專利名稱：一種鞋材表面低溫等離子體放電處理設(shè)備及其處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及鞋材表面處理領(lǐng)域，具體的涉及一種鞋材處理設(shè)備，更具體的說(shuō)，涉及一種鞋材表面低溫等離子體放電處理設(shè)備。
背景技術(shù)：
我國(guó)是各種類型的鞋的生產(chǎn)和消費(fèi)大國(guó)，據(jù)不完全統(tǒng)計(jì)鞋產(chǎn)量約110億雙，占世界產(chǎn)量的60%以上。目前，制鞋過(guò)程中為了保證膠粘的強(qiáng)度，普遍使用各種處理水對(duì)鞋材(包括鞋幫和鞋底)做粘接前預(yù)處理。處理水中含有大量的甲苯、二甲苯、酮類等有機(jī)揮發(fā)溶劑和其他化學(xué)物質(zhì)，具有非常大的有害性，如污染空氣、大量消耗石油能源、降低成鞋的品質(zhì)、容易出現(xiàn)廢品等。

發(fā)明內(nèi)容
為克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足，本發(fā)明的目的在于提供一種鞋材表面低溫等離子體放電處理設(shè)備及其處理方法，代替目前普遍采用的處理水處理的方法。該設(shè)備及其處理方法保證了鞋材表面粘接性強(qiáng)的同時(shí)，減少了污染，降低了對(duì)工作人員的傷害，同時(shí)能大幅降低生產(chǎn)成本。為實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)目的，達(dá)到上述技術(shù)效果，本發(fā)明通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)
一種鞋材表面低溫等離子體放電處理設(shè)備，包括機(jī)架，所述機(jī)架上設(shè)置有傳送機(jī)構(gòu)、力口
熱系統(tǒng)、等離子體處理系統(tǒng)和臭氧排放系統(tǒng)；所述加熱系統(tǒng)包括設(shè)置于所述傳送機(jī)構(gòu)上方的加熱器、溫度傳感器及設(shè)置于所述機(jī)架上的溫控儀；所述等離子體處理系統(tǒng)包括設(shè)置于所述傳送機(jī)構(gòu)上方的放電電極及設(shè)置于所述機(jī)架一側(cè)的等離子體電源和控制器；所述臭氧排放系統(tǒng)包括設(shè)置于所述放電電極上方的集氣罩、連接于所述集氣罩的排風(fēng)管道及連接于所述排風(fēng)管道的風(fēng)機(jī)。優(yōu)選的，所述傳送機(jī)構(gòu)由往復(fù)運(yùn)動(dòng)的推板組成，推板可手動(dòng)或機(jī)動(dòng)。優(yōu)選的,所述傳送機(jī)構(gòu)由傳送帶及連接于該傳送帶的鏈輪,所述鏈輪通過(guò)鏈條和電機(jī)相連。進(jìn)一步的，所述放電電極為線狀電極。優(yōu)選的，所述放電電極與待處理的鞋材表面的距離可以調(diào)節(jié)，其調(diào)節(jié)范圍為
O.5-100mm。優(yōu)選的，所述集氣罩內(nèi)設(shè)有兩根相互平行的壓輥，所述壓輥軸線設(shè)置高度低于所述線狀電極。一種鞋材表面低溫等離子體放電處理方法，包括以下步驟
步驟I)將鞋材放置在傳送機(jī)構(gòu)上；
步驟2)傳送機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng),帶動(dòng)鞋材運(yùn)動(dòng)；
步驟3)鞋材經(jīng)過(guò)加熱區(qū)，進(jìn)行加熱；
步驟4)鞋材經(jīng)過(guò)等離子體區(qū)，進(jìn)行等離子體表面處理；步驟5)取下已經(jīng)處理好的 鞋材。進(jìn)一步的，所述步驟3中鞋材的加熱溫度為25-150°C。進(jìn)一步的，所述步驟4中等離子體處理的電源頻率為20_200Khz,電極電壓為8000-50000V。本發(fā)明的有益效果是
本發(fā)明的設(shè)備及其處理方法采用節(jié)能和環(huán)保的低溫等離子體處理技術(shù)處理鞋材表面，利用低溫等離子體處理技術(shù)來(lái)進(jìn)行鞋材表面的處理，不僅可以解決目前使用處理水存在的污染、耗能等缺點(diǎn)，而且由于低溫等離子體表面處理技術(shù)運(yùn)行成本低，還可以為用戶節(jié)約成本，同時(shí)還可以減少成鞋的有害殘留物含量，提高成鞋品質(zhì)；改善制鞋生產(chǎn)線的生產(chǎn)環(huán)境，增進(jìn)職工的身體健康。上述說(shuō)明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段，并可依照說(shuō)明書的內(nèi)容予以實(shí)施，以下以本發(fā)明的較佳實(shí)施例并配合附圖詳細(xì)說(shuō)明如后。本發(fā)明的具體實(shí)施方式
