專利名稱：一種清洗靜電吸盤的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及靜電吸盤的清洗，特別涉及一種清洗靜電吸盤的方法。
技術(shù)背景為克服傳統(tǒng)的干法刻蝕刻蝕機(jī)中采用機(jī)械方式固定晶圓進(jìn)行刻蝕所造成的 損壞晶圓和刻蝕不均勻等問題，現(xiàn)有的干法刻蝕刻蝕機(jī)通常使用靜電吸盤(Electrostatic Chuck; ESC)技術(shù)固定晶圓進(jìn)行刻蝕，另外，為避免由于溫 度不均所造成的刻蝕不均的現(xiàn)象，還在晶圓背面使用了氦氣(He)冷卻技術(shù)。 上述氦氣除用作冷卻晶圓外，還可用來反應(yīng)晶圓與靜電吸盤之間是否接觸良 好，當(dāng)氦氣背壓過大時(shí)，干法刻蝕刻蝕機(jī)就會產(chǎn)生報(bào)警提示晶圓與靜電吸盤之 間的接觸有問題。干法刻蝕刻蝕機(jī)通常在使用一段時(shí)間(例如500小時(shí))后，就會進(jìn)行清洗 保養(yǎng)，在進(jìn)行清洗保養(yǎng)時(shí)，靜電吸盤是重要的清洗部件，現(xiàn)通常采用浸有純凈 水或異丙醇的無塵布對靜電吸盤進(jìn)行擦拭，但此種清洗方法不能將靜電吸盤上 的反應(yīng)物徹底清理，如此在清洗保養(yǎng)后再使用該干法刻蝕刻蝕機(jī)進(jìn)行刻蝕時(shí)， 經(jīng)常會出現(xiàn)靜電吸盤清理不干凈所造成的氦氣背壓報(bào)警，如此就會影響干法刻 蝕刻蝕機(jī)的正常使用。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于提供一種清洗靜電吸盤的方法，通過所述方法可將靜電 吸盤徹底清洗干凈。本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的 一種清洗靜電吸盤的方法，該靜電吸盤裝配 在電子裝置中且用于承載工件，該靜電吸盤用于承載工件的正面中部具有一凸 部，該方法包括以下步驟(l)提供一清洗裝置，該清洗裝置具有用于支撐靜 電吸盤的邊沿的支撐部以及用于容納該凸部的容置空間；(2)將已脫離電子裝置的靜電吸盤凸部朝下放置在該清洗裝置中，其中，該靜電吸盤的邊沿放置在該支撐部上，該凸部放置在該容置空間中；(3)在該容置空間中注入去離子水 直至該凸部完全浸沒在去離子水中；(4 )將該靜電吸盤在該清洗裝置中浸泡一 第一預(yù)定時(shí)間；(5 )將該靜電吸盤從清洗裝置中取出且依次用浸有去離子水和 有機(jī)溶劑的無塵布擦拭該靜電吸盤；(6 )將該靜電吸盤吹干并放置在烘干設(shè)備 中進(jìn)行一第二預(yù)定時(shí)間的烘千。在上述的清洗靜電吸盤的方法中，在步驟(2)中，先在該已脫離電子裝置 的靜電吸盤的正面覆蓋一保護(hù)層，再將該靜電吸盤凸部朝下放置在該清洗裝置 中，其中，該保護(hù)層為無塵布。在上述的清洗靜電吸盤的方法中，該靜電吸盤的背面上設(shè)置有不能沾水的 電子元4牛。在上述的清洗靜電吸盤的方法中，該方法在完成步驟(2)后，還在該靜電 吸盤的背面扣一防水罩。在上述的清洗靜電吸盤的方法中，在步驟(4)中，該第一預(yù)定時(shí)間為15 分鐘。在上述的清洗靜電吸盤的方法中，在步驟(5)中，該有機(jī)溶劑為異丙醇。 在上述的清洗靜電吸盤的方法中，在步驟(6)中，該第二預(yù)定時(shí)間為30 分鐘。在上述的清洗靜電吸盤的方法中，該電子裝置為干法刻蝕刻蝕機(jī)。 