軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置及方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及軸承滾柱制造領(lǐng)域，目的是提供一種軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置及方法。一種軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置，包括真空室，位于真空室中的工件支承轉(zhuǎn)臺，交替置于工件支承轉(zhuǎn)臺外周的若干對鉻靶和對數(shù)與鉻靶的對數(shù)相同的若干對碳靶，偏壓電源，加熱器，與真空室連通的真空裝置，工作氣體瓶和加熱器。該軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置提供一種滾柱高速旋轉(zhuǎn)時的摩擦系數(shù)和磨損率較小，振動精度和耐磨性較高，從而提高軸承的性能穩(wěn)定性。軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍方法使磁控濺射的滾柱滿足滾柱高速旋轉(zhuǎn)時的摩擦系數(shù)和磨損率較小，振動精度和耐磨性較高，從而提高軸承的性能穩(wěn)定性的要求。
【專利說明】軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置及方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及軸承滾柱制造領(lǐng)域，尤其是一種軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置及方法。

【背景技術(shù)】
[0002]軸承是廣泛應(yīng)用的載荷支撐件和運動連接件，常應(yīng)用于高轉(zhuǎn)動速度、長疲勞壽命和高運行穩(wěn)定性等苛刻工況條件，其性能可靠性直接影響主機的性能；影響滾動軸承性能可靠性的原因比較復(fù)雜，如材料、結(jié)構(gòu)參數(shù)、零件制造精度、潤滑狀況、安裝精度等都會對性能可靠性產(chǎn)生影響；用傳統(tǒng)方法處理的滾柱(旋轉(zhuǎn)體)，存在高速旋轉(zhuǎn)時的摩擦系數(shù)和磨損率較大，振動精度和耐磨性較差從而影響性能可靠性的不足，減小滾柱高速旋轉(zhuǎn)時的摩擦系數(shù)和磨損率，提高滾柱的振動精度和耐磨性，是提高軸承的性能穩(wěn)定性重要途徑并可以延長軸承使用壽命；非平衡式磁控濺射離子鍍作為一種新型的低溫、高效表面改性技術(shù)，其鍍膜具有組織均勻致密、附著性好，且易于實現(xiàn)多元梯度復(fù)合鍍層的設(shè)計與沉積，工藝過程穩(wěn)定等特點，非常適合用于軸承零件滾柱的最終處理工序；因此，設(shè)計一種滾柱高速旋轉(zhuǎn)時的摩擦系數(shù)和磨損率較小，振動精度和耐磨性較高，從而提高軸承的性能穩(wěn)定性的軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置及方法，成為亟待解決的問題。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的是為了克服目前用傳統(tǒng)方法處理的滾柱(旋轉(zhuǎn)體)，存在高速旋轉(zhuǎn)時的摩擦系數(shù)和磨損率較大，振動精度和耐磨性較差從而影響性能可靠性的不足，提供一種滾柱高速旋轉(zhuǎn)時的摩擦系數(shù)和磨損率較小，振動精度和耐磨性較高，從而提高軸承的性能穩(wěn)定性的軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置及方法。
[0004]本發(fā)明的具體技術(shù)方案是:
