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用于全身照射的蠟質(zhì)均整器的制作方法

文檔序號:1211196閱讀:181來源:國知局
專利名稱:用于全身照射的蠟質(zhì)均整器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種醫(yī)用加速器的配套裝置,特別是涉及一種用于全身照射的 蠟質(zhì)均整器。
技術(shù)背景目前,加速器技術(shù)已廣泛應(yīng)用于醫(yī)學(xué)領(lǐng)域,國內(nèi)很多醫(yī)療單位已開始利用加 速器對患者實(shí)施全身照射治療,但是,用加速器進(jìn)行全身照射時(shí)存在以下問題加速器常規(guī)治療都是在源波距100cm或源瘤距100cm的情況下完成,所形成的照 射野為40X40cm,在此照射野范圍內(nèi),照射野的平坦度經(jīng)過加速器內(nèi)置金屬均整器 調(diào)整,使照射野的誤差被控制在國家標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的3%之內(nèi),具有良好的治療效果; 而用現(xiàn)有的加速器進(jìn)行全身照射時(shí),要求照射野范圍最小是160X160cm大小的方 野,為滿足此條件,需將源波距擴(kuò)大至400cm以上,隨著源波距的放大,大照射 野平坦度的誤差也相應(yīng)放大了4倍左右,達(dá)到11-17%,此誤差遠(yuǎn)遠(yuǎn)超出國家標(biāo)準(zhǔn), 因此需要對大照射野的均整性進(jìn)行二次調(diào)整,為解決上述問題,各單位采取了多 種措施對大照射野進(jìn)行修正,確保大照射野的均整性修正誤差在3%之內(nèi),但效果 都不理想,其中有的醫(yī)院用鉛及鉛合金對大照射野均整性進(jìn)行修正,但其加工較 為困難、工藝較復(fù)雜且成本較高。
發(fā)明內(nèi)容'本實(shí)用新型的目的,是提供了一種用于全身照射的蠟質(zhì)均整器,它可修正加速 器大照射野存在的中心照射強(qiáng)度低周邊強(qiáng)度高的誤差,能將進(jìn)行全身照射的誤差修 正至國家標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的3%以內(nèi),且操作方便、制造簡單、成本低廉,可解決現(xiàn)有加速 器進(jìn)行全身照射時(shí)存在的問題。本實(shí)用新型的目的是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的用于全身照射的蠟質(zhì)均整器, 包括蠟塊,蠟塊是矩形,蠟塊的厚度小于蠟塊的寬度,蠟塊的上端面的中間部低于 其上端面的四周邊緣部,蠟塊的上端面的四周邊緣部至中間部是平滑過渡,蠟塊的 下端面上設(shè)置定^^主。為進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的目的,還可以采用以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)蠟塊的上 端面由第一斜面、第二斜面、第三斜面和第四斜面連接構(gòu)成。蠟塊上端面中間部平面與四周邊緣部的高差h是3-5cm。蠟塊的上端面中間部平面邊緣與四周邊緣部 的水平間距H是4-6cm。蠟塊的下端安裝托盤,托盤上開設(shè)定位孔,定位孔與定位 柱配合,定位柱位于定位孔內(nèi)。蠟塊是正方形,其邊長L是25cm。本實(shí)用新型的積極效果在于它是由蠟制成的大照射野修正裝置,可根據(jù)不同 加速器的具體情況進(jìn)行精確的修正,可確保將大照野平坦度誤差控制在國家標(biāo)準(zhǔn)規(guī) 定的3%之內(nèi),且具有加工工藝簡單、制作成本低廉和使用簡單方便的優(yōu)點(diǎn)。

圖l是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2是圖1的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型所述的用于全身照射的蠟質(zhì)均整器包括蠟±央1,為吻合加速器照射 野的形狀可將蠟塊1制成矩形,以取得較好的均整效果。制作時(shí),可使蠟塊1的 厚度小于蠟塊1的寬度,既可節(jié)省材料降低成本,又可防止蠟塊1對射線的過度 衰減,影響照射效果。如圖1和圖2所示,為提高照射野的平坦度,使照射野的 最大誤差小于3%,可將蠟塊1制成,其上端面的中部平面低于其上端面的四周邊 緣部形狀,即將蠟塊l制成中間薄四周厚的形狀。由于大照射野的照射強(qiáng)度分布, 是由四周向中間逐漸變?nèi)酰虼?,將蠟塊1上端面的四周邊緣部至中間部制成平滑過渡,即蠟塊1的厚度是由四周向中間逐漸變薄。