與現(xiàn)有技術(shù)中不拆卸靜電吸盤僅用浸有去離子水和有機(jī)溶劑的無塵布擦洗 靜電吸盤相比，本發(fā)明的清洗靜電吸盤的方法將已與電子裝置脫離的靜電吸盤 的凸部完全浸沒在去離子水中，于是刻蝕過程中所沉積的氟化物或氯化物就與 去離子水反應(yīng)而被去除，之后再用浸有去離子水和有機(jī)溶劑的無塵布擦拭該靜 電吸盤，如此可將靜電吸盤徹底清洗干凈，避免了由于靜電吸盤清洗不干凈所 造成的氦氣背壓報(bào)警。


本發(fā)明的清洗靜電吸盤的方法由以下的實(shí)施例及附圖給出。 圖1為靜電吸盤的主-見圖；圖2為本發(fā)明的清洗靜電吸盤的方法的實(shí)施例的流程圖； 圖3為圖2步驟S20所提供的清洗裝置的主視圖。
具體實(shí)施方式
以下將對本發(fā)明的清洗靜電吸盤的方法作進(jìn)一步的詳細(xì)描述。本發(fā)明的靜電吸盤裝配在電子裝置(未圖示)中，其中，靜電吸盤用于承 載工件的面為正面，參見圖1,顯示了靜電吸盤1的主視圖，如圖所示，靜電吸 盤1的正面中部具有用于直接承載工件的凸部10,靜電吸盤1的邊沿11不與工 件接觸。所述靜電吸盤1的背面上設(shè)置有不能沾水的電子元件(未圖示)。在 本實(shí)施例中，所述電子裝置為干法刻蝕刻蝕機(jī)。參見圖2,本發(fā)明的清洗靜電吸盤的方法首先進(jìn)行步驟S20，提供一清洗裝 置，所述清洗裝置具有用于支撐靜電吸盤的邊沿11的支撐部以及用于容納所述 凸部10的容置空間。參見圖3，顯示了清洗裝置的主視圖，如圖所示，清洗裝置3具有支撐部 30和容置空間31，支撐部30用于支撐靜電吸盤1的邊沿11,容置空間31用于 容納所述凸部IO。在本實(shí)施例中，支撐部30為與靜電吸盤1的邊沿11相匹配 的凸塊。接著繼續(xù)步驟S21,在所述已脫離電子裝置的靜電吸盤1的正面覆蓋一保.護(hù) 層。在本實(shí)施例中，所述保護(hù)層為無塵布。接著繼續(xù)步驟S22，將靜電吸盤1凸部IO朝下放置在所述清洗裝置中，其 中，所述靜電吸盤1的邊沿11放置在所述支撐部上，所述凸部IO放置在所述 容置空間中。接著繼續(xù)步驟S23,在所述靜電吸盤1的背面扣一防水罩。接著繼續(xù)步驟S24，在所述容置空間中注入去離子水直至所述凸部10完全浸沒在去離子水中，此時(shí)干法刻蝕時(shí)沉積在凸部IO上的氟化物或氯化物會與去離子水發(fā)生反應(yīng)。接著繼續(xù)步驟S25，將所述靜電吸盤1在所述清洗裝置中浸泡一第一預(yù)定時(shí) 間。在本實(shí)施例中，所述第一預(yù)定時(shí)間為15分鐘，在經(jīng)過15分鐘的浸泡后， 凸部10上的所沉積的氟化物或氯化物已完全與去離子水反應(yīng)而被去除。接著繼續(xù)步驟S26，將所述靜電吸盤1從清洗裝置中取出且依次用浸有去離 子水和有機(jī)溶劑的無塵布擦拭所述靜電吸盤1。在本實(shí)施例中，所述有機(jī)溶劑為異丙醇，在用浸有去離子水和有機(jī)溶劑的無塵布擦拭所述靜電吸盤1時(shí)，依照 從靜電吸盤1的中心至邊沿的順序擦拭。接著繼續(xù)步驟S27,將所述靜電吸盤1吹干并放置在烘干設(shè)備中進(jìn)行一第二 預(yù)定時(shí)間的烘干。在本實(shí)施例中，所述第二預(yù)定時(shí)間為30分鐘。綜上所逸本發(fā)明的清洗靜電吸盤的方法將已與電子裝置脫離的靜電吸盤1 的凸部IO完全浸沒在去離子水中，于是刻蝕過程中所沉積的氟化物或氯化物就 與去離子水充分反應(yīng)而被去除，之后再用浸有去離子水和有機(jī)溶劑的無塵布擦 拭所述靜電吸盤l，如此可將靜電吸盤徹底清洗干凈，避免了由于靜電吸盤清洗 不干凈所造成的氦氣背壓^fe警。