一種軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置，包括真空室，位于真空室中的工件支承轉(zhuǎn)臺，交替置于工件支承轉(zhuǎn)臺外周的若干對鉻靶和對數(shù)與鉻靶的對數(shù)相同的若干對碳靶，偏壓電源，加熱器，與真空室連通的真空裝置，工作氣體瓶和加熱器。碳是唯一有低摩擦系數(shù)、高硬度與高耐磨性的硬質(zhì)鍍層材料，并具有高化學(xué)穩(wěn)定性和抗腐蝕性等特點；單一的碳鍍層存在著很大的內(nèi)應(yīng)力，降低了鍍層的結(jié)合強度，導(dǎo)致鍍層在基體表面成膜困難，且在使用過程中易發(fā)生過早失效等缺點，限制了其在產(chǎn)品中的應(yīng)用；通過摻入一定量附加元素到碳鍍層，可以極大地改善碳鍍層的附著性和脆性，進而提高碳鍍層的使用性能，擴大其應(yīng)用范圍；鉻與鋼基體有很好的親和力，在碳鍍層中摻鉻，可以提高鍍層與基體結(jié)合強度和鍍層的韌性；同時，鉻基鍍層的耐磨、耐蝕及耐高溫氧化性能好，有較高的硬度和承載能力等。滾柱放在工件支承轉(zhuǎn)臺上轉(zhuǎn)動，若干對鉻靶若干對碳靶交替置于工件支承轉(zhuǎn)臺外周，可以使磁控濺射后的鍍膜中鉻和碳分布均勻，組織均勻致密。該軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置提供一種滾柱高速旋轉(zhuǎn)時的摩擦系數(shù)和磨損率較小，振動精度和耐磨性較高，從而提高軸承的性能穩(wěn)定性。
[0005]作為優(yōu)選，所述的工件支承轉(zhuǎn)臺包括支承座，與支承座上端樞接的主動齒輪，若干個沿圓周均布并與主動齒輪嚙合的從動齒輪，個數(shù)與從動齒輪的個數(shù)相同并各與一個從動齒輪的上端連接的若干個支承柱，與支承座連接且輸出軸與主動齒輪傳動連接的轉(zhuǎn)動支承柱的電機；若干個支承柱的下端分別與支承座上端樞接。滾柱放在工件支承轉(zhuǎn)臺上可以自轉(zhuǎn)，提高磁控濺射效果，提高鍍層質(zhì)量。
[0006]作為優(yōu)選，所述的工件支承轉(zhuǎn)臺還包括上端與支承座下端樞接的底座，與底座連接且輸出軸與支承座傳動連接的轉(zhuǎn)動支承座的電機。滾柱放在工件支承轉(zhuǎn)臺上可以自轉(zhuǎn)的同時還可以公轉(zhuǎn)，提高磁控濺射效果，提高鍍層質(zhì)量。
[0007]所述的工件支承轉(zhuǎn)臺設(shè)有防護罩；防護罩包括高度與支承柱上端齊平的側(cè)圍，分別與側(cè)圍下端和底座下端連接的底圈。防護罩可以提高工件支承轉(zhuǎn)臺其他零件的使用壽命O
[0008]作為優(yōu)選，所述的偏壓電源的正極與真空室殼體連接；偏壓電源的負極與支承座連接。提高磁控濺射效果，提高鍍層質(zhì)量。
[0009]作為優(yōu)選，所述的每對鉻靶的兩個鉻靶的磁場結(jié)構(gòu)相反布置，形成閉合場；每對碳靶的兩個碳靶的磁場結(jié)構(gòu)相反布置，形成閉合場。提高磁控濺射效果，提高鍍層質(zhì)量。
[0010]作為優(yōu)選，所述的每對鉻祀設(shè)有一個供電電源；每對鉻祀的兩個鉻祀各與供電電源的一極連接；每對碳祀設(shè)有一個供電電源；每對碳祀的兩個碳祀各與供電電源的一極連接。提高磁控濺射效果，提高鍍層質(zhì)量。
[0011]作為優(yōu)選，所述的每對鉻靶的兩個鉻靶的相對側(cè)的距離為120 mm至140mm ;每對碳靶的兩個碳靶的相對側(cè)的距離為120 mm至140mm。提高磁控濺射效果，提高鍍層質(zhì)量。
[0012]一種軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍方法，其特征是:(1)將待鍍滾柱放在丙酮和乙醇中各超聲波清洗10分鐘至15分鐘；(2)把滾柱放在軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置的工件支承轉(zhuǎn)臺的支承柱上，每個支承柱上放一個，開啟加熱器加熱到1500C -2000C ;所述的軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置，包括真空室，位于真空室中的工件支承轉(zhuǎn)臺，交替置于工件支承轉(zhuǎn)臺外周的若干對鉻靶和對數(shù)與鉻靶的對數(shù)相同的碳靶，偏壓電源，加熱器，與真空室連通的真空裝置和工作氣體瓶；所述的工件支承轉(zhuǎn)臺包括支承座，與支承座上端樞接的主動齒輪，若干個沿圓周均布并與主動齒輪嚙合的從動齒輪，個數(shù)與從動齒輪的個數(shù)相同并各與一個從動齒輪的上端連接的若干個支承柱，與支承座連接且輸出軸與主動齒輪傳動連接的轉(zhuǎn)動支承柱的電機，上端與支承座下端樞接的底座，與底座連接且輸出軸與支承座傳動連接的轉(zhuǎn)動支承座的電機；若干個支承柱的下端分別與支承座上端樞接；(3)開啟真空裝置抽取真空使真空室達到沉積鍍層前本底真空度小于-4.0X 10-3 P a的要求；(4)開啟工作氣體瓶向真空室通入純度為99.99%的工作氣體氬氣，在真空室氣壓升至-(1.0-1.2) X 10-3Pa時，施加400V的負偏壓對滾柱進行等離子體清洗10分鐘至15分鐘，以獲得清潔的滾柱表面，并激化滾柱表面活性，提高鍍層與滾柱的結(jié)合強度；(5)沉積鍍層時，對滾柱施加75V的負偏壓，開啟轉(zhuǎn)動支承座的電機帶動支承座轉(zhuǎn)動，開啟轉(zhuǎn)動支承柱的電機，經(jīng)主動齒輪、從動齒輪和支承柱帶動放在支承柱上的滾柱轉(zhuǎn)動，使?jié)L柱在自轉(zhuǎn)的同時隨支承座公轉(zhuǎn)，從而使靶材離子均勻地沉積于滾柱表面，確保沉積于滾柱的鍍層成分和性能均勻一致，保證鍍層質(zhì)量的穩(wěn)定性；(6)所述的鍍層為由鉻底層、鉻碳過渡層和碳鉻工作層組成的厚度為1.0ym至1.4μπι的復(fù)層鍍層，在濺射沉積過程中，鍍層的工藝參數(shù)逐步線性緩慢改變，使鍍層結(jié)構(gòu)逐漸平穩(wěn)過渡。
[0013]碳是唯一有低摩擦系數(shù)、高硬度與高耐磨性的硬質(zhì)鍍層材料，并具有高化學(xué)穩(wěn)定性和抗腐蝕性等特點；單一的碳鍍層存在著很大的內(nèi)應(yīng)力，降低了鍍層的結(jié)合強度，導(dǎo)致鍍層在基體表面成膜困難，且在使用過程中易發(fā)生過早失效等缺點，限制了其在產(chǎn)品中的應(yīng)用；通過摻入一定量附加元素到碳鍍層，可以極大地改善碳鍍層的附著性和脆性，進而提高碳鍍層的使用性能，擴大其應(yīng)用范圍；鉻與鋼基體有很好的親和力，在碳鍍層中摻鉻，可以提高鍍層與基體結(jié)合強度和鍍層的韌性；同時，鉻基鍍層的耐磨、耐蝕及耐高溫氧化性能好，有較高的硬度和承載能力等。軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍方法使磁控濺射的滾柱滿足滾柱高速旋轉(zhuǎn)時的摩擦系數(shù)和磨損率較小，振動精度和耐磨性較高，從而提高軸承的性能穩(wěn)定性的要求。
[0014]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是:該軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置提供一種滾柱高速旋轉(zhuǎn)時的摩擦系數(shù)和磨損率較小，振動精度和耐磨性較高，從而提高軸承的性能穩(wěn)定性。滾柱放在工件支承轉(zhuǎn)臺上可以自轉(zhuǎn)的同時還可以公轉(zhuǎn)，提高磁控濺射效果，提高鍍層質(zhì)量。防護罩可以提高工件支承轉(zhuǎn)臺其他零件的使用壽命。所述的偏壓電源的正極與真空室殼體連接；偏壓電源的負極與支承座連接，每對鉻靶的兩個鉻靶的磁場結(jié)構(gòu)相反布置，形成閉合場，每對碳靶的兩個碳靶的磁場結(jié)構(gòu)相反布置，形成閉合場，每對碳靶設(shè)有一個供電電源，兩個鉻祀的相對側(cè)的距離為120 mm至140mm,每對碳祀的兩個碳革巴的相對側(cè)的距離為120 mm至140mm，可以提高磁控濺射效果，提高鍍層質(zhì)量。軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍方法使磁控濺射的滾柱滿足滾柱高速旋轉(zhuǎn)時的摩擦系數(shù)和磨損率較小，振動精度和耐磨性較高，從而提高軸承的性能穩(wěn)定性的要求。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0015]圖1是本發(fā)明的一種結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2是圖1中工件支承轉(zhuǎn)臺的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]圖中:真空室-1、鉻靶-2、碳靶-3、工件支承轉(zhuǎn)臺-4、支承座-41、主動齒輪-42、從動齒輪-43、支承柱-44、轉(zhuǎn)動支承柱的電機-45、底座-46、轉(zhuǎn)動支承座的電機-47、側(cè)圍-48、底圈-49、偏壓電源-5、真空裝置-6、工作氣體瓶-7、加熱器-8。

