專利名稱：一種局部放射治療用可降解粒子源的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種醫(yī)用粒子源，尤其是指一種局部放射治療用可降解粒子源。
背景技術(shù)：
目前，國內(nèi)醫(yī)務(wù)界已開始采用在人體內(nèi)進行局部放射治療的醫(yī)治方法，這種方法通常需要以醫(yī)用同位素粒子作為放射源植入人體內(nèi)。目前國內(nèi)、外所采用的粒子源均由特種金屬包裹，當(dāng)粒子源中的同位素失去放射治療作用后，仍與金屬外殼長期滯留在體內(nèi)，成為人體內(nèi)永久性的異物，甚至危害人體的健康。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種密封性能好和可降解而排出體外的局部放射治療用粒子源。
本發(fā)明所采取的技術(shù)方案是一種局部放射治療用可降解粒子源，由密封殼與內(nèi)核所構(gòu)成，密封殼由不透水的可降解高分子材料制成，內(nèi)核由具有吸附作用的可降解高分子材料制成及醫(yī)用同位素制成，在吸附了所需要的醫(yī)用同位素后用于局部放射治療的目的。內(nèi)核置于密封殼內(nèi)并構(gòu)成一種局部放射治療用密封粒子源。
密封殼根據(jù)植入條件要求制成一定的形狀，其優(yōu)選形狀為棒狀。
本發(fā)明的有益效果是
1、密封性能好由于本發(fā)明采用采用不透水的可降解高分子材料作為密封殼對內(nèi)核進行包裹，使粒子源在降解前完全處于一種封閉狀態(tài)，成為一種密封源，從而可保證在進行局部放射治療時無泄漏現(xiàn)象發(fā)生。
2、粒子源的降解過程可控由于密封殼采用的是一種降解過程可控的高分子材料，因此可設(shè)定在醫(yī)用同位素完成放射治療作用前，其可降解高分子材料不發(fā)生降解；當(dāng)同位素完成放射治療作用后，整個外殼和內(nèi)核都處在降解過程中，并在一段時間內(nèi)通過體內(nèi)的代謝排除體外。
3、可完全降解由于密封殼與內(nèi)核均由可降解高分子材料制成，其內(nèi)核中的同位素完成放射治療時，可同時完成粒子源的降解，并在代謝過程中最終排出體外。
4、外形適宜由于密封殼的外形基本上為棒狀，其截面小、植入容易。


圖1為本發(fā)明結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為本發(fā)明斷面剖視圖。
具體實施例方式
下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實施方式
作進一步詳細地描述。
如圖1所示，一種局部放射治療用可降解粒子源，由密封殼1與內(nèi)核2所構(gòu)成，密封殼1由不透水的可降解高分子材料聚乳酸制成，目的是將內(nèi)核密封起來，使整個粒子源成為一個密封源。內(nèi)核2由可降解高分子材料聚乳酸及醫(yī)用同位素制成，內(nèi)核2置于密封殼1內(nèi)，根據(jù)目前通常使用的TPS植入計劃要求，其密封殼的形狀基本上為棒狀，并且外徑為0.8mm，長度為4mm。由于本發(fā)明的密封性能好，因此在植入人體內(nèi)進行局部放射治療時無泄漏現(xiàn)象發(fā)生。又由于密封殼與內(nèi)核均由可降解高分子材料制成，其內(nèi)核中的同位素完成放射治療時，可同時控制高分子材料開始降解，并在指定的時間內(nèi)完成降解過程，最后參與體內(nèi)的代謝而最終排出人體之外。
為了跟蹤粒子源在人體內(nèi)的植入位置和降解情況，還可在本發(fā)明的粒子源中加入顯影劑，使其能通過X光、CT及核磁設(shè)備的顯影，提高植入精度。
權(quán)利要求
1.一種局部放射治療用可降解粒子源，其特征在于由密封殼與內(nèi)核所構(gòu)成，所述的密封殼由高分子可降解材料制成，所述的內(nèi)核由高分子可降解材料及醫(yī)用同位素制成，內(nèi)核置于密封殼內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的局部放射治療用可降解粒子源，其特征在于所述的密封殼為棒狀。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的局部放射治療用可降解粒子源，其特征在于所述密封殼的外徑為0.5-1.5mm，長度為3.5-6mm。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種局部放射治療用可降解粒子源，由密封殼與內(nèi)核所構(gòu)成，密封殼為棒狀并由可降解高分子材料制成，內(nèi)核由可降解高分子材料及醫(yī)用同位素制成，內(nèi)核置于密封殼內(nèi)，由于本發(fā)明的外殼采用棒狀防水密封結(jié)構(gòu)，其植入人體容易、密封性能好，在進行局部放射治療時無泄漏現(xiàn)象發(fā)生。又由于密封殼與內(nèi)核均由可降解的高分子材料制成，其內(nèi)核中的同位素完成放射治療時，可同時完成粒子源的降解，并通過代謝作用而最終排出體外。
文檔編號A61K51/12GK1672734SQ20041003760
公開日2005年9月28日 申請日期2004年4月26日 優(yōu)先權(quán)日2004年3月23日
發(fā)明者馮梅, 王管奇, 陳慧軍, 姜新杰, 馮勝利 申請人:馮梅, 陳慧軍, 王管奇, 姜新杰, 馮勝利