專利名稱：清洗劑組合物的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種用于除去在制造透鏡或棱鏡等光學物品時使用的固定劑或保護膜的清洗劑用組合物。
背景技術：
在制造透鏡等光學物品時，需要對玻璃基版等光學基材的表面進行研磨加工。在該研磨工序中，雖然是在將光學基材固定在保持臺上進行研磨，但是在向保持臺上固定時，要使用由石蠟、瀝青等構成的固定劑。
另外，在研磨完一面后而對另一面進行研磨時，為了保護研磨完的面，要涂敷由酚系樹脂或丙烯酸系樹脂等構成的掩蔽劑而形成保護膜。此外，在研磨工序結(jié)束后，要使用清洗劑將這些固定劑或保護膜從光學基材上除去，將研磨完的光學基材轉(zhuǎn)移到研磨劑除去工序等下一工序中。
以往作為這些固定劑或保護膜的清洗劑，一直使用氯系溶劑或鹵化碳系溶劑。但是，近年來，發(fā)現(xiàn)這些溶劑引起臭氧層破壞或者地下水污染的問題，目前，除了在完全密閉系統(tǒng)使用之外，操作起來是很困難的。
近年來，作為它們的對策，提出了作為在光學物品制造中使用的清洗劑用組合物(1)配合二烷基二醇醚的組合物(參照特開平7-247499號公報)、(2)特定的醇與丙二醇單烷基醚或者二丙二醇單烷基醚的混合物(參照特開平9-25496號公報)、(3)將特定的芳香族化合物與脂肪族化合物以特定比例混合后的溶劑(參照特開平8-254602號公報)以及(4)異鏈烷烴系溶劑與二醇醚的混合物(參照特開2001-329296號公報)。
但是，所述(1)以及(2)的清洗劑組合物，對于瀝青蠟的溶解性雖然很好，但是對于其他的瀝青、樹脂系保護膜的溶解除去性并不是很充分。另外，對于所述(3)的清洗劑，不僅只能溶解除去瀝青以及部分樹脂系保護膜，而且還存在芳香族系化合物對環(huán)境以及人體的影響以及有很強臭味的問題。此外，對于所述(4)的清洗劑，雖然對于瀝青蠟、瀝青等固定劑以及所有保護膜能夠發(fā)揮大致良好的除去性能，但是不能說很充分，很難使其對瀝青和保護膜雙方都具有充分的清洗力。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供對石蠟的清洗力與前述(4)的清洗劑相同并且對瀝青以及保護膜的清洗力得到進一步改善的清洗劑。
本發(fā)明的其它目的與優(yōu)點通過以下說明可以更加明了。
本發(fā)明人等為了解決上述課題而進行了銳意的研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)在將亞烷基二醇烷基醚與環(huán)烷烴并用時，與并用亞烷基二醇烷基醚與異鏈烷烴時相比，對瀝青以及保護膜的溶解性顯著提高，可以達到所需目的，從而完成本發(fā)明。
即，本發(fā)明的上述目的以及優(yōu)點，第1，可以通過下述清洗劑用組合物實現(xiàn)，所述第1清洗劑用組合物的特征在于，含有下式表示的亞烷基二醇烷基醚75～25重量％以及碳數(shù)10～15的環(huán)烷烴25～75重量％，R1-(O-CnH2n)m-O-R2(式中，R1是碳數(shù)1～4的烷基，R2是氫原子或碳數(shù)1～4的烷基，m是1～3的整數(shù)，n是2或3。)本發(fā)明的上述目的以及優(yōu)點，第2，可以通過以上述組合物為主成分的清洗劑實現(xiàn)。