如圖1和圖2所示,蠟塊1 安裝于加速器的托盤4上,使用時(shí)托盤4即為蠟塊1的載體,為防止蠟塊1相對 托盤4滑動影響修正效果,蠟塊1的下端面上可設(shè)置定^I柱2,托盤4上可相應(yīng)定 位柱2開設(shè)定位孔3,定位柱2位于定位孔3內(nèi),定位孔3與定位柱2配合防止蠟 塊1與托盤4相對滑動。定位孔3可以是通孔。如圖2所示,蠟塊1的上端面可由第一斜面5、第二斜面6、第三斜面7和第 四斜面8連接構(gòu)成,第一斜面5、第二斜面6、第三斜面7和第四斜面8構(gòu)成漏斗 狀。如圖2所示,第一斜面5、第二斜面6、第三斜面7和第四斜面8可以均是平 面,每相鄰兩個(gè)平面間可有明顯的折痕。第一斜面5、第二斜面6、第三斜面7和 第四斜面8也可以是曲面,即相鄰兩曲面間無明顯折痕,曲面間是平滑過渡。經(jīng)實(shí)驗(yàn)得出結(jié)論對于高能X射線而言,lcm厚的蠟塊可使射線強(qiáng)度衰減3. 5% 至4%,所以為修正大照射野平坦度11-17%的邊緣誤差,需將蠟?zāi)さ奶荻炔钤O(shè)定為 3-5cm之間,即將蠟塊1上端面中部的最低點(diǎn)與四周邊緣部的高差h設(shè)定為3-5cm。 如圖1所示,根據(jù)長期臨床經(jīng)驗(yàn)得出,當(dāng)蠟塊1上端面中間部平面的邊緣與四周 邊緣部的水平間距H是4-6cm時(shí),修正效果最佳。根據(jù)照射野的形狀可將蠟塊1 制成正方形,依據(jù)托盤4的尺寸大小,蠟塊1的邊長L是25cm。制作時(shí),將蠟澆 注在開設(shè)定位孔3的托盤4上,部分蠟流入定位孔3.中凝固構(gòu)成定位柱2;蠟?zāi)?后,根據(jù)需要將蠟塊l修成邊長L是25cm的正方形。本實(shí)用新型所述的技術(shù)方案并不限制于本實(shí)用新型所述的實(shí)施例的范圍內(nèi)。 本實(shí)用新型未詳盡描述的技術(shù)內(nèi)容均為公知技術(shù)。
權(quán)利要求1、用于全身照射的臘質(zhì)均整器,其特征在于包括臘塊(1),臘塊(1)是矩形,臘塊(1)的厚度小于臘塊(1)的寬度,臘塊(1)的上端面的中間部低于其上端面的四周邊緣部,臘塊(1)的上端面的四周邊緣部至中間部是平滑過渡,臘塊(1)的下端面上設(shè)置定位柱(2)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于全身照射的蠟質(zhì)均整器,其特征在于蠟塊(1)的上端面由第一斜面(5)、第二斜面(6)、第三斜面(7)和第四斜 面(8)連接構(gòu)成。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于全身照射的蠟質(zhì)均整器,其特征在于蠟塊(1)上端面中間部平面與四周邊緣部的高差h是3-5cm。
4、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于全身照射的蠟質(zhì)均整器,其特征在于蠟 塊(1)的上端面中間部平面邊緣與四周邊緣部的水平間距H是4-6cm。
5、 根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于全身照射的蠟質(zhì)均整器,其特征在于蠟 塊(1)的下端安裝托盤(4),托盤(4)上開設(shè)定位孔(3),定位孔(3)與 定位柱(2)配合,定位柱(2)位于定位孔(3)內(nèi)。
6、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于全身照射的蠟質(zhì)均整器,其特征在于蠟 塊(1)是正方形,其邊長L是25cm。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種用于全身照射的蠟質(zhì)均整器,包括蠟塊,蠟塊是矩形,蠟塊的厚度小于蠟塊的寬度,蠟塊的上端面的中間部低于其上端面的四周邊緣部,蠟塊的上端面的四周邊緣部至中間部是平滑過渡,蠟塊的下端面上設(shè)置定位柱。它是由蠟制成的大照射野修正裝置,可根據(jù)不同加速器的具體情況進(jìn)行精確的修正,可確保將大照野平坦度誤差控制在國家標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的3%之內(nèi),且具有加工工藝簡單、制作成本低廉和使用簡單方便的優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號A61N5/00GK201088783SQ200720028728
公開日2008年7月23日 申請日期2007年10月12日 優(yōu)先權(quán)日2007年10月12日
發(fā)明者哲 楊, 顏廷秀 申請人:顏廷秀
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