權(quán)利要求
1. 一種清洗靜電吸盤的方法，該靜電吸盤裝配在電子裝置中且用于承載工件，該靜電吸盤用于承載工件的正面中部具有一凸部，其特征在于，該方法包括以下步驟(1)提供一清洗裝置，該清洗裝置具有用于支撐靜電吸盤的邊沿的支撐部以及用于容納該凸部的容置空間；(2)將已脫離電子裝置的靜電吸盤凸部朝下放置在該清洗裝置中，其中，該靜電吸盤的邊沿放置在該支撐部上，該凸部放置在該容置空間中；(3)在該容置空間中注入去離子水直至該凸部完全浸沒在去離子水中；(4)將該靜電吸盤在該清洗裝置中浸泡一第一預(yù)定時(shí)間；(5)將該靜電吸盤從清洗裝置中取出且依次用浸有去離子水和有機(jī)溶劑的無塵布擦拭該靜電吸盤；(6)將該靜電吸盤吹干并放置在烘干設(shè)備中進(jìn)行一第二預(yù)定時(shí)間的烘干。
2、 如權(quán)利要求1所述的清洗靜電吸盤的方法，其特征在于，在步驟(2) 中，先在該已脫離電子裝置的靜電吸盤的正面覆蓋一保護(hù)層，再將該靜電盤凸 部朝下放置在該清洗裝置<中。
3、 如權(quán)利要求2所述的清洗靜電吸盤的方法，其特征在于，該保護(hù)層為無 塵布。
4、 如權(quán)利要求l所述的清洗靜電吸盤的方法，其特征在于，該靜電吸盤的 背面上設(shè)置有不能沾水的電子元件。
5、 如權(quán)利要求4所述的清洗靜電吸盤的方法，其特征在于，該方法在完成 步驟(2)后，還在該靜電吸盤的背面扣一防水罩。
6、 如權(quán)利要求1所述的清洗靜電吸盤的方法，其特征在于，在步驟(4) 中，該第一預(yù)定時(shí)間為15分鐘。
7、 如權(quán)利要求1所述的清洗靜電吸盤的方法，其特征在于，在步驟(5) 中，該有機(jī)溶劑為異丙醇。
8、 如權(quán)利要求1所述的清洗靜電吸盤的方法，其特征在于，在步驟(6) 中，該第二預(yù)定時(shí)間為30分鐘。
9、 如權(quán)利要求1所述的清洗靜電吸盤的方法，其特征在于，該電子裝置為 干法刻蝕刻蝕機(jī)。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種清洗靜電吸盤的方法，該靜電吸盤裝配在電子裝置中，其正面中部具有一凸部。現(xiàn)有技術(shù)不拆卸靜電吸盤僅用浸有去離子水和有機(jī)溶劑的無塵布擦洗靜電吸盤，致使其未被清洗干凈而出現(xiàn)氦氣背壓的報(bào)警。本發(fā)明的方法先提供一具有支撐部及容置空間的清洗裝置；然后將靜電吸盤放置在該清洗裝置中，該靜電吸盤的邊沿和凸部分別放置在該支撐部上和該容置空間中；接著在該容置空間中注入去離子水直至該凸部完全浸沒在去離子水中，并將該靜電吸盤浸泡一第一預(yù)定時(shí)間；之后取出該靜電吸盤且依次用浸有去離子水和有機(jī)溶劑的無塵布擦拭該靜電吸盤；最后將該靜電吸盤吹干并進(jìn)行一第二預(yù)定時(shí)間的烘干。采用本發(fā)明的方法可將靜電吸盤徹底清洗干凈。
文檔編號B08B7/04GK101281855SQ20071003919
公開日2008年10月8日 申請日期2007年4月6日 優(yōu)先權(quán)日2007年4月6日
發(fā)明者丁振宇, 華 潘 申請人:中芯國際集成電路制造(上海)有限公司