本發(fā)明的上述目的以及優(yōu)點，第3，可以通過下述的光學物品的制造方法實現(xiàn)，所述光學物品的制造方法的特征在于，包括使用固定劑將至少具有兩個主表面的光學基材固定在基材保持臺上的基材固定工序，對固定在基材保持臺上的所述光學基材的露出的主表面進行研磨的研磨工序，以及通過使用清洗劑除去所述固定劑而將研磨后的基材與基材保持臺分離的基材分離工序，其中，作為所述清洗劑使用本發(fā)明的清洗劑。
另外，在本發(fā)明的上述制造方法中，在所述基材固定工序中，作為光學基材使用具有被保護膜被覆的至少一個主表面和沒有被保護膜被覆的至少一個主表面的光學基材，在所述研磨工序中，研磨沒有被保護膜被覆的至少一個主表面，在所述基材分離工序中，也可以與所述固定劑一起將所述保護膜除去。
具體實施例方式
本發(fā)明的清洗劑用組合物，含有特定的亞烷基二醇烷基醚75～25重量％以及碳數(shù)10～15的環(huán)烷烴25～75重量％。通過使兩者以特定的比例含有，產(chǎn)生協(xié)同效果，可以得到分別從單個的清洗力來看所意想不到的清洗力。具體來說，對于所述保護膜以及固定劑雙方都可以獲得高的清洗力。從清洗力高低觀點來看，優(yōu)選上述亞烷基二醇烷基醚的含有比例為70～30重量％，上述環(huán)烷烴的含有比例為30～70重量％。
本發(fā)明的組合物的第一成分即亞烷基二醇烷基醚，由下式表示。
R1-(O-CnH2n)m-O-R2在上式中，R1是表示碳數(shù)1～4的烷基，R2是表示氫原子或碳數(shù)1～4的烷基。作為R1或R2的碳原子數(shù)1～4的烷基，可以舉出甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、2-丁基以及叔丁基。另外，m是1～3的整數(shù)，n是2或3。
作為可以在本發(fā)明中優(yōu)選使用的上述式所示的亞烷基二醇烷基醚，可以舉出單丙二醇單甲基醚、二丙二醇單甲基醚、三丙二醇單甲基醚、單丙二醇單丙基醚、二丙二醇單丙基醚、三丙二醇單丙基醚、單丙二醇單丁基醚、二丙二醇單丁基醚、三丙二醇單丁基醚、單乙二醇單甲基醚、二甘醇單甲基醚、三甘醇單甲基醚、單乙二醇單丙基醚、二甘醇單丙基醚、三甘醇單丙基醚、單乙二醇單丁基醚、二甘醇單丁基醚、三甘醇單丁基醚等亞烷基二醇單烷基醚，丙二醇二甲基醚、二丙二醇二甲基醚、二甘醇甲基乙基醚、三甘醇二甲基醚、二甘醇二甲基醚、二甘醇二乙基醚等亞烷基二醇二烷基醚。這些亞烷基二醇烷基醚可以單獨使用，也可以將多個不同種類混合使用。
從高清洗力與低毒性、容易操作的物性的觀點來看，在它們中優(yōu)選使用(1)選自由二丙二醇二甲基醚、二甘醇甲基乙基醚以及三甘醇二甲基醚構成的物質(zhì)組中的至少一種亞烷基二醇二烷基醚，或者(2)所述(1)中的亞烷基二醇二烷基醚與選自由單丙二醇單甲基醚、二丙二醇單甲基醚、三丙二醇單甲基醚、單丙二醇單丙基醚、二丙二醇單丙基醚、三丙二醇單丙基醚、單丙二醇單丁基醚、二丙二醇單丁基醚以及三丙二醇單丁基醚構成的物質(zhì)組中的至少一種亞烷基二醇單烷基醚之間的混合物。在所述(1)和(2)中，尤其優(yōu)選二烷基醚的含有比例為30～100wt％的物質(zhì)，其中特別優(yōu)選由二丙二醇二甲基醚30～100wt％以及二丙二醇單甲基醚0～70wt％構成的物質(zhì)。