由以下實(shí)施例及其附圖詳細(xì)給出。


此處所說(shuō)明的附圖用來(lái)提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，構(gòu)成本申請(qǐng)的一部分，本發(fā)明的示意性實(shí)施例及其說(shuō)明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中
圖I本發(fā)明實(shí)施例I的鞋材表面低溫等離子體放電處理設(shè)備結(jié)構(gòu)示意 圖2本發(fā)明實(shí)施例2的鞋材表面低溫等離子體放電處理設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中標(biāo)號(hào)說(shuō)明:101、傳送帶，102、鏈輪，103、鏈條，104、電機(jī)，106、推板，201、加熱器，202、溫度傳感器，203、溫控儀，301、放電電極、302、等離子體電源，303、控制器，401、集氣罩、402、排風(fēng)管道,403、風(fēng)機(jī),5、鞋材。
具體實(shí)施例方式下面將參考附圖并結(jié)合實(shí)施例，來(lái)詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明。參照?qǐng)DI所示，一種鞋材表面低溫等離子體放電處理設(shè)備，包括機(jī)架，所述機(jī)架上設(shè)置有傳送機(jī)構(gòu)、加熱系統(tǒng)、等離子體處理系統(tǒng)和臭氧排放系統(tǒng)；所述加熱系統(tǒng)包括設(shè)置于所述傳送機(jī)構(gòu)上方的加熱器201、溫度傳感器202及設(shè)置于所述機(jī)架上的溫控儀203;所述等離子體處理系統(tǒng)包括設(shè)置于所述傳送機(jī)構(gòu)上方的放電電極301及設(shè)置于所述機(jī)架一側(cè)的等離子體電源302和控制器303 ;所述臭氧排放系統(tǒng)4包括設(shè)置于所述放電電極301上方的集氣罩401、連接于所述集氣罩401的排風(fēng)管道402及連接于所述排風(fēng)管道402的風(fēng)機(jī)403。優(yōu)選的，所述傳送機(jī)構(gòu)由往復(fù)運(yùn)動(dòng)的推板106組成，推板可手動(dòng)或機(jī)動(dòng)。優(yōu)選的，所述傳送機(jī)構(gòu)由傳送帶101及連接于該傳送帶101的鏈輪102，所述鏈輪102通過(guò)鏈條和電機(jī)103相連。進(jìn)一步的，所述放電電極301為線狀電極。優(yōu)選的，所述放電電極301與待處理的鞋材表面的距離可以調(diào)節(jié)，其調(diào)節(jié)范圍為
O.5-100mm。優(yōu)選的，所述集氣罩內(nèi)設(shè)有兩根相互平行的壓輥，所述壓輥軸線設(shè)置高度低于所述線狀電極301。一種鞋材表面低溫等離子體放電處理方法，包括以下步驟
步驟I)將鞋材放置在傳送機(jī)構(gòu)上；
步驟2)傳送機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng),帶動(dòng)鞋材運(yùn)動(dòng)；
步驟3)鞋材經(jīng)過(guò)加熱區(qū)，進(jìn)行加熱；
步驟4)鞋材經(jīng)過(guò)等離子體區(qū)，進(jìn)行等離子體表面處理； 步驟5)取下已經(jīng)處理好的鞋材。進(jìn)一步的，所述步驟3中鞋材的加熱溫度為25-150°C。進(jìn)一步的，所述步驟4中等離子體處理的電源頻率為20_200Khz,電極電壓為8000-50000V。鞋材5置于所述傳送帶101上，隨傳送帶101的運(yùn)動(dòng)經(jīng)過(guò)加熱系統(tǒng)和等離子體處理系統(tǒng)，得到加熱和等離子體表面處理，處理過(guò)程中產(chǎn)生的臭氧經(jīng)所述臭氧排放系統(tǒng)排到室外。