專利名稱：足部按摩保健浴盆的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及足部按摩裝置，尤其涉皿部按摩{*#浴盆。
技術(shù)背景
熱7jC泡腳、足部穴位按摩，是中醫(yī)傳統(tǒng)療法的重要組成部分，足部按摩能調(diào)整 和維持人體內(nèi)部平衡，改善血液循環(huán)及微循環(huán)，提高人體免疫功能，增強組織器官 的新陳代謝，從而達到防病治病的目的。但目前公知的普衝郷卩盆大都只能用于洗 腳，對腳部沒有按摩保健作用，因此，不能滿足人們在洗腳的同時，又能全過程進 行足部保健按摩的需求.
實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的在于，克服現(xiàn)有技術(shù)的不^處，提供一種結(jié)構(gòu)簡單，使用 方便的足部按摩{^#^浴盆。
本實用新型所述的足部按摩{繊浴盆，涉及有盆體和按摩凸起構(gòu)成，所說的盆 體是用來孝潔浴腳液體的容器，盆體的橫截面為梯形狀，在所說盆體的內(nèi)部的底面 上均勻設(shè)置有按摩凸起，所說的按摩凸起的高度不同，在所說的足部按摩保健浴盆 的鵬邊緣部分的按摩凸起較低，鵬中央部分的按摩凸起較高。盆底邊緣部分按 摩凸起的高度為0.5厘米，在盆體底面中央的按摩凸起的高度高于四周的按摩凸起， 盆體底面中央的按摩凸起的高度為1厘米，各按摩凸起之間的距離為1厘米，以便 使腳部腳弓凹陷部分在浴洗過程中得到充分按摩。
本實用新型所述的足部按摩保使浴盆，結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，該保健浴盆能調(diào) 整和維持人體內(nèi)部平衡，改善血液循環(huán)及微循環(huán)，提高機體免疫功能，增強組織器 官的新陳代謝，從而達到防病治病的目的。
附圖
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附圖是本實用新型戶腿足部按摩^M浴盆的結(jié)構(gòu)示意圖。l一盆體2—按摩凸
起
具體實施方式
現(xiàn)參照附圖l，結(jié)合實施例說明如下本實用新型所述的足部按摩,浴盆， 涉及有盆體1和按摩凸起2構(gòu)成，所說的盆體1是用來承裝浴腳液體的容器，盆體 l的橫截面為梯形狀，在所說盆體l的內(nèi)部的底面上均勻設(shè)置有按摩凸起2，所說 的按摩凸起2的高度不同，在所說的足部按摩保健浴盆的皿邊緣部分的按摩凸起 2劍氏，誠中央部分的按摩凸起2較高。盆底邊緣部分按摩凸起2的高度為0.5 厘米，在盆體1底面中央的按摩凸起2的高度高于四周的按摩凸起2，盆體l底面 中央的按摩凸起2的高度為1厘米，各按摩凸起2之間的距離為1厘米，以便^P 部腳弓凹陷部分在浴洗過程中得到充分按摩。本實用新型所述的足部按摩保健浴 盆，結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，該^#浴盆能調(diào)整和維持人體內(nèi)部平衡，改善血液循環(huán) 及微循環(huán)，提高機體免疫功能，增強組織器官的新陳代謝，從而達到防病治病的目 的。
權(quán)利要求1、足部按摩保健浴盆，其特征在于盆體(1)的橫截面為梯形狀，在所說盆體(1)的內(nèi)部的底面上均勻設(shè)置有按摩凸起(2)，所說的按摩凸起(2)的高度不同，在所說的足部按摩保健浴盆的盆底邊緣部分的按摩凸起(2)較低，盆底中央部分的按摩凸起(2)較高；盆底邊緣部分按摩凸起(2)的高度為0.5厘米，在盆體(1)底面中央的按摩凸起(2)的高度高于四周的按摩凸起(2)，盆體(1)底面中央的按摩凸起(2)的高度為1厘米，各按摩凸起(2)之間的距離為1厘米。
專利摘要足部按摩保健浴盆，涉及有盆體和按摩凸起構(gòu)成，盆體的橫截面為梯形狀，在盆體的內(nèi)部的底面上均勻設(shè)置有按摩凸起，所說的按摩凸起的高度不同，在所說的足部按摩保健浴盆的盆底邊緣部分的按摩凸起較低，盆底中央部分的按摩凸起較高。盆底邊緣部分按摩凸起的高度為0.5厘米，在盆體底面中央的按摩凸起的高度高于四周的按摩凸起，盆體底面中央的按摩凸起的高度為1厘米，各按摩凸起之間的距離為1厘米，以便使腳部腳弓凹陷部分在浴洗過程中得到充分按摩。本實用新型所述的足部按摩保健浴盆，結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，該保健浴盆能調(diào)整和維持人體內(nèi)部平衡，改善血液循環(huán)及微循環(huán)，提高機體免疫功能，增強組織器官的新陳代謝，從而達到防病治病的目的。
文檔編號A47K3/022GK201239064SQ20082002642
公開日2009年5月20日 申請日期2008年7月26日 優(yōu)先權(quán)日2008年7月26日
發(fā)明者韓長征 申請人:韓長征