【具體實施方式】
[0017]下面結(jié)合附圖所示對本發(fā)明進行進一步描述。
[0018]如附圖1、附圖2所示:一種軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置，包括真空室1，位于真空室I中的工件支承轉(zhuǎn)臺4，交替置于工件支承轉(zhuǎn)臺4外周的四對鉻靶2和對數(shù)與鉻靶2的對數(shù)相同的四對碳靶3，偏壓電源5，與真空室I連通的真空裝置6，工作氣體瓶7和加熱器8。鉻靶2和碳靶3的純度均為99.99%。加熱器8有位于真空室I底部的兩個；力口熱器8為電加熱器。
[0019]所述的工件支承轉(zhuǎn)臺4包括支承座41，與支承座41上端通過平面軸承樞接的主動齒輪42，八個沿圓周均布并與主動齒輪42嚙合的從動齒輪43，個數(shù)與從動齒輪43的個數(shù)相同并各與一個從動齒輪43的上端連接的八個支承柱44，與支承座41螺釘連接且輸出軸與主動齒輪42鍵連接的轉(zhuǎn)動支承柱的電機45，上端與支承座41下端通過平面軸承樞接的底座46，與底座46螺釘連接且輸出軸與支承座41鍵連接的轉(zhuǎn)動支承座的電機47 ;八個支承柱44的下端分別與支承座41上端通過軸承樞接。
[0020]所述的工件支承轉(zhuǎn)臺4設(shè)有防護罩；防護罩包括高度與支承柱44上端齊平的側(cè)圍48，分別與側(cè)圍48下端和底座46下端螺釘連接的底圈49。
[0021]所述的偏壓電源5的正極與真空室I殼體連接；偏壓電源5的負極與支承座41連接。
[0022]所述的每對鉻靶2的兩個鉻靶2的磁場結(jié)構(gòu)相反布置，形成閉合場；每對碳靶3的兩個碳靶3的磁場結(jié)構(gòu)相反布置，形成閉合場。
[0023]所述的每對鉻靶2設(shè)有一個供電電源；每對鉻靶2的兩個鉻靶2各與供電電源的一極連接；每對碳祀3設(shè)有一個供電電源；每對碳祀3的兩個碳祀3各與供電電源的一極連接。
[0024]所述的每對鉻靶2的兩個鉻靶2的相對側(cè)的距離為130mm ;每對碳靶3的兩個碳靶3的相對側(cè)的距離為130mm ；
一種軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍方法，(I)將待鍍滾柱放在丙酮和乙醇中各超聲波清洗10分鐘至15分鐘；(2)把滾柱放在軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置的工件支承轉(zhuǎn)臺4的支承柱44上，每個支承柱44上放一個，開啟加熱器8加熱到180°C ;所述的軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置，包括真空室1，位于真空室I中的工件支承轉(zhuǎn)臺4，交替置于工件支承轉(zhuǎn)臺4外周的若干對鉻靶2和對數(shù)與鉻靶2的對數(shù)相同的碳靶3，偏壓電源5，加熱器8，與真空室I連通的真空裝置6和工作氣體瓶7 ;所述的工件支承轉(zhuǎn)臺4包括支承座41，與支承座41上端通過平面軸承樞接的主動齒輪42，八個沿圓周均布并與主動齒輪42嚙合的從動齒輪43，個數(shù)與從動齒輪43的個數(shù)相同并各與一個從動齒輪43的上端連接的八個支承柱44，與支承座41螺釘連接且輸出軸與主動齒輪42鍵連接的轉(zhuǎn)動支承柱的電機45，上端與支承座41下端通過平面軸承樞接的底座46，與底座46螺釘連接且輸出軸與支承座41鍵連接的轉(zhuǎn)動支承座的電機47 ;八個支承柱44的下端分別與支承座41上端通過軸承樞接；(3)開啟真空裝置6抽取真空使真空室I達到沉積鍍層前本底真空度小于-4.0X 