以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本發(fā)明，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種鞋材表面低溫等離子體放電處理設(shè)備，其特征在于包括機(jī)架，所述機(jī)架上設(shè)置有傳送機(jī)構(gòu)、加熱系統(tǒng)、等離子體處理系統(tǒng)和臭氧排放系統(tǒng)；所述加熱系統(tǒng)包括設(shè)置于所述傳送機(jī)構(gòu)上方的加熱器(201)、溫度傳感器(202)及設(shè)置于所述機(jī)架上的溫控儀(203);所述等離子體處理系統(tǒng)包括設(shè)置于所述傳送機(jī)構(gòu)上方的放電電極(301)及設(shè)置于所述機(jī)架ー側(cè)的等離子體電源(302)和控制器(303);所述臭氧排放系統(tǒng)(4)包括設(shè)置于所述放電電極(301)上方的集氣罩(401)、連接于所述集氣罩(401)的排風(fēng)管道(402)及連接于所述排風(fēng)管道(402)的風(fēng)機(jī)(403)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的鞋材表面低溫等離子體放電處理設(shè)備，其特征在于所述傳送機(jī)構(gòu)由往復(fù)運(yùn)動(dòng)的推板(106)組成，推板可手動(dòng)或機(jī)動(dòng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的鞋材表面低溫等離子體放電處理設(shè)備，其特征在于所述傳送機(jī)構(gòu)由傳送帶(101)及連接于該傳送帶(101)的鏈 輪(102)，所述鏈輪(102)通過(guò)鏈條和電機(jī)(103)相連。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的鞋材表面低溫等離子體放電處理設(shè)備，其特征在于所述放電電極(301)為線狀電極。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的鞋材表面低溫等離子體放電處理設(shè)備，其特征在于所述放電電極(301)與待處理的鞋材表面的距離可以調(diào)節(jié)，其調(diào)節(jié)范圍為O. 5-100mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的鞋材表面低溫等離子體放電處理設(shè)備，其特征在于所述集氣罩內(nèi)設(shè)有兩根相互平行的壓輥，所述壓輥軸線設(shè)置高度低于所述線狀電極(301)。
7.一種鞋材表面低溫等離子體放電處理方法，其特征在于，包括以下步驟 步驟I)將鞋材放置在傳送機(jī)構(gòu)上； 步驟2)傳送機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng),帶動(dòng)鞋材運(yùn)動(dòng)； 步驟3)鞋材經(jīng)過(guò)加熱區(qū)，進(jìn)行加熱； 步驟4)鞋材經(jīng)過(guò)等離子體區(qū)，進(jìn)行等離子體表面處理； 步驟5)取下已經(jīng)處理好的鞋材。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的鞋材表面低溫等離子體放電處理方法，其特征在于所述步驟3中鞋材的加熱溫度為25-150°C。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的鞋材表面低溫等離子體放電處理方法，其特征在于所述步驟4中等離子體處理的電源頻率為20-200Khz，電極電壓為8000-50000V。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種鞋材表面低溫等離子體放電處理設(shè)備，包括機(jī)架，所述機(jī)架上設(shè)置有傳送機(jī)構(gòu)、加熱系統(tǒng)、等離子體處理系統(tǒng)和臭氧排放系統(tǒng)。本發(fā)明的設(shè)備及其處理方法采用節(jié)能和環(huán)保的低溫等離子體處理技術(shù)處理鞋材表面，利用低溫等離子體處理技術(shù)來(lái)進(jìn)行鞋材表面的處理，不僅可以解決目前使用處理水存在的污染、耗能等缺點(diǎn)，而且由于低溫等離子體表面處理技術(shù)運(yùn)行成本低，還可以為用戶節(jié)約成本，同時(shí)還可以減少成鞋的有害殘留物含量，提高成鞋品質(zhì)；改善制鞋生產(chǎn)線的生產(chǎn)環(huán)境，增進(jìn)職工的身體健康。
文檔編號(hào)A43D8/00GK102631052SQ201210094649
公開日2012年8月15日 申請(qǐng)日期2012年3月31日 優(yōu)先權(quán)日2012年3月31日
發(fā)明者王紅衛(wèi), 蔡剛強(qiáng) 申請(qǐng)人:蘇州衛(wèi)鵬機(jī)電科技有限公司