振動擊打器被定位到所述干燥機中，所述干燥 機選自冷空氣干燥機；真空干燥機；高容量、熱空氣干燥機；冷卻式干燥機；以及它們的組合。
15.一種用于清潔平坦物品的方法，包括使得所述平坦物品經(jīng)過以下模塊(a)裝載模塊；(b)振動模塊；(c)清洗模塊；(d)干燥模塊；以及(e)排放模塊。
16.根據(jù)權利要求15所述的方法，其特征在于，所述平坦物品是墊。
17.根據(jù)權利要求16所述的方法，其特征在于，所述方法還包括檢查所述平坦物品的 磨損或損害的步驟。
18.根據(jù)權利要求16所述的方法，其特征在于，所述方法還包括引導所述平坦物品與 至少一個擊打輥接觸的步驟。
19.根據(jù)權利要求16所述的方法，其特征在于，所述方法還包括利用至少一個真空裝 置進行干燥的步驟。
20.根據(jù)權利要求16所述的方法，其特征在于，所述方法還包括卷繞所述平坦物品的步驟。
21.根據(jù)權利要求16所述的方法，其特征在于，所述方法還包括根據(jù)以下尺度來分類 所述平坦物品的步驟，其中所述尺度包括(a)尺寸；(b)重量；以及(c)材料類型。
全文摘要
一種自動系統(tǒng)，被構造成清洗和干燥墊。該系統(tǒng)包括多個模塊，包括裝載模塊、振動模塊、清洗模塊、真空模塊和排放模塊。所公開的系統(tǒng)也提供了手動檢查墊的機會。因為被輸送到系統(tǒng)中的墊在其被清洗之前被推擠或抖動，所以減小數(shù)量的化學劑、水、水壓、干燥能量等被需要用于清潔墊。系統(tǒng)還可以可選地包括自動卷繞和分類設備，其卷繞墊并根據(jù)墊的重量、尺寸等將墊分類，這是在墊從排放模塊被排放之后實現(xiàn)的。還公開了一種清潔墊的方法。
文檔編號A47L13/00GK102065739SQ200980122758
公開日2011年5月18日 申請日期2009年6月18日 優(yōu)先權日2008年6月18日
發(fā)明者J·米利根, R·龐德, R·科特 申請人:信達思公司