10-3 P a的要求；(4)開啟工作氣體瓶7向真空室I通入純度為99.99%的工作氣體氬氣，在真空室I氣壓升至- (1.0-1.2) X 10-3Pa時，施加400V的負偏壓對滾柱進行等離子體清洗10分鐘至15分鐘，以獲得清潔的滾柱表面，并激化滾柱表面活性，提高鍍層與滾柱的結(jié)合強度；(5)沉積鍍層時，對滾柱施加75V的負偏壓，開啟轉(zhuǎn)動支承座的電機47帶動支承座41轉(zhuǎn)動，開啟轉(zhuǎn)動支承柱的電機45，經(jīng)主動齒輪42、從動齒輪43和支承柱44帶動放在支承柱44上的滾柱轉(zhuǎn)動，使?jié)L柱在自轉(zhuǎn)的同時隨支承座41公轉(zhuǎn)，從而使靶材離子均勻地沉積于滾柱表面，確保沉積于滾柱的鍍層成分和性能均勻一致，保證鍍層質(zhì)量的穩(wěn)定性；(6)所述的鍍層為由鉻底層、鉻碳過渡層和碳鉻工作層組成的厚度為1.0 μ m至1.4 μ m的復(fù)層鍍層，在濺射沉積過程中，鍍層的工藝參數(shù)逐步線性緩慢改變，使鍍層結(jié)構(gòu)逐漸平穩(wěn)過渡。
[0025]本發(fā)明的有益效果是:該軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置提供一種滾柱高速旋轉(zhuǎn)時的摩擦系數(shù)和磨損率較小，振動精度和耐磨性較高，從而提高軸承的性能穩(wěn)定性。滾柱放在工件支承轉(zhuǎn)臺上可以自轉(zhuǎn)的同時還可以公轉(zhuǎn)，提高磁控濺射效果，提高鍍層質(zhì)量。防護罩可以提高工件支承轉(zhuǎn)臺其他零件的使用壽命。所述的偏壓電源的正極與真空室殼體連接；偏壓電源的負極與支承座連接，每對鉻靶的兩個鉻靶的磁場結(jié)構(gòu)相反布置，形成閉合場，每對碳祀的兩個碳祀的磁場結(jié)構(gòu)相反布置，形成閉合場，每對碳祀設(shè)有一個供電電源，兩個鉻靶的相對側(cè)的距離為130mm，每對碳靶的兩個碳靶的相對側(cè)的距離為130mm，可以提高磁控濺射效果，提高鍍層質(zhì)量。軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍方法使磁控濺射的滾柱滿足滾柱高速旋轉(zhuǎn)時的摩擦系數(shù)和磨損率較小，振動精度和耐磨性較高，從而提高軸承的性能穩(wěn)定性的要求。
[0026]本發(fā)明可改變?yōu)槎喾N方式對本領(lǐng)域的技術(shù)人員是顯而易見的，這樣的改變不認為脫離本發(fā)明的范圍。所有這樣的對所述領(lǐng)域的技術(shù)人員顯而易見的修改，將包括在本權(quán)利要求的范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置，其特征是:包括真空室，位于真空室中的工件支承轉(zhuǎn)臺，交替置于工件支承轉(zhuǎn)臺外周的若干對鉻靶和對數(shù)與鉻靶的對數(shù)相同的若干對碳靶，偏壓電源，加熱器，與真空室連通的真空裝置，工作氣體瓶和加熱器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置，其特征是:所述的工件支承轉(zhuǎn)臺包括支承座，與支承座上端樞接的主動齒輪，若干個沿圓周均布并與主動齒輪嚙合的從動齒輪，個數(shù)與從動齒輪的個數(shù)相同并各與一個從動齒輪的上端連接的若干個支承柱，與支承座連接且輸出軸與主動齒輪傳動連接的轉(zhuǎn)動支承柱的電機；若干個支承柱的下端分別與支承座上端樞接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置，其特征是:所述的工件支承轉(zhuǎn)臺還包括上端與支承座下端樞接的底座，與底座連接且輸出軸與支承座傳動連接的轉(zhuǎn)動支承座的電機。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置，其特征是:所述的工件支承轉(zhuǎn)臺設(shè)有防護罩；防護罩包括高度與支承柱上端齊平的側(cè)圍，分別與側(cè)圍下端和底座下端連接的底圈。