作為本發(fā)明的組合物的第二成分的碳數(shù)10～15環(huán)烷烴，從能夠使用簡單的清洗裝置的觀點來看，優(yōu)選沸點在180℃～250℃的碳數(shù)10～15的環(huán)烷烴。即便是環(huán)烷烴，在使用碳數(shù)低于10的環(huán)烷烴時，由于著火點低，在操作時必須注意，由于沸點低引起的揮發(fā)量的增加而惡化作業(yè)環(huán)境、或造成液體組成的變化也不能不考慮。另外，在使用碳數(shù)超過15的環(huán)烷烴時，污染物的除去能力降低。
若具體示例能夠在本發(fā)明中優(yōu)選使用的環(huán)烷烴，可以舉出環(huán)癸烷、環(huán)十一烷、環(huán)十二烷等。它們可以單獨使用，可以將多個不同種類混合使用。
本發(fā)明的清洗劑用組合物，如光學透鏡的制造方法那樣，在光學物品的的制造方法中，可以作為在基材分離工序中使用的清洗劑用組合物使用，所述光學物品的制造方法，包括使用固定劑將至少具有兩個主表面的光學基材固定在基材保持臺上的基材固定工序，對固定在基材保持臺上的所述光學基材的露出的主表面進行研磨的研磨工序，以及通過使用清洗劑除去所述固定劑而將研磨后的基材與基材保持臺分離的基材分離工序。
這里所謂光學基材，例如是成為光學透鏡、棱鏡等光學物品的材料的由玻璃、石英等透光性材料構成的基板或者塊狀部件(block)等。另外，作為固定劑，例如可以舉出瀝青蠟、瀝青、松脂以及蜂蠟。另外，在上述分離工序中，為了使用清洗劑將研磨后的基材與基材保持臺分離，將通過固定劑接合的基材以及基材保持臺浸漬在導入清洗槽中的清洗劑中，也可以根據(jù)需要使用超聲波進行清洗。本發(fā)明的清洗劑，由于對成為固定劑或保護膜的各種成分具有極高的清洗力，因此，在短時間內(nèi)可以將兩者徹底分離。
另外，在上述的光學物品的制造方法中，在光學物品象光學透鏡或棱鏡那樣具有兩個以上的研磨的面時，在研磨一面后而研磨另一面時，為了不損傷研磨完的面，通常用保護膜將研磨完的面被覆起來。此時，另一面的研磨也要經(jīng)過上述的基材固定工序、研磨工序以及基材分離工序而進行，在所述基材分離工序中也可以與固定劑一起將保護膜除去。這里，所謂保護膜，例如是指涂敷掩蔽劑形成的由酚系樹脂或丙烯酸系樹脂構成的樹脂膜。本發(fā)明的清洗劑，不僅對固定劑的清洗力高，對這種保護膜的清洗力也高。因此，在這種制造方法的基材分離工序中，可以將基材與基材保持臺徹底分離的同時，也一并將保護膜除去。
在將本發(fā)明的清洗劑用組合物用作在上述基材分離工序中使用的清洗劑時，可以將本發(fā)明的清洗劑用組合物直接用作清洗劑，也可以使清洗劑中進一步含有用于提高清洗力的成分。作為這種成分，例如可以舉出碳數(shù)10～15的環(huán)烷烴以外的烴系溶劑，醇、酮、醚等含氧有機溶劑，以及表面活性劑等。這些成分的添加量，不作特別限定，但是從能夠充分發(fā)揮本發(fā)明的清洗用組合物的特性的觀點來看，優(yōu)選在整個清洗劑的10重量％以下、尤其優(yōu)選在5重量％以下。另外，作為表面活性劑，可以使用非離子性表面活性劑、陰離子性表面活性劑、陽離子表面活性劑以及兩性表面活性劑中任一種，但是優(yōu)選使用疏水性強的表面活性劑。優(yōu)選非離子表面活性劑，例如可以舉出高級醇類的環(huán)氧烷加成物、烷基苯基醚的環(huán)氧烷加成物、脂肪酸的環(huán)氧烷加成物等。
以上，以在制造光學物品時使用的情況為例對本發(fā)明的清洗劑進行了說明，但是，本發(fā)明的清洗劑的用途并不限定于此，例如也可以很好地用作，對通過瀝青、石蠟固定在夾具上而進行研磨的機械部件或者電子部件的研磨后的清洗劑，樹脂涂敷用掩模、夾具類的清洗劑等同樣用于污染物除去的清洗劑。
本發(fā)明的清洗劑用組合物，對在研磨工序中使用的固定劑以及掩蔽劑涂膜或保護膜的清洗性極高，可以在短的清洗時間內(nèi)獲得充分的清洗效果。因此，通過使用以本發(fā)明的組合物作為主成分的清洗劑，可以低成本并且高效地制造透鏡等光學物品。
實施例以下通過實施例對本發(fā)明進行進一步的詳細說明，但是本發(fā)明并不局限于這些實施例。此外，各實施例以及比較例中使用的有機溶劑的縮寫分別表示以下的化合物。
(1)亞烷基二醇烷基醚單烷基醚DPGME二丙二醇單甲基醚TPGME三丙二醇單甲基醚DPGPE二丙二醇單丙基醚PGME丙二醇單甲基醚。
二烷基醚DPGDME二丙二醇二甲基醚DEGMEE二甘醇甲基乙基醚TEGDME三甘醇二甲基醚(2)烴系溶劑環(huán)烷烴
TPS-3200株式會社德山制 環(huán)烷烴系烴清洗劑TPS-3200CnH2nn＝11～13著火點74℃異烷烴TPS-1150株式會社德山制 異烷烴系烴清洗劑TPS-1150CnH2n+2n＝9～14著火點71℃正烷烴TPS-2250株式會社德山制正烷烴系烴清洗劑TPS-2250CnH2n+2n＝10～14著火點52.5℃。
參考例1將九重研磨用瀝青級別K級No.8(九重電氣株式會社制)整形為直徑6mm的按鈕型，準備被固著的試料，測定被固著的瀝青的重量，結(jié)果為56.2mg。接著，將該試料浸漬在保持在25℃的清洗劑(環(huán)烷烴系清洗劑TPS-3200株式會社德山制)20ml中20分鐘。之后，取出該試料，使干燥，然后測定附著在玻璃板上的殘存的瀝青的重量，結(jié)果為17.1mg。從初期重量減去殘存重量差，就是除去的瀝青的重量，為39.1mg。
另外，通過目視觀察試料浸漬中以及浸漬后的清洗液，未見瀝青的剝離，為均勻的溶液。由此可以看出瀝青全部是通過溶解而被去除的。
參考比較例1以及2除了將清洗液替換為異烷烴系清洗劑TPS-1150(株式會社德山制)(參考比較例1)或者正烷烴系清洗劑TPS-2250(株式會社德山制)(參考比較例2)之外，其余的通過與參考例1同樣的方式，計算出瀝青的除去量。另外，通過目視觀察了，在試料浸漬中是否引起了成形后的瀝青的剝離。其結(jié)果如表1所示。
表1

如表1所示，碳數(shù)10～15的環(huán)烷烴對瀝青的溶解力高。與此相對，使用異烷烴或正烷烴的參考比較例中的瀝青的除去量，比參考例1少，在浸漬中也引起剝離。在這些參考比較例中，剝離后的瀝青的粒子在周邊浮游，在實際的清洗中有可能再附著在被清洗物上。
實施例1～3以及比較例1～6對使用表2所示的各組成的清洗劑對各種除去對象物質(zhì)[清洗對象物質(zhì)九重研磨用瀝青級別K級No.8(九重電氣株式會社制)(以下稱為瀝青K-8)、リセス石蠟(級別No.5九重電氣株式會社制)(以下稱為リセス石蠟)、シフト石蠟(5408R日化精工株式會社以下稱為シフト石蠟)、保護膜LG#88ブラツク(カナエ涂料株式會社)(以下保護膜88)]的溶解性進行了評價。評價是通過在保持為25℃的各種清洗劑中加入少量的除去對象物質(zhì)，目視觀察確認靜置5分鐘后的溶解性來進行的。另外，除去對象物質(zhì)為保護膜88時，使用了在評價用透鏡上涂敷后干燥1天的保護膜。