5.根據(jù)權(quán)利要求2或3或4所述的軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置，其特征是:所述的偏壓電源的正極與真空室殼體連接；偏壓電源的負極與支承座連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3或4所述的軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置，其特征是:所述的每對鉻靶的兩個鉻靶的磁場結(jié)構(gòu)相反布置，形成閉合場；每對碳靶的兩個碳靶的磁場結(jié)構(gòu)相反布置，形成閉合場。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置，其特征是:所述的每對鉻祀設(shè)有一個供電電源；每對鉻祀的兩個鉻祀各與供電電源的一極連接；每對碳祀設(shè)有一個供電電源；每對碳祀的兩個碳祀各與供電電源的一極連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3或4所述的軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置，其特征是:所述的每對鉻靶的兩個鉻靶的相對側(cè)的距離為120皿至140皿；每對碳靶的兩個碳靶的相對側(cè)的距離為120 111111至140111111。
9.一種軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍方法，其特征是:(1)將待鍍滾柱放在丙酮和乙醇中各超聲波清洗10分鐘至15分鐘:(2)把滾柱放在軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置的工件支承轉(zhuǎn)臺的支承柱上，每個支承柱上放一個，開啟加熱器加熱到1501 -20000 ；所述的軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置，包括真空室，位于真空室中的工件支承轉(zhuǎn)臺，交替置于工件支承轉(zhuǎn)臺外周的若干對鉻靶和對數(shù)與鉻靶的對數(shù)相同的碳靶，偏壓電源，力口熱器，與真空室連通的真空裝置和工作氣體瓶；所述的工件支承轉(zhuǎn)臺包括支承座，與支承座上端樞接的主動齒輪，若干個沿圓周均布并與主動齒輪嚙合的從動齒輪，個數(shù)與從動齒輪的個數(shù)相同并各與一個從動齒輪的上端連接的若干個支承柱，與支承座連接且輸出軸與主動齒輪傳動連接的轉(zhuǎn)動支承柱的電機，上端與支承座下端樞接的底座，與底座連接且輸出軸與支承座傳動連接的轉(zhuǎn)動支承座的電機；若干個支承柱的下端分別與支承座上端樞接；(3)開啟真空裝置抽取真空使真空室達到沉積鍍層前本底真空度小于-4.0X10-3 ？ 3的要求；(4)開啟工作氣體瓶向真空室通入純度為99.99%的工作氣體氬氣，在真空室氣壓升至-(1.0-1.2) X 10-3？^時，施加4007的負偏壓對滾柱進行等離子體清洗10分鐘至15分鐘，以獲得清潔的滾柱表面，并激化滾柱表面活性，提高鍍層與滾柱的結(jié)合強度；(5)沉積鍍層時，對滾柱施加75V的負偏壓，開啟轉(zhuǎn)動支承座的電機帶動支承座轉(zhuǎn)動，開啟轉(zhuǎn)動支承柱的電機，經(jīng)主動齒輪、從動齒輪和支承柱帶動放在支承柱上的滾柱轉(zhuǎn)動，使?jié)L柱在自轉(zhuǎn)的同時隨支承座公轉(zhuǎn)，從而使靶材離子均勻地沉積于滾柱表面，確保沉積于滾柱的鍍層成分和性能均勻一致，保證鍍層質(zhì)量的穩(wěn)定性；(6)所述的鍍層為由鉻底層、鉻碳過渡層和碳鉻工作層組成的厚度為Ι.Ομπι至1.4μπι的復(fù)層鍍層，在濺射沉積過程中，鍍層的工藝參數(shù)逐步線性緩慢改變，使鍍層結(jié)構(gòu)逐漸平穩(wěn)過渡。
【文檔編號】C23C14/06GK104328380SQ201410372795
【公開日】2015年2月4日 申請日期:2014年7月31日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月31日
【發(fā)明者】劉長明, 陳玲芳 申請人:寧夏天馬滾動體制造有限公司