評價結(jié)果表示在表2中。另外，表中的評價基準如下所示。
對于瀝青K-8、リセス石蠟、シフト石蠟靜置5分鐘，5能夠完全溶解4幾乎全部溶解，僅殘留少許3量減少了，但是完全殘存(殘存率低于50％)2量減少了，但是完全殘存(殘存率在50％以上)1幾乎原樣殘存對保護膜88靜置5分鐘后，
5不用擦拭，可以全部除去4通過輕輕擦拭，可以完全除去3在擦拭后的透鏡表面上殘存有目視很難發(fā)現(xiàn)的極少保護膜2在擦拭后的透鏡表面上殘存有可以通過目視確認的少量的保護膜1除去不充分。
表2

如表2所示，在使用本發(fā)明的清洗劑的實施例1～3中，對于全部的除去對象物質(zhì)均可以獲得高的清洗力。與此相對，環(huán)烷烴的含有率超過本發(fā)明中特定的范圍的比較高的情況(比較例1)中，對石蠟以及保護膜的清洗力降低。另外，對于環(huán)烷烴的含有率不在本發(fā)明的特定的范圍的比較低的情況(比較例2)中，對于全部的清洗對象物質(zhì)的清洗力都降低。此外，在使用環(huán)烷烴以外的烴系清洗劑的情況下，即使烴系清洗劑與亞烷基二醇醚的比例，以重量比計在25∶75～75∶25的范圍內(nèi)(比較例3和4)中，對保護膜的清洗量，與實施例相比也降低了。
權利要求
1.一種清洗劑用組合物，其特征在于，含有下式表示的亞烷基二醇烷基醚75～25重量％以及碳數(shù)10～15的環(huán)烷烴25～75重量％，R1-(O-CnH2n)m-O-R2式中，R1是碳數(shù)1～4的烷基，R2是氫原子或碳數(shù)1～4的烷基，m是1～3的整數(shù)，n是2或3。
2.一種以權利要求1中的組合物為主要成分的清洗劑。
3.一種光學物品的制造方法，包括使用固定劑將至少具有兩個主表面的光學基材固定在基材保持臺上的基材固定工序，對固定在基材保持臺上的所述光學基材的露出的主表面進行研磨的研磨工序，以及使用清洗劑通過除去所述固定劑而將研磨后的基材與基材保持臺分離的基材分離工序，其特征在于，作為所述清洗劑使用權利要求2所述的清洗劑。
4.根據(jù)權利要求3所述的方法，其特征在于，在所述基材固定工序中，作為光學基材使用具有被保護膜被覆的至少一個主表面和沒有被保護膜被覆的至少一個主表面的光學基材，在所述研磨工序中，研磨沒有被保護膜被覆的至少一個主表面，在所述基材分離工序中，與所述固定劑一起將所述保護膜除去。
全文摘要
本發(fā)明提供一種用于除去在透鏡等的光學物品的研磨加工工序中使用的固定劑或保護膜的清洗劑用組合物，所述清洗劑用組合物不使用對環(huán)境以及人體產(chǎn)生影響的鹵系溶劑、鹵化碳系溶劑、芳香族系溶劑，對各種固定劑以及保護膜具有高的清洗力。所述清洗劑用組合物例如可以由二丙二醇單甲基醚或二丙二醇二甲基醚等的亞烷基二醇烷基醚75～25重量％以及環(huán)癸烷、環(huán)十一烷、環(huán)十二烷等的碳數(shù)10～15的環(huán)烷烴25～75重量％構成。
文檔編號C11D7/26GK1730641SQ200510089589
公開日2006年2月8日 申請日期2005年8月4日 優(yōu)先權日2004年8月4日
發(fā)明者井上賀文 申請人:株式會社德山